【課題】光学試験表面の誤差と適合光学系の誤差とを分離することを可能にする方法及び装置を提供する。
【解決手段】光学試験表面１４の形状を判定する方法は、測定ビーム３０の波面を適合光学系２０により光学試験表面１４の所望の形状に適合させ、光学試験表面１４の形状を適合済測定ビームにより干渉測定するステップと、適合済測定ビームを光学試験表面に種々の入射角で照射し、測定ビームの波面を光学試験表面１４との相互作用後にそれぞれ測定するステップと、個々の入射角ごとに測定された波面からの干渉測定結果に対する適合光学系２０の影響を確定するステップと、光学試験表面の形状を、適合光学系２０の確定された影響を干渉測定結果から除去することにより判定するステップとを含む。 （もっと読む）

【課題】望ましくない変形の発生を可能な限り妨げることにより、６自由度までの光学素子またはアセンブリの正確な操作を可能とする、光学素子操作装置を提供する。
【解決手段】少なくとも３つのアクチュエータデバイスを介して、構造体について、光学素子を６自由度まで操作する装置であって、各アクチュエータデバイス９が、少なくとも２つの力制御アクチュエータを備え、各力制御アクチュエータが、１自由度の有効な力を生成すると共に、アクチュエータデバイス９の連結点１１が、光学素子７に直接作用する。 （もっと読む）

【課題】物体平面に配置されるパターンを像平面内に結像するマイクロリソグラフィ投影対物レンズにおいて迷光を抑制する。
【解決手段】物体平面に配置されるパターンを像平面内に結像するマイクロリソグラフィ投影対物レンズ１０が提供され、第１対物レンズ部１６と、第２対物レンズ部１８と、少なくとも一つの第３対物レンズ部２０とを備え、第２対物レンズ部１８は、第１対物レンズ部１０における光伝搬方向および第３対物レンズ部２０における光伝搬方向と異なる光伝搬方向を規定し、かつ第１対物レンズ部１０と第２対物レンズ部１８との間および第２対物レンズ部１８と第３対物レンズ部２０との間に少なくとも一つのビーム偏向装置２２をさらに備え、少なくとも一つのシールド２４が、第１対物レンズ部１６から第３対物レンズ部内２０への直接光漏れが少なくとも減少するようにしてビーム偏向装置２２の領域に配置される。 （もっと読む）

【課題】反射屈折投影対物系、投影露光装置、及び半導体構成要素及び他の微細構造化構成要素を製造する方法を提供する。
【解決手段】物体平面５の物体視野３を像平面９の像視野７上に結像するためのマイクロリソグラフィのための反射屈折投影対物系１は、物体視野を第１の実中間像１３上に結像する第１の部分対物系１１、第１の中間像を第２の実中間像１７上に結像する第２の部分対物系１５、及び第２の中間像を像視野上に結像する第３の部分対物系１９を含む。第２の部分対物系は、厳密に１つの凹ミラー２１及び少なくとも１つのレンズを有する反射屈折対物系である。第１の折り返しミラー２３及び第２の折り返しミラー２５が設けられる。第２の部分対物系のレンズの少なくとも１つの面は、０．２％よりも低い反射率を有する。第２の部分対物系のレンズの全ての面は、周縁光線同心からのずれが２０°よりも大きいか又はそれに等しいように構成される。 （もっと読む）

