【課題】異なる振動周波数、及び、異なる振動のアライメントの場合においても、非常に良好な振動を減衰する、光学素子、及び、光学素子のための取付具を提供する。
【解決手段】取付具２は、光学素子１が固定される内部リング３、作動要素４を介して接続される外部リング５とを備え光学要素１の振動エネルギーを摩擦により低減する。要素７は、付加質量８を備え、付加質量８は、流動性媒体９にて満たされると共に、内部リング３の切り欠き部１１に位置するコンテナ１０に配置する。 （もっと読む）

【課題】有効利用する波長において、ＥＵＶ光源、特に、ＥＵＶプラズマ光源の光源パワー及び光源位置を十分な精度を持って測定することができる測定手段を備えたＥＵＶ照明システムを提供する。
【解決手段】少なくとも一つのＥＵＶ（ｅｘｔｒｅｍｅ ｕｌｔｒａｖｉｏｌｅｔ）光源（３）と、特に、有効利用する波長の範囲で、ＥＵＶ光源（３）の、又はＥＵＶ光源（３）の中間像の一つの強度変動及び／又は位置変化を測定する開口絞り及びセンサ装置（１）とを備えたＥＵＶ照明システムにおいて、開口絞り及びセンサ装置（１）は、開口絞り（２．１）とＥＵＶ位置センサ（２．３）とを有し、開口絞り及びセンサ装置（１）は、開口絞り（２．１）がＥＵＶ光源（３）から、又はその中間像（７）の一つから発せられる照射の所定の立体角範囲がＥＵＶ位置センサ（２．３）に当たるように配置される。 （もっと読む）

【課題】光学素子の位置決めで、高い精度及び大きな制御帯域幅を得ると共に支持要素の寿命を延ばすことを単純な方法で可能にする、マイクロリソグラフィ投影露光システムの光学素子を支持するための支持要素及び方法を提供する。
【解決手段】光学素子１０６．１を保持する、２つのバイポッドブレースを含むバイポッド１０９．１は、一方のブレースヘッドと２つのブレースフットを接続する接続線とがバイポッド１０９．１平面上に位置するようになっており、ブレースフット間の間隔は、軸受上に保持されて接続ユニットを介して一方のブレースフットと係合して１つの動作方向に可動であり、１つのレバー１１３により調整することができ、接続ユニットは、厳密に１つの曲げ平面を有する少なくとも１つのフレクシャ１１４を有し、フレクシャ１１４は、曲げ平面に対して垂直方向に剛性構成を有するようになっている。 （もっと読む）

【課題】半導体リソグラフィー用のミラーアレンジメントの製造方法、及び、電磁放射線の反射のためのミラーアレンジメントを提供する。
【解決手段】基板２の前面３は、ミラー領域４を形成することを目的とする複数の光学層５が設けられる。この場合、基板２の前面３は、光学層５の適用に先立って、前面３が、要求された寸法精度を有するように、第１作業ステップにて処理される。第２作業ステップにおいては、少なくとも１つの電気的導電性経路７が、光学有効領域Ａの外側で、基板２の前面３に適用されている。第３作業ステップにおいては、電気的導電性経路７の適用により引き起こされた寸法精度の変化を補正するために、基板２の前面３は、少なくとも電気的導電性経路７に隣接する領域にて後処理される。光学層５は、第４作業ステップにて適用される。 （もっと読む）

【課題】反射屈折投影対物系、投影露光装置、及び半導体構成要素及び他の微細構造化構成要素を製造する方法を提供する。
【解決手段】物体平面の物体視野を像平面の像視野上に結像するためのマイクロリソグラフィのための反射屈折投影対物系は、物体視野を第１の実中間像上に結像する第１の部分対物系、第１の中間像を第２の実中間像上に結像する第２の部分対物系、及び第２の中間像を像視野上に結像する第３の部分対物系を含む。第２の部分対物系は、厳密に１つの凹ミラー及び少なくとも１つのレンズを有する反射屈折対物系である。第１の折り返しミラー及び第２の折り返しミラーが設けられる。第２の部分対物系のレンズの少なくとも１つの面は、０．２％よりも低い反射率を有する。代替的又は追加的に、第２の部分対物系のレンズの全ての面は、周縁光線同心からのずれが２０°よりも大きいか又はそれに等しいように構成される。 （もっと読む）

