【課題】太陽光などの投光波長以外の光を極限まで制限して、投光波長のみを受光できるようにする。
【解決手段】干渉膜を使った平面板の干渉フィルタを用いて広い視野の検出手段を構成すると、平面板の干渉フィルタへの入射角に応じて透過帯域の移動が起こり、所望の信号強度を得ることが困難となる。この発明は、干渉フィルタの形状を球面状にして全視野の受光光線を干渉フィルタの入射面に対して垂直に入射するようにして、透過帯の移動をなくし、所望の信号強度を得るようにした。また、受光レンズの第一主点と球面状干渉フィルタの球面中心とを一致させて配置することにより、干渉フィルタへ入射する反射光の入射角を０°にして透過帯域が変化しないようにした。 （もっと読む）

【課題】頂点部分の再生処理を繰り返し行っても引出電圧の変動が微小なイオン源エミッタを提供する。
【解決手段】本発明に係るエミッタでは、先端を単原子を頂点とする三角錐形状として、かつ先端を頂点側から見た形状を略六角形とした。 （もっと読む）

【課題】 尿や血液などの検体を分析する自動分析装置において、分析測定値が繰り返し使用する分注ノズルに汚染の影響を受けないようにする。
【解決手段】 本発明では、洗浄機構に電極を設け、電極によってプラズマを発生させる。発生したプラズマによって、分注ノズルの外側表面をプラズマ洗浄により洗浄することで、生体高分子などによる汚染を低減し、分析信頼性を向上する。 （もっと読む）

【課題】イメージシフトによる電子線のビーム径増大の影響を抑えた高速かつ高精度な試料の観察、測定を行う方法、及び装置を提供する。
【解決手段】電子線が所定の走査幅よりも小さい領域を走査する場合には、試料上の電子線の照射対象位置が、イメージシフトを制御可能な第一の範囲よりも小さな第二の範囲内にあるときにはイメージシフトを用いた視野移動を行い、前記第二の範囲を超えるときにはステージ移動を行う。このような構成によれば、ビーム径の影響を受けない条件下においてステージ移動に対する相対的なイメージシフトによる視野移動量を増大させることができるため、高速かつ高精度に試料の観察、測定を行うことが可能になる。 （もっと読む）

【課題】光ビーム照射装置から照射される光ビームの走査方向と直交する方向の強度分布を補正して、パターンの高低差を抑制する。
【解決手段】光ビーム照射装置２０からの光ビームにより基板１を走査して、基板１にパターンを描画する。描画制御部７１は、パターンを描画するための描画データと、補正用パターンを描画するための補正用データとを、光ビーム照射装置２０の駆動回路（ＤＭＤ駆動回路２７）へ供給して、走査方向と直交する方向の幅又は位置が走査方向において変化する補正用パターンを、描画するパターンの走査方向に重ねて描画させる。 （もっと読む）

【課題】構成する部材の磨耗を抑制することができるケーブルガイドを提供する。
【解決手段】可撓性を有する長板形状の板部１１と、板部１１の短手方向両側に一面側に向って立ち上がるよう配置され、長手方向に沿って間隔をあけて配置された複数の保持部１２とでケーブルガイド１０を構成する。ケーブルガイド１０の板部１１と保持部１２とで囲まれる保持領域に、長手方向に沿って可撓性の配管１３を配置し支持した状態で、ケーブルガイド１０を保持部１２側に湾曲する。 （もっと読む）

【課題】
虚報を多発させることなく、システマティック欠陥を検出する半導体パターン検査装置を提供する。
【解決手段】
検査対象パターンを撮像して得た画像から抽出した特徴量と設計データから生成した設計データ画像から抽出した検査対象パターンを撮像して得た画像に対応する箇所の特徴量と検査対象パターンを撮像して得た画像と設計データ画像とを用いて作成した教示データの情報を用いて虚報と欠陥とを識別するための識別境界を算出し、検査対象パターンの検査領域を撮像して得た画像から検査対象パターンの検査領域の画像特徴量を算出し、検査対象パターンの検査領域に対応する設計データから設計データ画像を作成してこの作成した設計データ画像の特徴量を算出し、算出した検査対象パターンの検査領域の画像特徴量と設計データ画像の特徴量と識別境界とに基づいて検査対象パターンの検査領域内の欠陥を検出するようにした。 （もっと読む）

【課題】近年、走査電子顕微鏡などの荷電粒子線装置はユーザの裾野が広がっている。そのユーザの誰もが手動調整技術を習得することが求められているが、観察のためのパラメータ全てを適切な値に調整することは非常に困難である。このため初心者にとっては装置の性能を十分に発揮させることが難しかった。本発明は誰もが容易に手動調整技術を習得するためのパラメータ調整練習機能を備えた荷電粒子線装置を提供することを目的とするものである。
【解決手段】上記課題を解決するため、フォーカス調整および非点調整の練習手段を設ける。ユーザの操作に応じて対物レンズのフォーカス条件とＸ方向非点補正器とＹ方向非点補正器の制御条件を設定し、設定されたフォーカス条件とＸ方向非点補正条件とＹ方向非点補正条件の組に応じて、当該制御条件に対応した練習用画像を記憶装置から読み出し、画面に表示することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
エリプソメトリの技法を用いて結晶状態を迅速に判定することを可能にする。
【解決手段】
表面に多結晶シリコン薄膜が形成された試料を一方向に連続的に移動させながら試料に照明光を照射し、照明光が照射された試料からの反射光をｓ偏光成分とｐ偏光成分とに分離し、分離したｓ偏光の一部を偏光状態を変化させてｐ偏光を生成し、偏光状態を変化させて生成したｐ偏光と反射光から分離したｐ偏光の一部とを合成して合成光を作成し、作成した合成光を検出して第一の信号を得、反射光から分離したｐ偏光のうち一部を除いた残りのｐ偏光を検出して第二の信号を得、第一の信号と第二の信号とを処理して得た情報に基づいて試料の表面に形成された多結晶シリコン薄膜の結晶の状態を判定するようにした。 （もっと読む）

【課題】
ＳＥＭを用いて試料を撮像するための撮像レシピの自動生成において、（１）検査を要する箇所が増大すると，撮像レシピの生成に膨大な労力と時間を要する。（２）生成された撮像レシピの正確さ，そして生成時間が問題となる。（３）作成時に予想できなかった現象により，作成した撮像レシピによる撮像あるいは処理が失敗する場合がある。
【解決手段】
試料上の複数の評価ポイントの座標を入力するステップと、撮像時のスループットに基づき該複数の評価ポイントを撮像するための撮像シーケンスを決定するステップと、を有する撮像方法である。 （もっと読む）