説明

富士通セミコンダクター株式会社により出願された特許

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【課題】高速マウント処理を実行する記録媒体、ドライブ装置を提供すること。
【解決手段】記録媒体100のデータ構造に応じた管理情報(ドライブ情報)の中から、マウント処理の際に必要とする情報をマウント情報として抽出しておくことができる。さらに、抽出したマウント情報を、専用のマウント情報退避領域120に格納することによって、他の情報から退避させた状態で保持することができる。また、マウント処理を実行する際には、マウント情報を優先的に読み込ませるため、多大な処理時間を要する検索処理を発生させることなく、高速なマウント処理を実現することができる。 (もっと読む)


【課題】ADCのカウント用クロック信号の周波数を低下させたADC回路を用いた固体撮像素子を提供する。
【解決手段】固体撮像素子は、ピクセルアレイと、ピクセルアレイから読み出された電圧信号をAD変換するADC回路とを含み、ADC回路は、電圧信号の電圧値に応じた長さの期間だけクロック信号をカウントするカウンタ回路を含み、カウンタ回路の出力カウント値の最下位ビットは、クロック信号の周波数で動作する2つの1ビットカウンタの出力の排他的論理和により求められることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】メモリアクセス効率を高めたグラフィックス描画装置を提供する。
【解決手段】グラフィックス描画装置は、複数のY座標値にそれぞれ対応する複数のスパンのデータを各々が含む複数個のポリゴン形状のデータが与えられ、複数個のポリゴン形状のスパンのデータのうちで同一のY座標値を有するスパンのデータを纏めて一連のスパンデータとして出力するスパン選択部と、スパン選択部が出力する一連のスパンデータの各スパンに対して各画素のデータを生成する画素データ生成部と、スパン選択部が出力する一連のスパンデータに対応する各画素のデータを格納するメモリアドレスを纏めてアクセスするメモリアクセス部とを含む。 (もっと読む)


【課題】スクライブ領域の幅を狭くするのに適した半導体ウエハを提供する。
【解決手段】半導体ウエハは、半導体素子の形成された複数のチップ領域が、隣接するチップ領域間にスクライブ領域を介して画定されており、スクライブ領域内に配置されたモニタ素子と、チップ領域内に配置されたパッドと、モニタ素子とパッドとを接続する配線とを有する。 (もっと読む)


【課題】適切に光近接効果補正されたパターンの検証を行う。
【解決手段】光近接効果補正されたパターン内の近接する頂点間の距離が規定値未満か否かを検証するパターン検証方法であって,コンピュータが,頂点座標列を有するパターンデータを解析して,光近接効果補正により形成されたセリフパターン,ノッチパターン,凸状または凹状三角パターンのうち少なくとも1つを抽出する工程と,コンピュータが,パターンデータを解析して,近接する2つの頂点間の距離が規定値未満でないことを検証する工程とを有し,検証工程において,抽出されたパターン内の2つの頂点間の距離を検証対象から除外する。 (もっと読む)


【課題】均一な結晶性を有する強誘電体膜を形成し得る半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】半導体基板10上に、プラチナ、パラジウム、ロジウム又はオスミウムである貴金属を含む貴金属膜である第1の導電膜44を形成する工程と、第1の導電膜上に、膜厚が0.1nm以上、3nm以下であり、貴金属の酸化物を含む非晶質の第2の導電膜45を形成する工程と、スパッタリング法又はゾル・ゲル法により、第2の導電膜上に強誘電体膜50を直接形成する工程と、熱処理を行うことにより、強誘電体膜を結晶化する工程と、強誘電体膜上に第3の導電膜を形成する工程と、パターニングすることにより、第1の導電膜と第2の導電膜とを含む下部電極と、強誘電体膜を含むキャパシタ誘電体膜と、第3の導電膜を含む上部電極とを有するキャパシタを形成する工程とを有している。 (もっと読む)


【課題】回路構成を再構成可能であって、パイプライン処理と逐次処理を同時に且つ効率良く実行可能な半導体集積回路を提供する。
【解決手段】外部プログラムのデコード結果に応じて回路構成を再構成可能な複数の処理部を備えた半導体集積回路にて、内部プログラムを記憶する第1処理部、内部プログラムの命令をデコードして制御信号を生成する第2処理部、制御信号を受けて処理を行う第3処理部、第1の記憶領域と第2の記憶領域を有する第4処理部を備え、第1動作モードでは、第4処理部の一方の記憶領域は第1〜第4処理部からなる第1のネットワーク構成に接続されて第3処理部の処理結果を保持し、他方の記憶領域は第2のネットワーク構成に接続されるようにして、第1及び第2のネットワーク構成により逐次処理及びパイプライン処理をそれぞれ実行でき、かつ第4処理部を同時にアクセスできるようにする。 (もっと読む)


【課題】バンプ電極をその高さを均一化して形成する。
【解決手段】電極パッド14上に、給電層16を介して電気めっき法によりバリアメタル17及びバンプ電極材料を積層した後、表面酸化処理を行ってバリアメタル17及びバンプ電極材料の表面に酸化膜を形成する。そして、バリアメタル17表面に形成された酸化膜を選択的に除去することにより、同等の表面状態のバリアメタル17側面を露出させる。その後、リフロー処理を行うと、溶融したバンプ電極材料がいずれもその下層のバリアメタル17側面に同等に濡れるようになり、高さHを均一化したバンプ電極18が形成可能になる。 (もっと読む)


【課題】複数の異なる差動小振幅インターフェイス規格に対応しながらも回路面積の増大を抑えた差動出力回路を提供する。
【解決手段】差動出力回路は、直列接続された第1のPMOSトランジスタと第1のNMOSトランジスタとを有する第1の出力駆動回路と、直列接続された第2のPMOSトランジスタと第2のNMOSトランジスタとを有する第2の出力駆動回路と、制御信号が第1の値の場合に第1及び第2のPMOSトランジスタの一方を選択的に導通状態とし且つ第1及び第2のNMOSトランジスタの一方を選択的に導通状態とし、制御信号が第2の値の場合に第1及び第2のPMOSトランジスタの何れにも電流を流さず且つ第1及び第2のNMOSトランジスタの一方を選択的に導通状態とすることにより、第1及び第2の出力駆動回路から一対の差動信号を出力させる制御回路とを含む。 (もっと読む)


【課題】出力トランジスタの特性に関わらず、PSRRの低下を抑止するレギュレータ回路を提供する。
【解決手段】リニアレギュレータ回路10は、出力トランジスタTr1に流れるトランジスタ電流Itを検出して該出力トランジスタTr1に流れるトランジスタ電流Itに相対した電流検出電圧Vkを出力する電流検出部11と、第1誤差増幅器ERR1の出力端子と出力トランジスタTr1のゲートとの間に、出力トランジスタTr1に流れるトランジスタ電流Itに相対した電流検出電圧Vkと誤差信号Sgとの電圧差に基づく駆動信号Sdを出力トランジスタTr1のゲートに出力して、出力トランジスタTr1に流れるトランジスタ電流Itを誤差信号Sgに相対した電流値にするように動作する第2誤差増幅器ERR2を介在させる。 (もっと読む)


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