【課題】 脆弱材料ウェブの製造及び処理において、上流プロセスから下流プロセスにウェブを搬送するための新たな機構を提供する。
【解決手段】 脆弱材料ウェブ２００を搬送するための機構であって、案内レール１０８及び案内レール１０８上に位置調整可能に設けられた位置可変ウェブ支持プレナム１０４を有する非接触ダンサー機構１０２を提供する。位置可変ウェブ支持プレナム１０４は脆弱材料ウェブ２００を上方に離間支持することにより、脆弱材料ウェブ２００の機械的接触及び損傷を防止するための流体を放出する複数の流体孔１０３を有する弓形外表面１０７を備えることができる。位置可変ウェブ支持プレナム１０４の案内レール１０８上の重量の少なくとも一部を支持する支持プレナム平衡錘１１０を位置可変ウェブ支持プレナムに１０４に機械的に接続できる。 （もっと読む）

例えば太陽電池に有用な、単分子層を含む光散乱無機基板および単分子層を含む光散乱無機基板の製造方法が本明細書に開示される。本方法は、少なくとも１つの表面を備えた無機基板を提供し、前記無機基板の少なくとも１つの表面に接着剤を塗布し、前記接着剤に無機粒子を施用してコーティング基板を形成し、前記コーティング基板を加熱して前記光散乱無機基板を形成する、各工程を含む。
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透明高分子材層を、初めに、フェムト秒、ピコ秒またはナノ秒のファイバパルスレーザを用いて透明高分子材に高コントラストのマークを形成し、次いで高コントラストマークの領域に局所溶接部を形成することにより、レーザ溶着接合するための方法が開示される。そのような溶接部は複数の透明高分子材層に形成することができる。溶接部を作製するためのシステム及びこの方法にしたがって溶着接合されたパーツも開示される。
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本発明は、光学式読取装置に対してマイクロプレートを取り付けて、マイクロプレートにおける問合わせビームの入射角度を制御するマイクロプレート取り付けシステムであり、マイクロプレートの底部及びスカートの一方又は双方に係合する少なくとも一組の取り付け機構要素を有する基準平面と、第１の位置決め機構とを含み、第１の位置決め機構は、マイクロプレートの底部及び／又はスカートと少なくとも一組の取り付け機構要素との間の係合を通じて、ｚ方向においてマイクロプレートの相対的位置決めを可逆的に制御することによりマイクロプレートにおける問合わせビームの入射角度を制御するために、マイクロプレートの底部により形成された平面と読取装置との間にｚ方向に可逆的に所定の離隔距離を提供する。 （もっと読む）

ガラスリボン（２０）用のエッジローラ（２６）が開示され、このローラのベアリングアセンブリ（５０）の振れ発生部分を、リボンエッジの内側に、例えばリボンのエッジ部分（３４）上に位置付ける。この位置により、従来のエッジローラ構造で生じていた振れの増幅が低減される。この増幅をなくすことにより、リボン表面での振れを、例えば１〜３ｍｍから０．０５〜０．１５ｍｍへと低減することができる。リボンエッジの内側の高温に耐えるため、エッジローラアセンブリはガスベアリングまたはセラミックベアリングを採用してもよい。
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生細胞内で多酵素複合体変調剤を分類するためのラベルフリーバイオセンサー細胞アッセイに関する方法が開示される。プリノソーム破壊型カゼインキナーゼＩＩ（ＣＫ２）阻害剤の同定に関する方法と、ＣＫ２活性及びプリン合成経路を変調するため、及び、ＣＫ２と関連する癌、ウイルス感染症及び炎症疾患の予防及び治療の改善のための治療剤としてのプリノソーム破壊型ＣＫ２阻害剤の使用に関する方法とが開示される。
