本発明は、コンベヤーシステムの潤滑方法であって、ｉ）水でコンベヤー潤滑剤濃縮液を希釈して、濃度ｃを有する水性コンベヤー潤滑剤を得ること、ｉｉ）水性コンベヤー潤滑剤に光を照射すること、ｉｉｉ）吸収検出器で水性コンベヤー潤滑剤による光の吸収を測定することにより水性コンベヤー潤滑剤の濃度ｃを求めること、及び、ｉｖ）コンベヤーシステムに水性コンベヤー潤滑剤を塗布することを含む、方法を対象とする。本発明はさらに、光源と、コンベヤー潤滑システム内の水性コンベヤー潤滑剤による光の吸収を測定するための吸収検出器とを有する測定装置を含む、コンベヤー潤滑システムに関する。
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装置は、行われる職務に関して音声指示を労働者に提供し、労働者が作業を行う場所に配置されるように適合される。図表は異なる職務に関連した複数のシンボルを有し、ユーザ入力組立物はそのシンボルに関連する。ユーザ入力組立物は、複数のシンボルのうちの１つを労働者が選択することによってアクティブ化され、それによって選択されたシンボルを示す電気信号が作り出される。ストレージ・デバイスは、複数のシンボルに対応する複数の音声指示メッセージを含む。音声再生回路はユーザ入力組立物とストレージ・デバイスに接続され、選択されたシンボルに関連した音声指示メッセージを再生することによって、電気信号に応答する。
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本発明は、廃水処理プラントの排水の濾過に使用される濾過膜の洗浄方法であって、酵素洗浄溶液を使用する少なくとも１つの酵素洗浄工程を含む濾過膜の洗浄方法に関する。
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容器を苛性溶液に暴露すること、及び該容器をすすぎ溶液ですすぐことを含むリサイクルガラス容器の洗浄方法が教示される。該すすぎ溶液は、キレート化剤と、必要に応じて酸又はキレート化剤として機能し得る酸を含む。該方法により洗浄されたガラス容器についても説明される。 （もっと読む）

コンベア用の、特に容器輸送コンベア用のワックス系潤滑剤被覆が提供される。潤滑剤被覆は、摩擦係数の低いコンベア表面を提供する。一実施形態において、潤滑剤被覆はカルナバ・ワックスおよび少なくとも１種の追加のワックスの混合物で構成される。潤滑剤被覆が塗布されているコンベアも提供される。
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本発明は、表面の外観を改変するための薄い積層体を提供する。積層体は、キャリアフィルムの下側表面に対して配置された標章含有層を含む。積層体は、任意に、積層体を表面に付着するための接着コートまたは層、少なくとも１つの剥離可能保護層、および積層体の表面への移設を容易にするためのリリースコーティングを含んでもよい。また、本発明は、積層体を用いて表面の外観を改変するための方法およびシステムを提供する。 （もっと読む）

本発明は表面の外観を変化させるための薄い積層体を提供する。この積層体は標章含有層の下面に配されたキャリアーフィルムを含む。積層体は、任意に、積層体を表面に接着するための接着コート、少なくとも１層の剥離可能保護層、および積層体の表面への移設を容易にするための剥離被膜を含んでもよい。本発明はまた、該積層体を用いた表面の外観を変化させるための方法および系を提供する。 （もっと読む）

操作可能な分配用組立体を本質的に垂直な壁に取り付けるための分配用組立体壁ブラケットを提供する。ブラケットは垂直表面に固定可能な基部（３２）を含み、基部は、基部が垂直表面に固定されると実質的に垂直表面と平行になる平面（３８）を画定する。管継手（４４）が基部に固定され、入口（４６）と出口（４８）とを有する。入口は前記平面に実質的に平行な軸を画定し、出口は入口軸と交差する軸を画定する。少なくとも１つの支持アーム（７３、７４、７５）が基部から延在し、近位端部と遠位端部とを有し、近位端部は基部に固定されている。入れ物が支持アームの遠位端部によって支持され、前記出口軸と整列しており、入れ物の中に受け入れられた入口を有する分配用組立体が、分配用組立体の入口を管継手の出口に連結するために位置付けられている。
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コンベヤトラック潤滑剤組成物、並びにシロキサン油及び展着剤、例えば、トリシロキサン展着剤の使用を含む方法。また、潤滑剤組成物は殺生物剤材料及び応力亀裂抵抗性材料を含有し得る。 （もっと読む）

【課題】掃除・洗浄・研磨の三操作を一人で同時に取り扱うことができる床清掃装置を提供する。
【解決手段】床に対し洗浄等の第一清掃操作を行う第一要素集合と、研磨などの第二清掃操作を行う第二要素集合と、第一及び第二集合に接続され且つ前記第一集合を操作する第一プログラムのモジュールと前記第二集合を操作する第二プログラムのモジュールとを並列に実行させる制御回路機構を設ける。第一プログラムのモジュールがデータを第二プログラムへ供給し、第二プログラムのモジュールが前記データに基づき前記第二集合の操作を修正する。第一プログラムモジュールを実行するプロセッサと第二プログラムモジュールを実行するプロセッサとからなる少なくとも二つのプロセッサを設ける。第一要素集合に洗浄器を含め、第二要素集合に研磨器を含める。 （もっと読む）