説明

株式会社日立ハイテクノロジーズにより出願された特許

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【課題】分注時の異常を示す情報を容易に取得可能な液面検知高さ位置の検出手段を有する分注装置の提供。
【解決手段】プローブ1が下降して、試料容器9内の試料10の液面を液面センサ1aが検知すると、プローブ1は所定量下降して停止する。そこから一定時間後にモータ4を駆動することで分注シリンジ3が吸引動作を行う。圧力センサ11は分岐ブロック12を介し、プローブ1,チューブ2,分注シリンジ3を含む分注流路系に接続されている。プローブ1が停止してから分注シリンジ3が吸引動作を開始するまでの圧力信号測定区間の圧力信号から液面検知高さ位置情報を得ることができる。前記圧力信号測定区間における圧力センサ11の出力は、圧力測定部13により測定され、記憶部14に記憶される。前記圧力信号と液面下降距離算出部15および圧力変化量算出部16からの情報に基づいて正誤判定部17で、正常な液面検知が行なわれたか否かを判定する。 (もっと読む)


【課題】カセット内のウェハを処理装置に搬送して処理する際、搬送したウェハに各カセットとも共通な真空処理を施すカセットの並列処理、1つのカセット内に収納された複数のウェハに共通の真空処理を施す真空処理室の並列処理等のいずれかを選択的に施す。
【解決手段】ウェハを前記真空処理室に搬送し、真空処理されたウェハを搬出する制御を行う制御手段とを備え、制御手段は、少なくとも2つのカセットを使用し、各カセットに収納されたウェハを各カセット毎に対応する真空処理室に搬送し、各カセット毎に割り付けられ各カセットとも共通な真空処理を施すカセットの並列処理と、1つのカセット内に収納された複数のウェハを複数の真空処理室へ順次搬送し、前記順次搬送された複数のウェハに共通の真空処理を施す真空処理室の並列処理とを備え、ウェハ供給停止、カセット供給停止、実行中の真空処理等の動作を停止するサイクル停止、実行中のカセットの真空処理の動作を全て即時停止する即停止の何れかにより実行中の処理を終了させる。 (もっと読む)


【課題】測長SEMのような半導体の検査や評価を目的にした装置に適用可能なステージ装置を小型化、軽量化すると同時に電子線への磁場の影響を低減する。
【解決手段】トップテーブル101の大きさと可動ストロークとから決まる最小寸法とほぼ同じ大きさのベース104上に、リニアモータのXモータ固定子110a、110b、Xモータ移動子111a、111b、Yモータ固定子112a、112b、およびモータ移動子113a、113bを、ステージ装置中央の電子ビーム照射位置から遠ざけるように4辺に配置する。Xモータ固定子110a及びYモータ固定子112bは、コの字構造の開口部を装置の外側に向ける構成とする。また、可動のXテーブル102とトップテーブル101、及びXテーブル102とYテーブル103の連結は、非磁性材料を用いたリニアガイド107、109もしくは非磁性材料を用いたローラ機構によって行う。 (もっと読む)