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読み取り装置の改良された空間分解能を有する光学読み取りシステムを有する装置及び標識非依存検出のための方法が記載されている。システムは、４５°より大きい入射角（θ_１）でマイクロプレート上のセンサに対してインターロゲーションを行い、接触されたセンサから受信した画像を画像記録装置で記録する光学的構成を含み、画像記録装置が反射ビームに対して約５゜よりも大きい反射角（θ_２）で配向されている。
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光導波路ファイバは、(ｉ)波長１５５０ｎｍにおいて１００μｍ^２から１６０μｍ^２の有効面積及び１２≦α≦２００のα値を有する無Ｇｅコア(１２)、コアは−(ａ)中心線から径方向に外側に半径ｒ_０まで拡がり、純シリカに対して測定される、％単位の相対屈折率％プロファイル,Δ_０(ｒ)を有する中心コア領域(１４)、ここで、−０.１％≦Δ_０(ｒ)≦０.１％であり、中央コア領域は最大相対屈折率％,Δ_０最大を有する、(ｂ)中央コア領域を囲んで中央コア領域に直接に接し、外半径ｒ_１まで拡がり、４.８μｍ≦ｒ_１≦１０μｍであって、純シリカに対して測定される、％単位の相対屈折率％プロファイル,Δ_１(ｒ)及び最小相対屈折率を有しており、半径ｒ＝２.５μｍで測定される相対屈折率が−０.１５≦Δ_１(ｒ＝２.５μｍ)＜０及びΔ_０最大＞Δ_１(ｒ＝２.５μｍ)である、第１の環状コア領域(１６)、及び(ｃ)第１の環状コア領域を囲んで第１の環状コア領域に直接に接し、半径１２μｍ＜ｒ_２＜３０μｍまで拡がり、純シリカに対して測定される、％単位の負の相対屈折率％プロファイル,Δ_２(ｒ)を有し、Δ_２最小＜Δ_１(ｒ＝２.５μｍ)及び−０.５％＜Δ_２最小＜−０.２７％である最小相対屈折率％,Δ_２最小を有する、フッ素がドープされた第２の環状コア領域(１８)−を有する、及び(ii)コアを囲み、純シリカに対して測定される、％単位の相対屈折率％プロファイル,Δ_Ｃ(ｒ)を有し、Δ_Ｃ(ｒ)＝Δ_２最小±０.３％である、クラッド層を有する。光ファイバの相対屈折率プロファイルは波長１５５０ｎｍにおいて０.１７５ｄＢ/ｋｍをこえない減衰を与えるように選ばれる。
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発明の一例にしたがえば、光ファイバは、(ｉ)Ａｌドープシリカを含むが、ＥｒまたはＹｂは実質的に含まない、第１の屈折率ｎ_１を有するコア、(ii)コアを囲む、ｎ_１＞ｎ_２であるような、第２の屈折率ｎ_２を有する、少なくとも１つのＦドープシリカ系クラッド層であって、実質的にＳｉＯ_２及び０.２５〜５重量％のＦを含むクラッド層、(iii)クラッド層を囲む気密炭素系コーティングであって、厚さが２００〜１０００Åである気密コーティング、及び(iv)気密コーティングを囲む第２のコーティングであって、厚さが５μｍから８０μｍである第２のコーティング、を有する。
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ガラスリボンを融合延伸するための装置が、下流方向に沿って合流して底部を形成する１対の下方傾斜成形面部分を有する、成形用ウェッジを含む。この装置は、１対の下方傾斜成形面部分のうちの少なくとも一方と交わっているエッジ誘導部材、エッジ誘導部材と接触している溶融ガラスの接触面を加熱するよう構成された加熱装置、およびガラスリボンの、エッジ誘導部材を離れて流れてきた部分から熱を奪うよう構成された冷却装置、をさらに含む。エッジ誘導部材と接触している溶融ガラスの接触面を加熱し、かつガラスリボンの、エッジ誘導部材を離れて流れてきた部分から熱を奪うための方法がさらに提供される。
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