【課題】試料ダメージ及びコンタミネーションを増加させることなく、加速電圧の使用範囲が比較的大きい電子顕微鏡を提供する。
【解決手段】電子顕微鏡は、電子銃からの電子線を試料に照射する電子線光学系と、試料からの電子を検出する電子検出器とを有する。電子検出器は、セラミックシンチレータと、該セラミックシンチレータからの光を電流に変換する光電変換素子とを有し、前記セラミックシンチレータは、蛍光体を焼結して形成したセラミック蛍光体を含み、該セラミック蛍光体の厚さは、２００〜３００μｍである。 （もっと読む）

【課題】分析パラメータにオペレータが容易に登録・変更オープンチャンネルを通常使用できないため、専用キー情報を使用することで使用可能とすることができる自動分析装置を実現する。
【解決手段】外部媒体から提供される許可キー情報を専用ログインＩＤ／パスワードを使用することにより、オープンチャンネルの使用をオペレータに開放する。 （もっと読む）

【課題】従来構造に比して少ない使用量のシールド材により、高い磁気シールド効果を実現する。
【解決手段】カラム軸方向に又は同心円上に、カラム及び若しくは電子レンズの一部全周に亘り配置される、又は、カラム及び若しくは電子レンズの一部外壁の全周に沿って配置される、透磁率の高い方向がカラム軸の方向とは異なる異方性構造を設ける。 （もっと読む）

【課題】校正試料や精度管理試料の状態を一定に保つことにより、より信頼性の高い校正や精度管理を行うことができる自動分析装置を提供する。
【解決手段】分析対象試料が収容される試料容器１７を載置する試料ラック１８を搬送するための搬送ライン９，１０と、搬送ライン９，１０に沿って配置され、分析対象試料の定性・定量分析を行う複数の分析ユニット５〜８とを備えた自動分析装置において、分析表示部１５に表示した精度管理試料登録情報画面２００，３００により、分析対象試料を分析に使用可能な状態にする調製処理の条件を定めた精度管理試料情報を設定し、その精度管理試料情報に基づいて分析対象試料の調製処理を行う。 （もっと読む）

【課題】深さ方向に高アスペクト比を有するパターンの検査又は測定時に使用する予備帯電（プリドーズ）において、適切な照射条件の設定が、プリドーズ後に撮像された画像を目視するオペレータの判断に委ねられている。すなわち、照射条件の設定が属人的である。
【解決手段】予備帯電（プリドーズ）に使用する電子ビームの照射条件を変更しながら撮像された画像を画像分析し、分析結果に基づいて適切な照射条件を定量的に自動判定する。 （もっと読む）

【課題】従来の微細構造転写装置と比較して、スタンパの交換に要する時間を短縮することができると共に、スタンパの転写面に異物が付着するのを防止することができる微細構造転写装置を提供する。
【解決手段】スタンパヘッド２３に取り付けられたスタンパ２を被転写体５に押し付けて、前記スタンパ２に形成された微細な凹凸パターンを前記被転写体５の表面に転写する微細構造転写装置１において、前記スタンパヘッド２３に対して近接移動可能な移動ステージ３１と、この移動ステージ３１に設けられたスタンパ保持部３２とを備え、前記スタンパ保持部３２が、前記スタンパ２の前記凹凸パターンの形成面を粘着保持可能な粘着層３５を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 マスクが大型化しても、基板との間で高い精度の平行度を維持してマスクを保持して高い精度での露光を可能とするプロキシミティ露光装置とマスク保持機構を提供する。
【解決手段】 プロキシミティ露光装置のマスク保持機構を構成するホルダフレーム２１は、その各辺から開口部内に突出して取り付けられた複数の突出部２１２と、突出部に取り付けられた複数の空気ばね２３と、空気ばねを介して突出部に搭載されたマスクホルダに対し、３又は４箇所で、マスクを基板の表面に対して所定の微小ギャップで平行に配置する調整力を付与するチルト駆動モータ２２を備えており、そして、複数の空気ばねの少なくとも一部は、当該空気ばねの内部圧力を調整するためのコンプレッサやアキュムレータや制御バルブ２３３からなる調整機構を備えている。 （もっと読む）

【課題】Low-k膜を有する試料のプラズマアッシング処理において、高速にアッシング処理を行いつつ、Low-k膜に対する膜ダメージを抑制または低減する処理方法を提供する。
【解決手段】Low-k膜１５を有する試料をプラズマ処理するプラズマ処理方法において、前記試料をプラズマエッチングする工程と、炭化水素系ガスであるメタン(CH₄)ガス１９と希ガスであるアルゴン(Ar)ガスとからなる混合ガスを用いて、プラズマエッチング工程でプラズマエッチングされたレジストマスク１３、炭素ハードマスク１４、反応生成物１６が付着したLow-k膜１５を有する試料を、メタン(CH₄)ガス１９からの炭素（C+)ラジカル１８と水素(H+)ラジカル１９により、プラズマアッシングする工程を有するプラズマ処理方法である。 （もっと読む）

【課題】水位センサや圧力センサ等の機構を設置することなく、希釈容器内の溶液の液面高さや、希釈容器に吐出される溶液の単位時間当たりの流量を測定することができる自動分析装置を提供する。
【解決手段】自動分析装置において、制御部は、シッパーノズル２２２が希釈容器２０３内の液体に接触していない状態で電解質測定部にて測定した起電力Ｅ０を記憶部に記憶し、シッパーノズル２２２が希釈容器２０３内の液体に接触する状態までの過程で電解質測定部によって得られた起電力Ｅｎと記憶部に記憶している起電力Ｅ０とに基づいて、希釈容器２０３内の液体の液面高さを検出する処理を制御する。そして、起電力Ｅｎと起電力Ｅ０との差が閾値ΔＥ以上となったことを判断して、希釈容器２０３内の液体の液面高さを検出する。 （もっと読む）

【課題】鏡筒自身の重量を増加させることなく、鏡筒を高剛性化し、鏡筒へ作用する振動を低減させる荷電粒子装置を提供する。
【解決手段】荷電粒子装置は、筒形の鏡筒と、該鏡筒の内部に設けられた荷電粒子線光学系と、該鏡筒に設けられた試料ステージと、前記鏡筒を支持する支持装置と、を有し、前記支持装置は、前記鏡筒の軸線方向に沿って設定された複数の支持点にて前記鏡筒を単純支持する単純支持構造を有し、前記鏡筒の支持点は、前記鏡筒を両端が自由端である梁と看做したときの梁の振動の節の位置に対応する位置に設けられている。 （もっと読む）