【課題】磁場及び電場の非対称性を克服するための改良されたＲＦ給電構造の提供。
【解決手段】第１ＲＦコイル１１０と、第１ＲＦコイル１１０に対して同軸に配置された第２ＲＦコイル１１２と、第１ＲＦコイル１１０に連結された、ＲＦ電力を第１ＲＦコイルに供給するための第１ＲＦ給電部２０２と、第１ＲＦ給電部２０２に対して同軸に配置され、第１ＲＦ給電部２０２から絶縁され、第２ＲＦコイル１１２に連結された、ＲＦ電力を第２ＲＦコイル１１２に供給するための第２ＲＦ給電部２０４とを含む。 （もっと読む）

本発明は、一般に、基板を処理するための方法および装置に関する。本発明の実施形態は、放射熱源からの光に対して実質的に透明であるダイナミックヒートシンクを備える、基板を処理するための装置を含み、ダイナミックヒートシンクは基板の近くに配置され、この２つが結合する。本発明の追加の実施形態は、記載された装置を使用して基板を処理する方法を対象とする。
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本発明の実施形態は、概して、プラズマ源装置、および、電磁エネルギー源の使用により磁性コア要素の周囲に対称的に位置決めされるプラズマ生成領域にラジカルおよび／またはガスイオンを生成することが可能なプラズマ源装置を使用する方法を提供する。概して、そのプラズマ生成領域および磁性コアの配向および形状により、プラズマ生成領域に位置するガスへの送出電磁エネルギーの効果的なおよび均一な結合が可能となる。概して、プラズマ生成領域に形成されるプラズマの特徴が改善されることにより、基板、またはプラズマ生成領域の下流に配設される処理チャンバの一部分に対して実施される堆積プロセス、エッチングプロセス、および／または洗浄プロセスを改善することが可能となる。
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本明細書では、静電チャックの実施形態を提供する。いくつかの実施形態では、静電チャックが本体を含むことができ、この本体が、本体の側壁に対して垂直な第１の面、及びこの第１の面と本体の上面の間に配置された階段状の第２の面により定められる切り欠いた上部周縁部と、第１の面に沿って本体を貫いて配置された複数の穴とを有し、前記静電チャックが、本体の下に配置された基部に本体を結合するための、複数の穴の中に配置された複数の留め具と、基板を静電的に保持するための、本体の上面の上方に配置された誘電体部材と、階段状の第２の面と噛み合ってこれらの間に非線形境界面を定める階段状の内側壁を有する、本体の周囲の切り欠いた上部周縁部内に配置された絶縁体リングと、この絶縁体リング上に配置されたエッジリングとをさらに備え、非線形境界面が、エッジリングと留め具の間のアーク放電を制限する。 （もっと読む）

【課題】疎水性ウェーハを洗浄する優れた方法および装置を提供する。
【解決手段】疎水性ウェーハを洗浄するために界面活性剤を使用する方法および装置が提供される。第１の態様では、本方法は、純ＤＩ水をウェーハへ供給することなくウェーハを洗浄および乾燥することができる。第２の態様では、本方法は、界面活性剤溶液がウェーハからリンスされると直ちに、またはその前にＤＩ水の供給が停止するように、短い時間だけ純ＤＩ水をウェーハへ供給することによってウェーハを洗浄することができ、その後、ウェーハが乾燥される。別の態様では、疎水性ウェーハは、洗浄装置間で移送される間、界面活性剤で湿潤されたままであり、希釈界面活性剤により、または短時間のＤＩ水の噴霧によりリンスされた後、乾燥される。 （もっと読む）

酸化ケイ素層を形成する方法を説明する。この方法は、無炭素ケイ素含有前駆体を活性窒素および／または水素前駆体と混合するステップと、ケイ素窒素水素含有層を基板上に堆積するステップを含みうる。次に、ケイ素窒素水素含有層をケイ素酸素含有層に変換することが、オゾン含有雰囲気中で低温アニール（「硬化」）によって開始される。このオゾン含有雰囲気中でのケイ素窒素含有膜の酸化ケイ素への変換は不完全でもよく、酸素含有環境中でより高温のアニールによって増大させることができる。
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【課題】診断装置を、メンテナンス要員によるマニュアルプログラミングを必要とせずに広範囲のＵＵＴ機器モデルとインタフェース接続可能にする。
【解決手段】データ取得装置は、通信インタフェース仕様と、試験する種々のクラスの機器によって出力された診断属性の他の特性とを記憶するためのデータベースを有している。データベースレコードは、１クラスの機器を識別する第１のフィールドと、該クラスの機器によってその値が出力される診断属性を識別する第２のフィールドと、第３のフィールドとを含む。第３のフィールドは、診断装置が、該レコードの第１のフィールドによって識別されているクラスのＵＵＴ機器から、第２のフィールドによって識別されている属性値を検索することができるＩＤ（例えば物理信号線、物理アドレスまたは論理アドレス）を特定可能である。または、第３のフィールドは、診断属性が送信される通信インタフェースを識別可能である。 （もっと読む）

基板の薄膜処理のための磁気取扱アセンブリ、処理条件に露出するために加工物の上部を覆うシャドーマスクを組立及び分解するためのシステム及び方法。アセンブリは、磁気取扱担体と、磁気取扱担体の上に配置されてこれに磁気的に結合され、処理条件に露出される時にシャドーマスクと磁気取扱担体の間に配置される加工物の上部を覆うシャドーマスクとを含む。システムは、シャドーマスクを保持する第１の支持体と、取扱担体を保持する第２の支持体と、シャドーマスクを担体とシャドーマスクの間に配置される加工物に整列させるアラインメントシステムとを有する第１のチャンバを含む。第１及び第２の支持体は、互いに対して移動可能である。 （もっと読む）

一態様では、研磨方法は、基板を研磨するステップと、研磨中に監視すべき選択されたスペクトル特徴の識別情報および選択されたスペクトル特徴の特性を受け取るステップとを含む。この方法は、基板が研磨されている間に基板から反射された光の一連のスペクトルを測定するステップを含み、研磨中に材料が除去されるため、その一連のスペクトルの少なくとも一部は異なる。研磨方法は、一連のスペクトル内のそれぞれのスペクトルに対する選択されたスペクトル特徴の特性の値を判定して、その特性に対する一連の値を生成するステップと、一連の値に関数を適合させるステップと、関数に基づいて研磨終点または研磨速度に対する調整を判定するステップとを含む。
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ブラシボックス内に配置された円柱状ローラの処理表面をコンディショニングするための方法および装置を記載する。一実施形態では、ブラシボックスを記載する。ブラシボックスは、内部容積を有するタンクと、内部容積内に少なくとも部分的に配置された１対の円柱状ローラであって、円柱状ローラの各々が、それぞれの軸の周りを回転可能である、１対の円柱状ローラと、円柱状ローラが近接している第１の位置と円柱状ローラが互いに間隔を空けて離れている第２の位置との間でそれぞれの円柱状ローラを移動させるために円柱状ローラの各々に連結されたアクチュエータアセンブリと、円柱状ローラの各々のためのコンディショニング装置であって、各コンディショニング装置が内部容積内に配置されたコンディショナを含み、ローラが第２の位置にあるときに、コンディショナが円柱状ローラの各々の外側表面と接触する、コンディショニング装置とを含む。
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