【課題】ダイアフラムを備える光学式撮像装置を提供する。
【解決手段】本発明による光学式撮像装置は、光線経路に配置された複数の光学素子と、開口部、第１領域、および第２領域を有するダイアフラムであり、第２領域が、ダイアフラムの径方向に沿って第１領域の内側に延在する、ダイアフラムと、格納部と、を備え、格納部は、複数の光学素子の前記光線経路外に配置され、ダイアフラムは、格納部内の第１位置と、光線経路内の第２位置との間で移動可能であり、第２領域は、第１領域に対して、ダイアフラムの径方向に対して垂直方向に沿って外側に延在する、ことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】光学系と基板との間の作動距離ができるだけ小さい場合に光学系の結像方向に関して基板の位置を決定することができる装置および方法を提供する。
【解決手段】マイクロリソグラフィ投影露光用の装置（１０）は、結像光線によってマスクパターン（１６）を投影することにより基板（２０）の表面（２１）にマスクパターン（１６）を結像するための光学系（１８）を備え、光学系（１８）は、ＥＵＶおよび／または高周波数の波長領域で作動するように構成されている。測定光線（３４）を案内するための測定光路（３６）を備え、光学系（１８）の少なくとも２つの光学素子（２２）が測定光路に含まれ、測定光路（３６）は、光学系（１８）が装置（１０）の作動時に測定光線（３４）によって部分的にのみ照射されるように、光学系（１８）の内部に延在している。貼り付けしてから→マクロの中のリムーブＣＲを選択する改行がとれる。 （もっと読む）

【課題】物体を結合する際、接着剤の収縮に起因する変形を減少させ、用いた接着剤の収縮後におけるパネル形物体の所望の変形状態を実現させるものである。
【解決手段】第２の物体３は、少なくとも１方向Ｘに第１の物体２の縁部２'を越えて突出する。少なくとも１つの結合面２ａ上に、複数のスペーサ４ａ〜４ｅ，４ａ’〜４ｅ’を備え、スペーサの間の中間領域6a〜6d、および外側のスペーサから、第１の物体の縁部に形成される接着剤の外面５ａまで接着剤５を塗布する。さらに、物体を、結合面をスペーサに接触させることにより結合し、接着剤の外面と最外側のスペーサとの間の所定の距離ｄは、塗布した接着剤の収縮後、パネル形物体が所望の変形状態、とりわけパネル形物体の撓みを最小化させる。 （もっと読む）

【課題】伝達される物体フィールドを照明するための放射の質を改善するコレクタを提供する。
【解決手段】ＥＵＶ放射源からの放射を集光して伝達するためのＥＵＶコレクタ（１５）が、中心軸（２４）に対して回転対称に構成された、ＥＵＶ放射源の放射を反射するための少なくとも１つのコレクタミラー（２３）と、この少なくとも１つのコレクタミラー（２３）を冷却するための冷却装置（２６）とを備え、冷却装置（２６）が、コレクタミラー（２３）に対する進路を有する少なくとも１つの冷却要素（２７）を有し、この進路を中心軸（２４）に垂直な平面内に投影したものに、予め定めた好ましい方向（２９）との間の最大２０°の角度ｂがいずれの場合にも含まれるようにする。 （もっと読む）

【課題】ＵＶ又はＥＵＶリソグラフィ用の光学素子における変形を低減するための光学素子を提供する。
【解決手段】基板４１の第１の表面４２上に機能性コーティング４６を備える光学素子であって、基板４１は、第１の表面４２と共通の縁部４５を有する第２の表面４３を備え、第２の表面４３は、コーティング４７も有し、第２の表面４３上のコーティング４７の厚さｔ_２及び応力σ_２を、第１の表面４２上の機能性コーティング４６の厚さｔ_１及び応力σ_１と組み合わせて条件ｔ_１・σ_１／ｔ_２・σ_２＝Ｘを満足し、式中、Ｘが０．８〜５．０の値を有するよう選択する。 （もっと読む）

