説明

株式会社日立ハイテクノロジーズにより出願された特許

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【課題】装置の小型化のために結像レンズの焦点距離を小さくする場合又は高性能な分光のために対物レンズと結像レンズの間の距離を長くする場合、視野周辺領域における主光線傾きが大きくなり、受光感度が低下する。
【解決手段】拡大系イメージング装置において、イメージセンサにおけるマイクロレンズのピッチ(マイクロレンズピッチ)が受光器のピッチ(受光器ピッチ)よりも大きいものを採用する。 (もっと読む)


【課題】レーザ加工付近の気流の流れを制御して加工時に発生する加工デブリを効率的に除去できるようにする。
【解決手段】レーザ加工装置は、ワークに対してレーザ光を相対的に移動させながら照射することによってワークに所定の加工を施す。恒温室はこのレーザ加工装置の加工エリアを覆うように設けられる。恒温室には、上方から下方の加工エリアに向かうように恒温エアを供給するエア供給部と、加工エリア側から恒温室外に排気するエア排気部とを備えている。加工エリアを覆うように恒温室手段を設け、上方から下方に向けて恒温エアを流すことによって、恒温エアをワーク表面に接触させると共にワーク表面から横方向の流れによって、加工デブリを効率的にワーク表面から除去するようにした。 (もっと読む)


【課題】着脱式のチップを用いる分注機構において分注プロセスが正しく実施されたことを確認可能とする。
【解決手段】ノズル203を有するアーム202と、アーム202を水平移動させる回転中心である軸201とを含み、ノズル203の先端部に着脱式のチップを装着して溶液の吸引操作及び吐出操作をする分注機構において、ノズル203の軌道としてのノズル回転軌道204に対応する位置の少なくとも1か所に検知部(第一検知位置211又は第二検知位置212)を設け、この検知部にノズル203が接近する際に検知される信号を取得し解析して情報を得る信号解析部を設け、チップの装着操作、吸引操作、吐出操作及びチップの廃棄操作のうち少なくともいずれかの操作の前後における情報から操作の妥当性を確認する。 (もっと読む)


【課題】 サンプルを効率的にイオン化し、かつキャリーオーバーの少ない質量分析装置を実現する。
【解決手段】 サンプルを保持した試料容器の内部を減圧することにより、ヘッドスペースガス中におけるサンプル密度を上昇させ、サンプルを効率的にイオン化する。 (もっと読む)


【課題】従来技術では、欠陥の寸法を得ることは開示している。しかし、欠陥の寸法をより正確に得るためには、基板からの光を検出するセンサの状態を考慮しなければならないことについては、配慮が成されていない。
【解決手段】本発明は、上記の課題に配慮してなされたものであり、基板からの光を検出するセンサの中から、欠陥の寸法を得るために好適な部分を選択し、さらに前記好適な部分に対応させて基板を移動させることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】低段差試料や帯電試料の観察、測定等において、反射荷電粒子信号に基づく画像を形成する際にも、倍率変動や測長誤差によらずに正確な画像を取得する装置、及びコンピュータプログラムを提供する。
【解決手段】二次荷電粒子信号を検出する第1の検出条件と、反射荷電粒子信号を検出する第2の検出条件との間で、荷電粒子線の走査偏向量を補正するように偏向器を制御する装置、及びコンピュータプログラムを提供する。このような構成によれば、検出する荷電粒子信号の変更による倍率変動や測長誤差を補正することが可能となるため、反射荷電粒子信号に基づく画像を正確に取得することが可能になる。 (もっと読む)


【課題】ステージ上で大きく撓むようなマスク基板のクロム膜等のピンホール欠陥を高精度に検出する。
【解決手段】基板の表面にクロム膜等のマスクパターンが存在すると、基板の表面へ照射された光線はそのマスクパターンの形状や欠陥によって散乱され、基板の表面側の周囲にのみ散乱光が発生するようになり、基板の裏面側に透過する光線は存在しない。一方、このマスクパターンにピンホールが存在する場合、そのピンホールのエッジにて散乱した光の一部は基板の表面側で周囲に散乱光として発生すると共にそのピンホールを介して基板の内部へ透過し、基板裏面側の周囲に散乱光として発生することになる。これらの基板の表面及び裏面で検出された散乱光を、基板の表面側及び裏面側に配置された散乱光受光手段でそれぞれ受光することによって、ステージ上で大きく撓むようなマスク基板のクロム膜のピンホールを高精度に検出する。 (もっと読む)


【課題】リアルタイムで高速にラスタデータへ変換できる露光装置を提供する。
【解決手段】重複するデータを削除したベクタデータを格納するベクタデータメモリ1と、シーケンス制御命令に基づき、前記ベクタデータメモリに格納されたベクタデータから所望のベクタデータ情報を読み出すシーケンス制御手段4と、前記シーケンス制御手段にて読み出したベクタデータ情報をラスタデータに変換する座標演算手段5と、前記座標演算手段により変換されたラスタデータに基づき露光するドライバ11と、を備える露光装置である。 (もっと読む)


【課題】分注装置において、粘度の異なる液体でも圧力センサのデータをもとに泡や空気の吸い込み、詰まりなどの異常を検知する技術において、圧力を元に検知した場合には、ノズル等の仕様に依存するため、複雑な設定を必要とした。
【解決手段】分注装置は、ノズルと、ノズル内の圧力を変化させる圧力発生手段と、ノズル内の圧力を検知する圧力センサと、既知粘度の標準液の吸引又は吐出時の、圧力センサで得られる圧力波形の複数時点の圧力値から、当該複数時点に対応する粘度を求める変換式を記憶する記憶部と、未知粘度の流体の吸引又は吐出の際における、圧力センサで得られる圧力波形の当該複数時点の圧力値から各時点での粘度を、変換式を用いて算出する制御部と、を備える。 (もっと読む)


【課題】パターン段差の小さいウエハなど、明視野観察では十分なコントラストが得られない試料に対してコントラストの高い画像の観察又は撮像を可能にする。
【解決手段】撮像に用いる対物レンズを通して試料を照明し、撮像光学系に開口フィルタを設けて、明視野観察成分の光を大幅に減衰させて撮像する。 (もっと読む)


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