【課題】半導体リソグラフィ光学システムにおいて、狭い設置領域で使用可能であると共に、レンズを汚す粒子を生成しないシステム絞りを備えた光学結像装置を提供する。
【解決手段】光学結像装置（ＰＬ）は少なくとも１つのシステム絞り（１）を備え、該システム絞りは、球状に湾曲し回転可能に取り付けられた複数の可動薄板を備える。該可動薄板は、一体構成のソリッドステート関節動作継手部により、互いに接触することなく回転するように回転軸受中心軸に取り付けられる。 （もっと読む）

【課題】照明波長での分解能に関してマイクロリソグラフィ投影露光装置における投影対物鏡として使用できる光学系を改善する
【解決手段】放射光を物体平面１０３から像平面１０２に結像するように配列された複数の素子を含み、これらの複数の素子のうちの少なくとも１つは放射光の経路内に位置する回転非対称面を有する反射素子であるマイクロリソグラフィ投影光学系１０１を特徴とする。回転非対称面は、回転対称面から約１０ｎｍ以上の値だけずれ、光学系はマイクロリソグラフィ投影光学系である。 （もっと読む）

【課題】周囲雰囲気の変動による影響を受け難いガス調整された環境を有する投影レンズ系を具備するリソグラフィ装置の提供。
【解決手段】リソグラフィ装置が開示されている。リソグラフィ装置は、基板の目標部分にパターン化された放射線ビームを投影するように構成された投影系を含む。投影系は、ハウジングとハウジング内に配設された複数の光学素子とを含む。また、リソグラフィ装置は、調整されたガスをハウジングに供給するための入口と、ガス調整された環境をハウジング内に作るために、調整されたガスをハウジングから排出するためのガス排出部とを含む。ガス調整された環境を周囲雰囲気に連通させるための少なくとも１つのゲートが配設されている。ゲートは、調整されたガスの予め定められた漏洩を周囲雰囲気に対して行うように配設されている。 （もっと読む）

【課題】物体平面に配置された物体を像平面に位置する物体像内に結像する投影対物系を提供する。
【解決手段】投影対物系（２００）は、複数の透過光学要素、及び結像ビーム経路に沿って規定可能な位置に光学要素を保持するための保持デバイスを有し、光学要素の各々は、結像ビーム経路内に位置する光学有用領域と、光学有用領域の外側に位置する縁部領域とを有し、光学要素に割り当てられた保持デバイスの少なくとも１つの保持要素は、縁部領域における接触ゾーンの領域内で作用し、光学要素（Ｌ２−１、Ｌ２−２、Ｌ３−６）の少なくとも１つには、光学要素の直ぐ上流に配置された偽光絞りと、光学要素の直ぐ下流に配置された第２の偽光絞りとを有する絞り配列（ＳＡ１、ＳＡ２、ＳＡ３）が割り当てられ、偽光絞りの各々は、偽光絞りが縁部領域の少なくとも一部を結像ビーム経路の外側を進む放射線に対して遮蔽するように形成される。 （もっと読む）

【課題】光学素子及び保持構造を備える装置であって、光学素子を高精度かつ良好な再現性で保持構造に位置決めする。
【解決手段】光学素子２及び保持構造４を備える光学構成体用の装置と、光学構成体の光学素子２を位置決めする方法に関し、光学素子２は、保持構造４と６個の個別の接触ポイントで接触し、連結要素を設け、連結要素により、接触ポイントに、絶対値及び／又は方向に関して光学素子２の自重力を超える力成分を有する押圧力を加えることができる構成とする。 （もっと読む）

【課題】液浸リソグラフィーに適するとともに、浸液と長期的に接触しても安定した結像品質を有する投影対物レンズを提供する。
【解決手段】 自身の物体平面内に配置されるパターンを自身の像面に、光路上における自身の最後の光学素子と前記像面との間において配置される浸液媒体を利用して結像させる投影対物レンズにおいて、前記最後の光学素子は、透明な基板と、該基板に取り付けられるとともに、前記浸液媒体との接触用に設けられ、かつ前記浸液媒体によって引き起こされる劣化に対する前記最後の光学素子の耐性を高める役割を果たす保護層システムとを有する。 （もっと読む）

【課題】単純なやり方で光学素子の正確な空間の位置決めおよび／または配向を可能とする、光学モジュール、光学結像装置および光学素子を支持する方法を提供する。
【解決手段】光学素子１０８と支持ユニット１１０を有し、該光学素子は少なくとも１つの光学的に利用される領域を有し、該光学素子を支持するために、前記支持ユニットは３つ以上の支持素子１１０．３を有し、該支持素子の各々は、第１端部の領域で、該光学素子と結合され、第２端部の領域で、支持構造体と結合され、少なくとも１つの支持素子は、正確に１つの第１自由度を制限し、該第１自由度は、回転軸１０８．３の周りの回転の自由度であって、該回転軸は、該回転軸が、前記回転対称軸に平行な少なくとも１つの方向成分を有するように配列される。 （もっと読む）

【課題】結像光学系の物体視野を配置することができる投影リソグラフィ用の照明光学系、照明系、投影露光系、を提供する。
【解決手段】第１のファセットミラーは、照明光束のうちの部分光束（２４）の反射誘導のための複数のファセット（７）を有し、ファセット（７）の反射面（２５）は傾斜可能である。第１の照明傾斜位置では、ファセット（７）は、入射する部分光束（２４）を第１の物体視野照明チャンネル（２６）に沿って照明視野に誘導する。照明光学系は、複数の第２のファセット（１１）を有する第２のファセットミラー１０を含み、第１のファセット（７）は、照明傾斜位置に依存して物体視野照明チャンネル（２６）を事前に判断する。第１のファセット（７）に割り当てられた第２のファセット（１１₁，１１は、第２のファセットミラー（１０）の２つの円錐断面線によって制限された部分上に位置する。 （もっと読む）

【課題】少なくとも２つの交互材料の層を有する多層系を備えた反射面を基板上に含む紫外から極紫外までの波長範囲の反射光学要素、及び投影露光装置を提供する。
【解決手段】作動波長で屈折率の異なる実数部を有する少なくとも２つの交互材料の層（４１，４２）を有する多層系を備えた反射光学要素を提案し、作動波長である一定の入射角帯域幅分布を有する放射線は、反射光学要素上に入射することができ、反射面は、層（４１，４２）が第１の周期の厚み（Ｐ１）の交互材料を有する１つ又はそれよりも多くの第１の部分（Ａ１）と、交互材料の層（４１，４２）が第１（Ｐ１）及び少なくとも１つの更に別の周期の厚み（Ｐ２）を有する１つ又はそれよりも多くの更に別の部分（Ａ２）とを含み、反射面にわたる第１（Ａ１）及び更に別の部分（Ａ２）の配列は、入射角帯域幅分布に適応される。 （もっと読む）

【課題】少なくとも１つのアクチュエータを用いて光学素子を特定の増分量で増分移動させることにより、操作されるべき少なくとも１つの光学素子の位置の設定を行う、投影照明システムの光学装置の製造及び／又は調整方法を提供する。
【解決手段】本発明による方法では、移動増分の増分量は、所望位置からの光学素子の距離の関数として、距離値として表される距離によって設定され、この距離値が第１の閾値を上回る場合、略一定の増分量が設定され、他方、この距離値が前記第１の閾値を下回る場合、所望位置からの距離が減少することに伴って、特定の増分量が減じられるステップ、及び／または、特定の増分量及び／又は事前に特定された増分量変化率からの、事前に特定された逸脱により、警告信号が発せられ及び／又は移動が中止されるステップ、を含む。 （もっと読む）