【課題】ＯＰＣ ｍｏｄｅｌ ｃａｌｉｂｒａｔｉｏｎに要する計算時間を削減しつつ、精度を向上させる。
【解決手段】半導体の回路パターンのマスクエッジデータ、および回路パターンを撮像した画像データを記憶する記憶部と、画像データを入力として回路パターンのＳＥＭ（Ｓｃａｎｎｉｎｇ Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ）輪郭線を抽出し、マスクエッジデータと抽出したＳＥＭ輪郭線のデータ（ＳＥＭ輪郭線データ）とに基づいて、露光シミュレーション部に予測ＳＥＭ輪郭線のデータ（予測ＳＥＭ輪郭線データ）を生成させるＳＥＭ輪郭線抽出部と、マスクエッジデータと、ＳＥＭ輪郭線データと、予測輪郭線データとを入力として、ＳＥＭ輪郭線データおよび予測ＳＥＭ輪郭線データを、１次元形状の輪郭線と２次元形状の輪郭線とに分類する形状分類部と、ＳＥＭ輪郭線データと予測ＳＥＭ輪郭線データとを入力とし、１次元形状及び２次元形状の種類に応じて、ＳＥＭ輪郭線データのサンプリングを行うＳＥＭ輪郭線サンプリング部と、を備える。 （もっと読む）

【課題】高感度検査や高精度計測を行うことが必要な部分領域を、効率的に決定する。
【解決手段】領域決定装置は、試料を検査して得た試料上の欠陥位置あるいは試料上において欠陥が発生する可能性があると予測された欠陥位置を撮像した画像を含む欠陥データの、少なくとも複数種の欠陥属性情報に基づき欠陥の発生度合いを算出する算出部と、発生度合いが所定以上となる欠陥データを抽出し、該抽出された欠陥データから観察または検査を行う試料上の領域を決定する領域決定部と、を有する。 （もっと読む）

【課題】低プローブ電流であっても、反射電子と二次電子とを弁別検出できる低加速の走査電子顕微鏡を提供する。
【解決手段】
電子銃２９と、アパ−チャ２６と、試料台３と、電子線３１を試料２上に収束するための電子光学系４−１と、偏向手段１０と、二次電子検出器８、反射電子検出器９と、電子銃２９と試料２の間となる位置に筒状の電子輸送手段５を備え、反射電子検出器９は電子輸送手段５の内部であって、二次電子検出器８及び偏向手段１０よりも電子銃２９に対して遠方側に設置され、反射電子検出器９の感受面９−１は電子輸送手段５と同電位となるように電気的に配線されている。 （もっと読む）

【課題】
繰り返しパターンと非繰り返しパターンとが混在する被検査対象基板に対して、微小な異物または欠陥を高速で、しかも高精度に検査できる欠陥検査装置を実現する。
【解決手段】
異物付着防止手段１８０は、透明基板１８７が枠１８５を介して載置台３４の上に設置される。異物付着防止手段１８０はベース１８６上に固定された２本の支柱１８４に回転可能に支持されたシャフト１８１がカップリング１８３でモータ１８２に連結されている。そして、２本に支柱１８４の間で、枠１８５の一部にシャフト１８１が挿入され、枠１８５及び透明基板１８７がシャフト１８１を中心として回動できるように構成されている。つまり、枠１８５全体がシャフト１８１を軸としてＺ方向に開閉する構造になっており、枠１８５及び透明基板１８７により、載置台３４上のウェハ１を覆うことができる。 （もっと読む）

