【課題】偏光影響光学装置、及びマイクロリソグラフィ投影露光装置の光学系、特に、照明系又は投影対物系、特に、望ましい偏光分布を具備する上で高い柔軟性を可能にする偏光影響光学装置を提供する。
【解決手段】本発明は、第１のλ／２板（２１０，２３０）と第２のλ／２板（２２０，２４０）とを含む少なくとも１つの対を含む偏光影響光学装置に関し、第１のλ／２板（２１０，２３０）と第２のλ／２板（２２０，２４０）は、互いに部分的に重なって重ね合わせ領域（Ａ，Ｃ）と少なくとも１つの非重ね合わせ領域（Ｂ−１，Ｂ−２；Ｄ−１，Ｄ−２）とを形成する。 （もっと読む）

本発明は、マスク検査装置の照明系及び投影対物系に関する。本発明の態様により、マスク検査装置の作動中の照明系（６１０）は、重心光線を有する照明光線束（６１５）を用いてマスク（６３０）を照明し、この重心光線は、マスク（６３０）上の照明光線束（６１５）の入射場所に依存する方向を有する。 （もっと読む）

【課題】光学ラスタ要素と、光学ラスタ要素を含む光学インテグレータと、マイクロリソグラフィ投影露光装置の照明系とを提供する。
【解決手段】マイクロリソグラフィ投影露光装置の照明系のための光学ラスタ要素は、平面又は曲面上に延びる屈折光学要素のアレイを含む。光学要素の少なくとも２つは、基準方向に沿って２ｍｍよりも短いピッチで並んで配置される。これらは、上述の面に対して垂直に５０μｍよりも低い高さと、中心区画、中心区画に隣接する２つの移行区画、及び移行区画に隣接する２つの端部区画を含む基準方向（ｘ）に沿った面プロフィールとを有する。２つの移行区画における曲率は、中心区画及び端部区画における曲率よりも大きい。光学ラスタ要素は、光学インテグレータ内の第１のチャンネル板として用いるように意図され、第２のチャンネル板内又はその背後で発生する最大光強度を低減する。 （もっと読む）

ファセットミラー（６；１０）は、マイクロリソグラフィにおける使用に向けて役立つ。ファセットミラー（６；１０）は、ＥＵＶ照明光（３）の部分ビームを導くための照明チャンネルを予め定義する複数のファセット（７；１１）を有する。ファセット（７；１１）の少なくとも一部は、アクチュエータ（３１；３５）を有する調節デバイス（３０；３４）を用いて、ファセット反射平面（ｘｙ；ｘ’ｙ’；ｘ’’ｙ’’）に垂直な移動成分（３２；ｄｚ’；ｄｚ’’）を伴って変位可能である。これは、ファセットミラーの使用中に達成すべき望ましい照明事前定義に準拠するように作られた所定の要件が従来技術と比較して低い製造費用で達成されるファセットミラーをもたらす。 （もっと読む）

マイクロリソグラフィ用の投影露光ツール（１００）で使用するための配置構成は、反射光学素子（１０；１１０）と放射検出器（３０；３２；１３０）を備える。反射光学素子（１０；１１０）は、光学素子（１０；１１０）の機械的強度を保証するキャリア要素（１２）と、キャリア要素（１２）上に配設された、使用放射（２０ａ）を反射するための反射コーティング（１８）とを備える。キャリア要素（１２）は、使用放射（２０ａ）と相互作用して二次放射（２４）を放出する材料からなり、二次放射（２４）の波長は、使用放射（２０ａ）の波長とは異なり、放射検出器（３０；３２；１３０）は、二次放射（２４）を検出するように構成される。 （もっと読む）

本発明は、光学系、特にマイクロリソグラフィ投影露光装置の光学系の偏光特性を特性決定する構成体及び方法であって、光学系に入射する放射線の所定の偏光状態を設定する少なくとも１つの偏光状態発生器（１３０、２３０、３３０）と、光学系から出る放射線の出射偏光状態を測定するよう構成された偏光状態検出器（１４０、２４０、３４０）とを備え、光学系は、１５ｎｍ未満の使用波長用に設計され、偏光状態発生器及び／又は偏光状態検出器は、入射光ビームに対するそれらの偏光光学作用が少なくとも１０°の光ビームの角度スペクトルにわたって実質的に一定であるよう設計される構成体及び方法に関する。 （もっと読む）

【課題】光線の偏光に影響を与える偏光変調光素子を提供する。
【解決手段】偏光変調光学素子（１）であって、当該偏光変調光学素子は旋光性材料から成り、厚さプロファイルを有し、当該厚さは光軸の方向において測定され、光学素子の領域にわたって変化する。この偏光変調光学素子（１）は、次のような効果を有している。すなわち、第１の直線偏光光線の振動面および第２の直線偏光光線の振動面がそれぞれ、第１の回転角度および第２の回転角度で回転されるという効果を有している。ここで第１の回転角度と第２の回転角度は相互に異なっている。 （もっと読む）

本発明は、各々が少なくとも１つの反射面（５）を有する複数の反射ファセット要素（１）を含むＥＵＶマイクロリソグラフィ投影露光装置の照明光学ユニットに使用するための光学要素に関する。この場合、少なくとも１つのファセット要素（１）は、このファセット要素（１）の少なくとも１つの反射面（５）と交わる回転軸（９）の回りに回転可能な方式で配置される。そのような光学要素を使用すると、照明光学ユニット内の照明放射線の少なくとも一部の方向及び／又は強度を簡単な方式で変更することができる。 （もっと読む）

【課題】特にマイクロリソグラフィ投影露光装置の光学系と、特にマイクロリソグラフィ投影露光装置の照明系又は投影対物系における使用に適し、かつタンジェンシャル−ラジアル混合偏光分布を含む異なる偏光分布の柔軟な調節を可能にする偏光影響光学装置を有する光学系とを提供する。
【解決手段】本発明は、光学系軸及び偏光影響光学装置（２５０，６５０）を含む特にリソグラフィ投影露光装置の光学系に関し、この装置は、光学結晶軸を有する光学活性材料を含み、光学結晶軸の方向に変化する厚みプロフィールを有する偏光影響光学要素（２００）と、偏光影響光学要素（２００）の位置の操作のための位置マニピュレータ（２１０）とを有し、この偏光マニピュレータ（２１０）は、光学系軸（ＯＡ）に対して９０°±５°の角度で配置された回転軸の回りに偏光影響光学要素（２００）を回転させるようになっている。 （もっと読む）

特にＥＵＶリソグラフィ装置用の応力低減型反射光学素子を構成する軟Ｘ線及び極端紫外線波長域内の作業波長用の反射光学素子であり、前記反射光学素子は、基板（２）上に前記作業波長で屈折率の異なる実数部を有する少なくとも２つの交互材料（４１，４２）からなる第１の多層膜系（４）を備え、該多層膜系が前記基板（２）に層応力を及ぼし、前記基板（２）上に周期的に交互の少なくとも２つの材料（６１，６２）からなる第２の多層膜系（６）を備え、該多層膜系が前記第１の多層膜系（４）と前記基板（２）との間に配置され、前記基板（２）に反対方向の層応力を及ぼし、前記第２の多層膜系（６）の前記少なくとも２つの材料の第１の材料（６１）が、前記第２の多層膜系（６）の少なくとも１つの他の材料（６２）の１ｎｍまでの厚さの層によって、前記第１の材料（６１）がアモルファス状態で存在するような間隔で遮断されている。第２の実施例では、前記第２の多層膜系（６）の一つの材料はニッケル又はニッケル合金である。
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