【課題】
本発明の目的は、クラスタを自由に構成できる有機ELデバイス製造装置及び同製造方法を提供することにある。
【解決手段】
本発明は、蒸着材料を基板に蒸着する処理部を具備する真空処理チャンバと、前記基板を搬入または搬出する受渡室と、前記基板を前記受渡室と前記複数の処理部との間を放射状に搬送する搬送手段とを具備する真空搬送チャンバとを備えるクラスタを、前記受渡室を介して複数有する有機ELデバイス製造装置において、前記受渡室は、載置基台に支持され前記基板を載置する載置部と、前記基板を前後反転させる前後反転補正機構、前記基板を搬送方向に移動させる搬送方向移動機構のうち少なくとも一方を有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】ウェハ上の欠陥によって散乱される光は非常に弱く、その微弱光を高速かつ高感度に測定する検出方法としてはPMTやMPPCがある。上記検出方法では、微弱光を光電変換して、電子を増倍する機能があるが、光電変換の量子効率が50%以下と低いため、信号光を損失し、S/N比を低下させるという課題がある。
【解決手段】そこで、本発明では、光電変換をする前に直接光を増幅する光増幅に着目した。光増幅とは、信号光と励起用光源の光とを希土類を添加したファイバに導入し、誘導放出を起こして信号光を増幅する増幅方法である。本発明は、この光増幅を利用することを特徴とする。また、本発明は、この増幅率を様々な条件により変えることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】本発明の目的は遺伝子検査装置の高処理能力化・高機能化が容易に図ることが可能なシステム構成を提供することにある。
【解決手段】反応容器に対して、試料及び試薬を分注する分注手段と、反応容器を搬送する容器搬送手段を有する、遺伝子検査システムにおいて、複数個の反応容器を収容して反応容器の収容ポジションごとに温度制御を行う温度制御手段,反応容器の制御温度の値をモニターする温度監視手段、及び反応容器内に収容する反応液の発光を測定する発光測定手段を具備する核酸増幅検出部を複数有し、少なくともいずれかの核酸増幅検出部は、上記容器搬送手段とは別の容器搬送手段を個別に備えていることを特徴とする、遺伝子検査システム。 (もっと読む)


【課題】複数の分析ユニットで構成された自動分析装置において、特定の分析ユニットで試料の定量吸引異常を認識した場合は吸引試料の排出動作など異常処理動作が付加されるが、当該試料が分析依頼された以降の分析ユニットで同様な動作が発生し処理能力が低下する現象を防止する。
【解決手段】本発明を適用するには自動分析装置のシステムを制御するアプリケーションソフトウェアにおいて特定分析ユニットで認識された定量吸引異常の認識情報を、複数の分析ユニット相互間で共有化し、定量吸引異常が認識された分析ユニット以降の分析動作を実行不可とすることで可能となる。 (もっと読む)


【課題】
試料台保護部材の消耗を抑制することで試料台保護部材の寿命を延長し、装置稼働率の向上と試料台が露出することによる試料台の消耗を防ぐことができるプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】
円板状の試料台112と、試料台112の側面の消耗を低減するための試料台保護部材(206、203、200)とを備えたプラズマ処理装置において、試料台保護部材(図面上では203)を冷却するための冷却用ガス流路205を有する。また、イオンを試料台保護部材200へ引き込む導体リング201や、試料台保護部材203と試料128との距離を調整する機構(204、250〜252、260、132)を有する。 (もっと読む)


【課題】FEMウェーハを自動測長する場合、測長対象の大きさは登録時と異なっていることが多いだけでなく、測長対象のパターンも崩れていることが多い。このため、測長の可否を自動的に判断することが困難である。
【解決手段】半導体検査システムにおいて、(1) 参照画像から算出される距離画像を利用し、検査画像の輪郭線の位置を特定する処理、(2) 特定された距離画像に対する輪郭線の位置に基づいて欠陥大きさ画像を算出し、当該欠陥大きさ画像から欠陥候補を検出する処理、(3-1) 欠陥候補が検出された場合、検出された欠陥候補の大きさを算出する処理、又は(3-2) 第1及び第2の輪郭線の相違部分を欠陥候補として検出する処理を実行する。 (もっと読む)


【課題】従来技術ではマイクロ波の電力を変えて放電試験を行い、マイクロ波電力に依存した放電不安定領域が存在しており、その為、放電不安定領域は避けてプロセス開発を行いプロセスウインドウを狭くしていたが、今まで以上に広いプロセスウインドウが必要とされている。
【解決手段】マグネトロン106に取り付けられたパルスジェネレータ112により、プラズマ111をパルス状にオンオフ変調してオン時のピーク電力値を連続放電にて放電不安定が生じる値より大きな値にし、オンオフ変調のデューティー比をウエハ毎に変化させることによりマイクロ波の平均電力を制御し、また、プラズマ111のオフ時間が10ms以下になるようにパルスの繰り返し周波数を制御する。 (もっと読む)


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