【課題】マイクロリソグラフィにおける使用のための現在の設計の投影対物器械は、露光視野にわたって変化する迷光成分を有する。
【解決手段】視野にわたる迷光成分の変動は、付加的迷光を導入することによって低減され、及び／又は別の投影対物器械の変動に適応させることができる。これは、視野近接表面の表面粗度を事前適応させるか又は変更することにより、及び／又は特別にターゲットを定めた光散乱特性を有する光学要素を瞳平面に設置することにより有利に達成される。このことにおいて、本発明は、視野にわたる迷光成分の変動、及び異なる投影対物器械の迷光成分の異なるそれぞれの変動が、半導体構成要素の製造業者に対して迷光成分それ自体よりもより大きい問題を呈するという観測を利用する。 （もっと読む）

【課題】特にマイクロリソグラフィの投影露光系において、ＥＵＶ領域の光によって極力正確な像を確保すること。
【解決手段】本発明は、特にマイクロリソグラフィ用の投影露光系に関する。本発明に係る投影露光系は、ＥＵＶ領域の光を発生させるための光源（１８）を備えている。投影露光系はさらに、光源（１８）の光によってマスク（２５）を照明するための第１の光学系（１９、２０、２１、２２、２３、２４）と、部材（３２）にマスク（２５）を結像するための第２の光学系（２６、２７、２８、２９、３０、３１）とを備えている。光源（１８）と部材（３２）との間のビーム経路に、少なくとも一つの偏光光学素子（１）が配置されている。 （もっと読む）

【課題】有効利用する波長において、ＥＵＶ光源、特に、ＥＵＶプラズマ光源の光源パワー及び光源位置を十分な精度を持って測定することができる測定手段を備えたＥＵＶ照明システムを提供する。
【解決手段】少なくとも一つのＥＵＶ（ｅｘｔｒｅｍｅ ｕｌｔｒａｖｉｏｌｅｔ）光源（３）と、特に、有効利用する波長の範囲で、ＥＵＶ光源（３）の、又はＥＵＶ光源（３）の中間像の一つの強度変動及び／又は位置変化を測定する開口絞り及びセンサ装置（１）とを備えたＥＵＶ照明システムにおいて、開口絞り及びセンサ装置（１）は、開口絞り（２．１）とＥＵＶ位置センサ（２．３）とを有し、開口絞り及びセンサ装置（１）は、開口絞り（２．１）がＥＵＶ光源（３）から、又はその中間像（７）の一つから発せられる照射の所定の立体角範囲がＥＵＶ位置センサ（２．３）に当たるように配置される。 （もっと読む）

【課題】ハウジング構造体とこの中に配置された光学素子との間に単純で再現可能な接続を有するハウジング構造体を形成すること。
【解決手段】ハウジング構造体は、装着部６若しくは構造モジュールに保持された複数の光学素子５が、複数の接続部材７によって配置されたフレーム構造体１を有している。光学素子５は、取付け状態で、取着部若しくは構造モジュールと接続部材とが、支持ユニットしてフレーム構造体に一体的であるように、取着部６若しくは構造モジュールと接続部材７とによってフレーム構造１に着脱可能に接続されている。 （もっと読む）

【課題】マイクロリソグラフィシステムの投影光学系の補助光学系の支持部で、システム全体が複雑化せず、気密で、光密な筐体の構造を提供する。
【解決手段】第１光学素子モジュール７は、第１筐体と、少なくとも第１光学素子とを有し、この第１光学素子は第１筐体内に収納され、第１光学軸１０．１３を規定し光学的に利用される第１光学的利用領域１０．７を有し、少なくとも１つの第２光学素子モジュール８は、第１光学素子モジュール７に隣接して設けられ、少なくとも１つの第２光学素子を有し、この第２光学素子は投影光学ユニット２の第２光学軸１０．１４を規定する。第１筐体は、第１筐体軸３．２と、第１光学軸１０．１３に対して周方向に延びる外壁３．３を有し、第１光学軸１０，１３は、横方向にずれており、第１筐体軸３．２に関して傾斜している軸の少なくとも一つであり、さらに、第１筐体軸３．２は実質的に第２光学軸８．３と同一直線上にある。 （もっと読む）