処理デバイスの少なくとも一部を囲むハウジングと、当該処理デバイスに取り付けられた少なくとも１つの標的と、ハウジング内に配されている少なくとも１つの送信機であって、当該少なくとも１つの標的に当該少なくとも１つの送信機を特定する識別信号を送信する少なくとも１つの送信機と、当該少なくとも１つの標的及び当該少なくとも１つの送信機に動作可能に接続されているコントローラと、を含む基板処理システムであって、当該処理デバイスは、当該少なくとも１つの標的と既知の関係にある第１の処理デバイス基準点を有し、当該コントローラは当該識別信号に基づいて、当該少なくとも１つの標的及び当該少なくとも１つの送信機のうちの１つからデータ信号を受信して、当該データ信号に基づいて当該処理デバイスの動作特徴を制御する基板処理システム。
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【課題】プロセスチャンバとポンプとの間のバルブや導管に起因するコンダクタンス損失を低減または解消し、かつ、ポンプをプロセスチャンバのプロセス空間に流入する気体分子の気体分子源に対して最適な位置に配置することができるプロセスチャンバシステムを提供する。
【解決手段】本発明のプロセスチャンバシステム５００は、プロセス空間５１４を有するプロセスチャンバと、プロセスチャンバに着脱可能に取り付けられた複数の冷凍機５０２と、冷凍機５０２に着脱可能に取り付けられた複数のアレイ５０４とを備える。冷凍機５０２とアレイ５０４とがプロセスチャンバ内に延在して、プロセス空間５１４内に排気面を形成している。この排気面は、プロセス空間に連通する気体分子源の近傍に配置され得る。 （もっと読む）

【課題】複雑性を最小限に抑えたかまたは解消したガス分析装置を提供する。
【解決手段】本発明の真空チャンバ用のガス分析装置は電子処理部を備えており、この電子処理部が、質量スペクトルデータを受け入れ、真空チャンバ内の全圧を示す入力を受け入れ、少なくとも１つのセンサからの外部入力を受け入れ、これら質量スペクトルデータ、真空チャンバ内の全圧、および少なくとも１つのセンサからの外部入力を用いて、少なくとも１つの品質基準に基づき真空品質指数を算出するように構成されている。 （もっと読む）

【課題】大型基板インデックス型ロードロック群を有する装置に匹敵する基板スループットを達成可能で且つ相当に低コストの基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置５０において、複数の基板支持シェルフ有する第１の基板保持位置を有するロードロック５８に対して基板を搬入及び搬出する方法であって、非インデックス型ロードロックであるロードロック５８が有する前記第１の基板保持位置内の第１の基板支持シェルフから未処理基板を除去するステップと、前記未処理基板が、前記基板保持位置の前記基板支持シェルフの垂直方向運動無しに前記第１の基板支持シェルフから除去された後かつ他のいずれかの既処理または未処理基板が、ロードロック５８が有する前記第１の基板保持位置の他の基板支持シェルフに挿入もしくはそこから除去される前に既処理の基板を前記第１の基板支持シェルフに挿入する挿入ステップと、を含む。 （もっと読む）

【課題】基板処理装置の基板移動方法に関し、大気搬送部分での、第１エンドエフェクタと第２のエンドエフェクタでの搬送機構を提供する。
【解決手段】半導体基板を第１位置から第２位置に移す装置。該第１及び第２位置は個別的な支持領域において複数の該半導体を保持するようになされている。その装置は、個別的に支える半導体の異なった最大数の支持領域をおのおのが有する２つの基板保持エンドエフェクタ４６，４８を有する搬送機構を含む。該半導体は該第１位置から該第２位置へと該第１エンドエフェクタ４６によって搬送され、該第２位置又は該第１位置における空の個別的支持領域が該第１エンドエフェクタ４６上の支持領域の該最大数よりも小さいときは、該第１位置から該第２位置へと該第２エンドエフェクタ４８を用いて基板を搬送する。 （もっと読む）

【課題】高い圧力でもスペクトルのノイズを抑え、基線オフセットおよびスペクトル分解能の損失が小さい、イオンとラップを提供する。
【解決手段】
第１および第２の対向ミラー電極６，７ならびにミラー電極６，７間の中央レンズ３を含む電極構造体を含み、電極構造体は、イオンを固有振動周波数において軌跡に閉じ込める静電電位を生成し、閉じ込め電位は非調和である。さらに、イオンの固有振動周波数の約２倍の周波数で閉じ込められたイオンを励起させる励起周波数ｆを有するＡＣ励起源２１を含み、ＡＣ励起周波数源は、好ましくは、中央レンズ３に接続される。 （もっと読む）

【課題】ロボットに基づいたサブストレートの大量移送のための改良技術を提供する。
【解決手段】サブストレート取扱いロボット２０は第一アーム２２と第二アーム２６が接続されているアーム駆動機構３４を含む。複数サブストレート・バッチローダー２４が第一アーム２２に接続され、単一面エンド・エフェクタ２８が第二アーム２６に接続されている。複数サブストレート・バッチローダー２４は保持するサブストレート数を示す真空信号を生じる。真空信号インタープリータがサブストレート装荷数に応じて、第一アーム２２の運動を代える。第二アーム２６に接続されている対象物センサー５８は、複数サブストレート・バッチローダー２４に隣接するカセットの中のサブストレート数を査定する。サブストレート装荷順コントローラが、カセットの中のサブストレート数に応じて、アームの運動を制御し、複数サブストレート・バッチローダー２４の完全装荷を促進する。 （もっと読む）

搬送装置の駆動システムは、搬送装置に接続されている複数の永久マグネット、複数の永久マグネットの少なくとも１つの磁界に曝されている複数の固定巻線、固定巻線に電圧を加えて搬送装置に磁力をもたらす制御システム、及び搬送装置の浮揚、ピッチ及びロールの受動的安定化を提供するための搬送装置の少なくとも一側部に近接している強磁性コンポーネントの配列を含んでいる。
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【課題】基板搬送装置チャンバ（31）に連結される複数の基板処理モジュール（14）を有する基板処理装置（10）を提供すること。
【解決手段】基板搬送チャンバ（31）は、ハウジング（13）と基板搬送機構（22）とを有する。ハウジング（13）は、基板処理モジュール（14）のためのメイン搬送チャンバへの出入り口を有する実質的に閉じたメイン搬送チャンバ（31）を形成する。搬送機構（22）は基板保持体（29）を有し、基板保持体は可動に該搬送チャンバ（31）に設けられる。ハウジング（13）はフロントエンド拡張部（30）を有し、フロントエンド拡張部は装填ロック（16）に連結される。フロントエンド(28)の拡張部（30）は、整列器（32）と、冷却器（36）と、バッファ（34）とを有し、バッファはハウジング（13）に直接連結され且つメイン搬送チャンバ（31）の一部であるフロントエンド拡張部（30）内に位置する。 （もっと読む）

【課題】電子源の歪力を軽減しながら、様々な圧力レベルでの動作において、スパッタリングによる損傷を受けることがない電離真空計、そのような電離真空計を使用した圧力測定方法、および真空の気体雰囲気内での各種方法を提供する。
【解決手段】本発明の電離真空計１００は、電子１２５を放出する電子源１０５と、イオン化空間を形成する陽極１２０と、電子とイオン化空間における気体との衝突によって生成されるイオンを収集する収集電極１１０とを備える。なお、コントローラ１０５ａにより、動作時の電子源１０５からの放出電流を、圧力以外の検出パラメータに応答して能動的に制御するように構成されている。 （もっと読む）