【課題】回路設計データを用いた半導体ウェーハ上の欠陥を自動的に検出し、欠陥発生原因の推定を行う半導体欠陥検査装置ならびにその方法を提供する。
【解決手段】回路設計データ１１６０から検査対象回路パターンと比較するために，欠陥発生要因毎に定められた形状変形項目について設計データに変形を加え，複数の形状を作成する（１１９２）。作成された形状群３０２と実パターンの比較により欠陥を検出する。また、それらの欠陥の発生原因を推定し，原因別に欠陥を分類する。 （もっと読む）

【課題】検査対象物（例えば半導体パターン）の微細化により、検査すべき欠陥の大きさも微小化し、欠陥からの散乱光の強度が大幅に減少するが、このような欠陥からの微小な散乱光を検出するのに適した欠陥検査装置および方法を提供する。
【解決手段】表面にパターンが形成された試料１００に光を照射するレーザ光源１１１を備える照明光学系１１０ａと、前記照明光学系により照明された該試料から発生する光を検出するセンサ１２６を備える検出光学系１２０と、前記検出光学系により検出された光に基づく画像から欠陥を抽出する信号処理手段２５０と、を備え、前記検出光学系にて光を検出する間に前記センサの増幅率を動的に変化させることを特徴とする欠陥検査装置である。 （もっと読む）

【課題】試料台カバーの温度を安定させ、試料台カバーから発生するガス量を安定させることで、プラズマ処理性能の経時変化が小さいプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】真空容器内の下部に配置されプラズマに面してその上面にプラズマを用いた処理対象の試料Wが載置される試料台２０７を備え、この試料台２０７が、試料Ｗの載置される面の外周側にこれと段差を有して配置され誘電体製のリング状部材３０１が配置される凹み部及びこのリング状部材３０１の下方に配置されこれを加熱する手段３１５とを有し、リング状部材３０１の外周側上方に配置されて試料台２０７と連結されリング状部材３０１を下方に押し付けて位置決めする金属製の部材３０３，３０４と、凹み部の上面とリング状部材３０１の下面との間のすき間に熱伝達性ガスを供給する手段３０８とを備える。 （もっと読む）

【課題】高感度かつ測定時間が短い光断層画像測定装置および光断層画像測定システムを提供することを課題とする。
【解決手段】光源２から入射された光を、参照光と、信号光と、に分割するする光分割手段１１と、測定対象物３から反射された反射信号光を複数の反射信号光に分割する光分割手段３４と、参照光を、反射信号光の分割数と同じ数の参照光に分割する光分割手段２１と、分割された参照光および反射信号光のそれぞれを合波することによって、分割された参照光および反射信号光に対応する干渉光を生成する光合波手段４１と、波長スペクトルをそれぞれの干渉光から取得し、取得したそれぞれの波長スペクトルをフーリエ変換する解析手段５３と、を有し、分割された参照光または反射信号光におけるそれぞれの光路の長さが、異なるよう固定されている光路長変化部１０１を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】荷電粒子線装置において、収差の測定と補正は自動化されていたが、複数の収差を一度に補正することに関して、どのような補正を行うべきかの判断は自動化されていなかった。
【解決手段】荷電粒子線源と、前記荷電粒子線源から放出された荷電粒子を荷電粒子線として試料に対して照射する荷電粒子光学系と、前記荷電粒子光学系の収差を補正する収差補正器と、前記荷電粒子光学系と前記収差補正器の各構成要素を制御する制御手段とを備えた荷電粒子線装置において、最適な調整手順を学習により獲得する自動収差補正装置を備える。自動収差補正装置は、収差補正を複数同時に実施可能な、最適な調整手順を強化学習により獲得する。 （もっと読む）

【課題】電磁レンズが発生する磁場の安定性を向上させることを課題とする。
【解決手段】電子線の経路５の周囲に巻線が巻回されているコイル１２、コイル１３ａおよびコイル１３ｂと、磁路を形成する強磁性体１１と、各々のコイル１２，１３ａ，１３ｂに電流を流す電流源装置２，３と、コイル１３ａおよびコイル１３ｂに、互いに逆向き、かつ、同じ電流量の電流を流し、コイル１２，１３ａ，１３ｂにおける合計発熱量をＰとし、コイル１２に流れる電流量をＩ_１とし、抵抗値をＲ_１とし、コイル１３ａ，１３ｂに流れる電流量をＩ_２とし、合成抵抗値をＲ_２としたとき、コイル１３ａ，１３ｂ電流量Ｉ_２を、Ｉ_２＝｛（Ｐ−Ｉ_１^２Ｒ_１）／Ｒ_２｝^１／２に従った量となるよう制御する制御装置４と、を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】複数の分析ユニットで構成された自動分析装置において、特定の分析ユニットで試料の定量吸引異常を認識した場合は吸引試料の排出動作など異常処理動作が付加されるが、当該試料が分析依頼された以降の分析ユニットで同様な動作が発生し処理能力が低下する現象を防止する。
【解決手段】本発明を適用するには自動分析装置のシステムを制御するアプリケーションソフトウェアにおいて特定分析ユニットで認識された定量吸引異常の認識情報を、複数の分析ユニット相互間で共有化し、定量吸引異常が認識された分析ユニット以降の分析動作を実行不可とすることで可能となる。 （もっと読む）

【課題】
試料台保護部材の消耗を抑制することで試料台保護部材の寿命を延長し、装置稼働率の向上と試料台が露出することによる試料台の消耗を防ぐことができるプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】
円板状の試料台１１２と、試料台１１２の側面の消耗を低減するための試料台保護部材（２０６、２０３、２００）とを備えたプラズマ処理装置において、試料台保護部材（図面上では２０３）を冷却するための冷却用ガス流路２０５を有する。また、イオンを試料台保護部材２００へ引き込む導体リング２０１や、試料台保護部材２０３と試料１２８との距離を調整する機構（２０４、２５０〜２５２、２６０、１３２）を有する。 （もっと読む）

【課題】従来の微細構造転写装置と比較して、スタンパの交換に要する時間を短縮することができると共に、スタンパの転写面に異物が付着するのを防止することができる微細構造転写装置を提供する。
【解決手段】スタンパヘッド２３に取り付けられたスタンパ２を被転写体５に押し付けて、前記スタンパ２に形成された微細な凹凸パターンを前記被転写体５の表面に転写する微細構造転写装置１において、前記スタンパヘッド２３に対して近接移動可能な移動ステージ３１と、この移動ステージ３１に設けられたスタンパ保持部３２とを備え、前記スタンパ保持部３２が、前記スタンパ２の前記凹凸パターンの形成面を粘着保持可能な粘着層３５を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 マスクが大型化しても、基板との間で高い精度の平行度を維持してマスクを保持して高い精度での露光を可能とするプロキシミティ露光装置とマスク保持機構を提供する。
【解決手段】 プロキシミティ露光装置のマスク保持機構を構成するホルダフレーム２１は、その各辺から開口部内に突出して取り付けられた複数の突出部２１２と、突出部に取り付けられた複数の空気ばね２３と、空気ばねを介して突出部に搭載されたマスクホルダに対し、３又は４箇所で、マスクを基板の表面に対して所定の微小ギャップで平行に配置する調整力を付与するチルト駆動モータ２２を備えており、そして、複数の空気ばねの少なくとも一部は、当該空気ばねの内部圧力を調整するためのコンプレッサやアキュムレータや制御バルブ２３３からなる調整機構を備えている。 （もっと読む）