【課題】マイクロリソグラフィ投影露光機の投影対物レンズの製造方法、及びそれにより対応して製造された投影対物レンズであって、高精度結像を得ることができ、特に材料の影響による結像収差又は設計固有の結像精度を最小化することができるものを提供する。
【解決手段】光学レンズ５を、シリコン含有材料の酸化により回転円板１上に堆積されるガラス、特に石英ガラス、好適には合成石英ガラスから製造し、回転円板をガラス堆積中に回転させることで、ガラスから成る円板４又はリングができるようにし、そこから光学レンズ５を切り離し、光学レンズ毎に円板又はリングの中心方向における二等分線が方位角０°を定義し、少なくとも１つの光学レンズを、光軸方向にｚ軸をとった投影露光機のデカルトｘｙｚ座標系において、ｘ軸と平行な方位角を０°として組み込み、少なくとも１つの光学レンズを、ｙ軸と平行な方位角を０°として組み込む。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶリソグラフィのための照明システム、及びこの種の照明システムにおける使用のための第１及び第２光学要素を提供する。
【解決手段】第１光学要素７は、照明システムに２次光源を発生させるために用いられる。ＥＵＶ放射線によって衝撃を受ける第１光学要素７の表面は、複数の第１ファセット要素８から１１に分割される。後者の各々は、ＥＵＶ放射線の部分ビームに関連付けられる。２次光源の位置にある第２光学要素２０は、ＥＵＶ放射線により第１光学要素７を通じて衝撃可能領域にわたって衝撃を受け、衝撃可能表面は、複数の第２ファセット要素２１から２４に分割されている。後者の各々は、それぞれの第２ファセット要素２１から２４に衝撃を与えて２次光源を発生させる第１ファセット要素８から１１の少なくとも１つと関連付けられる。 （もっと読む）

【課題】半導体リソグラフィ用のＥＵＶ投影露光装置などの投影露光装置に電磁放射を光ファイバで案内する装置で、ファイバの射出端における強度プロファイル分布を均一にする装置を提供する。
【解決手段】投影露光装置１１に電磁放射１５を案内する光ファイバ１”の一部分に機械的操作を加えるアクチュエータ１４が設けられ、その結果として、前記ファイバ１”の射出端に出現する電磁放射の強度プロファイルが時間的に平均化され均一化される。 （もっと読む）

【課題】対物光学系、特に、投影対物光学系、好ましくは、マイクロリソグラフィー投影対物光学系の提供。
【解決手段】光線束を通過させる開口部を有さない少なくとも１枚の鏡Ｓ１を有する第１部分対物光学系１００と、少なくとも１枚の１次凹面鏡ＳＫ１と１枚の２次凹面鏡ＳＫ２を有する第２部分対物光学系２００とを含み、１次凹面鏡ＳＫ１と２次凹面鏡ＳＫ２が光線束を通過させる開口部を有する、動作波長が特に１９３ｎｍ以下の、対物光学系、特にマイクロリソグラフィー投影対物光学系に関する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、複数の投影対物レンズ（１０）のうち各々が１つの物体視野（５０）を像視野（６０）の中に結像する投影対物レンズを備える投影露光装置（１）に関する。
【解決手段】像視野（６０）は基板領域（４０）において１つの基板平面の中に配置されており、基板領域（４０）が所定の走査方向（５）で複数の投影対物レンズと相対的に移動可能であり、前記投影対物レンズの少なくとも１つが前記基板平面に対して垂直に延びない該投影対物レンズの光軸の部分区間を有し、かつ前記部分区間の投影が基板平面の中へ走査方向（５）と平行に延びない。 （もっと読む）

【課題】照明光学ユニット、照明系、投影露光装置、微細構造化又はナノ構造化構成要素を生成する生成方法、及び生成された微細構造化構成要素又はナノ構造化構成要素を提供する。
【解決手段】結像される物体を配置することができる物体視野を照明光で照明する投影リソグラフィのための照明光学ユニットは、複数の視野ファセットを有する視野ファセットミラーを有する。照明光学ユニットの瞳ファセットミラーは、複数の瞳ファセットを有する。瞳ファセットは、瞳ファセットに対して個々に割り当てられた視野ファセットを物体視野に結像するように機能する。照明光学ユニットの個々のミラーアレイは、個々に従動方式で傾斜可能な個々のミラーを有する。個々のミラーアレイは、視野ファセットミラーの上流の照明光ビーム経路に配置される。これは、照明光学ユニットによって柔軟に構成可能で所定の値に容易に適応可能な照明をもたらす。 （もっと読む）