【課題】膨大な量の基準データを必要とせずに様々な原因による分注の異常を高精度に検出して信頼性の高い分析ができる自動分析装置を実現する。
【解決手段】サンプルプローブ１５の先端が試料内に浸かった状態でプランジャ６６を所定量下降して試料をプローブ内に吸引する。吸引動作中の圧力変動を圧力センサ２６で検出し、ＡＤ変換器７５でデジタル変換して信号処理器７６に送る。信号処理器７６は吸引波形の特徴変数の値を抽出し、正常群データからの統計距離Ｄを計算する。統計距離Ｄと閾値ｔｈとが比較され、統計距離Ｄが閾値ｔｈ以上の場合は、吸引に異常ありと判定する。統計距離Ｄが閾値ｔｈより小さい場合は、吐出動作に移行する。吐出動作後、吐出波形の特徴変数の値を抽出し、正常群データからの統計距離Ｄを計算する。統計距離Ｄが定められた閾値ｔｈ以上の場合は吐出に異常ありと判定する。 （もっと読む）

【課題】基板の一面を複数のショットに分けて露光する際、ショット毎に、マスクと基板とがより平行な状態でギャップ合わせを行って、露光精度を向上させる。
【解決手段】マスクホルダ２０とチャック１０とを相対的にＺ方向へ移動及びチルトする複数のＺ−チルト機構３０と、マスク２と基板１とのギャップを複数箇所で測定する複数のギャップセンサー３０とを設ける。予め露光した基板のパターンを測定して、各ギャップセンサー４０の測定点におけるショット毎のオフセット値を決める。ショット毎に、各ギャップセンサー４０の測定値を、各測定点におけるショット毎のオフセット値で補正し、補正後の補正値に基づいて、複数のＺ−チルト機構３０によりマスク２と基板１とのギャップ合わせを行う。 （もっと読む）

【課題】分注プローブの試料等吸引高さの相違に関係なく、試料等の分注精度を向上可能な自動分析装置を実現する。
【解決手段】試料量が少ない場合、試料吐出直前の試料分注プローブ１７先端高さｈ‘に対し試料吸引直後の試料分注プローブ１７先端の高さｈ１は低く試料吐出直前の試料分注プローブ１７先端試料は凹の状態となる。試料量が多い場合、ｈ‘に対し試料分注プローブ１７先端高さｈ２はが高く試料分注プローブ１７の先端試料は凸の状態となる。試料吸引時の試料分注プローブ１７先端高さの違いが、試料吐出量の差になる。試料吸引時の試料分注プローブ１７の先端高さを検出して、その高さにより、試料吐出時に定量分注シリンジ２５の駆動量として補正すれば精度良く信頼性の高い測定データを提供することができる。 （もっと読む）

【課題】本発明の課題は、スタンパのゆがみを補正するスタンパの変形機構を有しながらもスタンパの面方向における小型化を達成することができる微細構造転写装置を提供することにある。
【解決手段】微細構造を有するスタンパ２を用いて、被転写体１上の光硬化性樹脂組成物に微細構造を転写する微細構造転写装置１５において、前記スタンパ２は、前記微細構造が形成される微細構造形成層４と、この微細構造形成層４における前記微細構造の形成面の反対側で、この微細構造形成層４に沿うように設けられる光照射層５と、この光照射層５における前記微細構造形成層４側の面と反対の面に配置されると共に、前記スタンパ２を前記被転写体１側に凸となるように湾曲させる圧電素子６と、を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】太陽光などの投光波長以外の光を極限まで制限して、投光波長のみを受光できるようにする。
【解決手段】干渉膜を使った平面板の干渉フィルタを用いて広い視野の検出手段を構成すると、平面板の干渉フィルタへの入射角に応じて透過帯域の移動が起こり、所望の信号強度を得ることが困難となる。この発明は、干渉フィルタの形状を球面状にして全視野の受光光線を干渉フィルタの入射面に対して垂直に入射するようにして、透過帯の移動をなくし、所望の信号強度を得るようにした。また、受光レンズの第一主点と球面状干渉フィルタの球面中心とを一致させて配置することにより、干渉フィルタへ入射する反射光の入射角を０°にして透過帯域が変化しないようにした。 （もっと読む）

【課題】頂点部分の再生処理を繰り返し行っても引出電圧の変動が微小なイオン源エミッタを提供する。
【解決手段】本発明に係るエミッタでは、先端を単原子を頂点とする三角錐形状として、かつ先端を頂点側から見た形状を略六角形とした。 （もっと読む）