【課題】ＮＡ＞１の開口数で液浸リソグラフィを可能にする真空紫外（ＶＵＶ）領域で使用するのに適する反射屈折投影対物レンズを提供する。
【解決手段】物体面１０１上に設けられたパターンを像面１０２上に結像するための反射屈折投影対物レンズ１００であって、物体面上に設けられたパターンを第１中間像１０３に結像する第１対物レンズ部１１０、第１中間像を第２中間像１０４に結像する第２対物レンズ部１２０、及び第２中間像を像面上に結像する第３対物レンズ部１３０、を備え、第１連続鏡面を有する第１凹面鏡１２１と、第２連続鏡面を有する少なくとも１つの第２凹面鏡１２２とが、第２中間像の上流側に配置され、ひとみ面が、物体面と第１中間像との間、第１及び第２中間像の間、及び第２中間像と像面との間に形成され、すべての凹面鏡が、ひとみ面から光学的に離して配置される。 （もっと読む）

【課題】集積回路を製造するためのマイクロリソグラフィーにおいて、マスク乃至レチクル形態の対象物をEUV照射によって照らすために使用される公知の照明システム及びそれらを備えた投影露光システムを指定サイズのEUVにより処理能力が増加する乃至所定のEUV処理能力によりサイズが減少されるよう、更に発達させることである。
【解決手段】光学軸の方向にEUV照射を集束するコレクタ、二次光源を発生するための第一光学要素、上記二次光源の位置に配置された第二光学要素及び第一光学要素と合わせて最大５つとなる更なる光学要素をコレクターと照明領域の間に備える照明システムにおいて、光学要素と光学軸が６０°よりも大きいか３０°よりも小さい入射角で交わり、光学軸の少なくとも一つの軸部分が少なくとも二つの光学要素の間において照明主要面に対して傾斜していることを特徴とする、照明システムによって成し遂げられる。 （もっと読む）

【課題】異なる視野点における結像収差の補正が容易なマイクロリソグラフィのための反射屈折投影対物系を提供すること。
【解決手段】反射屈折投影対物系は、物体面に配置された軸外物体視野を投影対物系の像面に配置された軸外像視野上に結像するように配置された複数の光学要素を含む。光学要素は、物体面から到来する放射線から第１の中間像を発生させ、かつ第１の瞳面を含む第１の屈折対物系部分と、第１の中間像を第２の中間像へと結像する少なくとも１つの凹面ミラーを含み、かつ第１の瞳面と光学的に共役な第２の瞳面を含む第２の対物系部分と、第２の中間像を像面上に結像し、かつ第１及び第２の瞳面と光学的に共役な第３の瞳面を含む第３の屈折対物系部分とを形成する。物体面と第１の瞳面の間に配置された光学要素は、第１の瞳面に光学的に近く配置された負のレンズ群を含むフーリエレンズ群を形成する。 （もっと読む）

【課題】光学結像装置、マスク、結像誤差を判断する方法、及び本方法を利用する結像処理を提供する。
【解決手段】光学要素群105.2は、複数の光学要素107、108、109、110、111、112を含み、かつ基板106.1上に投影パターン104.3を結像するように設計され、測定装置113は、投影パターン104.3が基板106.1上に結像される際に発生する少なくとも１つの結像誤差を判断するように設計され、測定装置113はまた、検出ユニット113.1を含み、検出ユニット113.1は、光学要素群105.2によって生成された、マスク装置104の領域に配置された少なくとも１つの測定要素113.2の測定像を検出するように設計され、測定装置113は、測定像を用いて結像誤差を判断するように設計される。 （もっと読む）

【課題】光学素子に対する局所的な熱による環境影響を簡単に補償することを可能にする光学結像装置および光学結像法を提供する。
【解決手段】投影パターンを有するマスクを収容するためのマスク装置と、光学素子群を有する投影装置と、基板を収容するための基板装置と、液浸ゾーン１１０とを備える、特にマイクロリソグラフィで使用するための光学結像装置である。光学素子群が、基板に投影パターンを投影するように構成されており、作動中に少なくとも一時的に液浸ゾーン１１０に隣接して配置される液浸素子を有する複数の光学素子を備える。作動中に液浸ゾーン１１０が液浸素子と基盤との間に配置され少なくとも一時的に液浸媒体１１０．１が充填される。熱減衰装置１１１が設けられており、この熱減衰装置１１１は、液浸媒体１１０．１によって液浸素子の温度分布ＴＥに誘発される変動を減じるように構成されている。 （もっと読む）