【課題】光学素子に対する局所的な熱による環境影響を簡単に補償することを可能にする光学結像装置および光学結像法を提供する。
【解決手段】投影パターンを有するマスクを収容するためのマスク装置と、光学素子群を有する投影装置と、基板を収容するための基板装置と、液浸ゾーン１１０とを備える、特にマイクロリソグラフィで使用するための光学結像装置である。光学素子群が、基板に投影パターンを投影するように構成されており、作動中に少なくとも一時的に液浸ゾーン１１０に隣接して配置される液浸素子を有する複数の光学素子を備える。作動中に液浸ゾーン１１０が液浸素子と基盤との間に配置され少なくとも一時的に液浸媒体１１０．１が充填される。熱減衰装置１１１が設けられており、この熱減衰装置１１１は、液浸媒体１１０．１によって液浸素子の温度分布ＴＥに誘発される変動を減じるように構成されている。 （もっと読む）

【課題】照明光ビームを案内及び成形するための複数の光学面を含む照明光学ユニットを設定する方法及び装置等を提供する。
【解決手段】設定される照明パラメータが、像視野に結像される物体視野にわたって予め定められる。設定は、最初に、複数の視野点における複数の照明角度に関する照明光学ユニットの強度重み付き照明パラメータの実際の値を決定する段階を含む。次に、少なくとも１つの照明パラメータに対する照明光学ユニットの光学面のうちの少なくとも１つの変形の影響が決定される。更に、照明パラメータの望ましい値が予め定められる。照明パラメータの実際の値が予め定められた範囲内で照明パラメータの望ましい値に対応するように、変形の影響が決定された少なくとも１つの光学面の望ましい形状が決定される。最後に、光学面の実際の形状が望ましい形状に対応するように、光学面に対して機械応力を作用する少なくとも１つのアクチュエータを用いて光学面が変形される。 （もっと読む）

【課題】瞳ファセットを視野ファセットに割り当てる方法を提供する。
【解決手段】照明光の部分ビームに対する照明チャンネルの定義のために投影露光装置の照明光学ユニットの瞳ファセットミラーの瞳ファセットを照明光学ユニットの視野ファセットミラーの視野ファセットに割り当てる方法。最初に、少なくとも１つの照明パラメータが識別される。次に、可能な照明チャンネルを評価する評価関数が事前定義される。これに、評価変数を計算する段階が続く。評価ターゲット範囲を達成する評価変数を有する照明チャンネルが事前選択される。少なくとも１つの外乱変数及びこの外乱変数への照明関数の依存性が識別される。外乱変数は、事前定義された外乱変数変動範囲で変更され、評価変数の変動が評価関数に基づいて計算される。変動範囲全体において評価ターゲット範囲に留まる、変更された評価変数を有する照明チャンネルが選択される。 （もっと読む）

【課題】ＮＡ＞１の開口数で液浸リソグラフィが可能な非常に高い像側開口数を有する真空紫外（ＶＵＶ）領域で使用する反射屈折投影対物レンズの提供。
【解決手段】物体面１０１上のパターンを像面１０２上に結像するための反射屈折投影対物レンズであって、パターンを第１中間像１０３に結像する第１対物レンズ部１１０と、第１中間像を第２中間像１０４に結像する第２対物レンズ部１２０と、第２中間像を像面１０２上に結像する第３対物レンズ部２３０とを有し、第１連続鏡面を有する第１凹面鏡１２１と、第２連続鏡面を有する少なくとも１つの第２凹面鏡１２２とが、第２中間像１０４の上流側に配置され、瞳面が、物体面と第１中間像との間、第１及び第２中間像の間、及び第２中間像と像面との間に形成され、主光線高さがすべての凹面鏡１２１，１２２で光学的に離して配置される。 （もっと読む）

【課題】マルチビームを用いた荷電粒子線装置においてビーム間の結像誤差を補正する簡便な方法を実現する。
【解決手段】複数の一次電子ビームレットの焦点を形成する粒子光学部品６０５に於いて、第１の多孔プレート６１３と第２の多孔プレート６１４の複数の対応する開孔が互いに整列配置されており、第１の開孔６１５の位置における第１の幅Ｗ１を第２の開孔６１５’の位置における第２の幅Ｗ２よりも少なくとも５％大きく形成する。 （もっと読む）

【課題】掩蔽（obscurated：オブスキュレーション）光学系において、分解能の限界が結像構造の位置及び配向に応じて変わる場合、結像光学系の精密測定の実行を可能にするデバイス、このデバイスを有する投影露光装置、その方法、センサユニットとを提供する。
【解決手段】結像光学系上流ビーム経路内に位置決め可能な第１格子構造（１６）を有する第１格子パターン（６）と、下流ビーム経路内に位置決め可能な第２格子構造（１８）を有する第２格子パターン（８）と、第２格子パターン（８）の第２格子構造（１８）への第１格子パターン（６）の第１格子構造（１６）の結像中に生成される重ね合わせ縞パターンの空間分解測定用センサユニットとを備えるデバイスに関する。 （もっと読む）

【課題】マイクロリソグラフィ投影露光装置の照明システムを提供する。
【解決手段】照明システムは、ミラー配列１４０によって反射される光の角度分布を変更するための互いに独立に変位可能な複数のミラーユニット１４１，１４２，１４３を有するミラー配列１４０と、異なるミラーユニット上に入射する少なくとも２つの異なる偏光状態を生成するために、光伝播方向にミラー配列１４０の前に配置された少なくとも１つの要素１３０とを含む。 （もっと読む）

【課題】コンパクトなマイクロリソグラフィー投影光学系を提供する。
【解決手段】物体面１００の物体フィールドを像面１０２の像フィールドに結像する、波長が２４８ｎｍ以下、好ましくは１９３ｎｍ以下、特に波長が１〜３０ｎｍの範囲のＥＵＶリソグラフィー用のマイクロリソグラフィー投影光学系に関する。本マイクロリソグラフィー投影光学系は、例えば、虹彩絞りを導入することができる、十分なスペースの取扱い可能な絞り面２０００を設ける。 （もっと読む）

【課題】関連する光学素子の変化を調整可能なマイクロリソグラフィ投影対物レンズを提供する。
【解決手段】光学素子と、光学素子を操作するように構成されたマニピュレータと、マニピュレータを制御するように構成された制御ユニットであって、マニピュレータの移動を制御するように構成された第１のデバイス、マニピュレータの移動範囲の境界情報を有するメモリ、および少なくとも１つの誤差の二乗平均平方根（ＲＭＳ）の二乗に基づくメリット関数を生成し、マニピュレータの移動範囲の境界情報に応じてメリット関数を最小化するように構成された第２のデバイスと、を備える。 （もっと読む）

【課題】マイクロリソグラフィ投影露光装置用の照明光学系を提供する。
【解決手段】マイクロリソグラフィ投影露光装置（１）用の照明光学系は、光源（２、２’）からの照明光（３、３’）で物体表面（１９）を照明するのに用いられる。少なくとも二つの照明設定を照明光学系の瞳面（１２）に設定するために、少なくとも二つの個々の光学モジュール（２８、２９）を用いる。光学モジュールの上流にある光路には、第１の光学モジュール（２８）及び／又は第２の光学モジュール（２９）に照明光（３、３’）を任意に送る分離要素（９）がある。二つの光学モジュール（２８、２９）の下流にある光路には、第１の光学モジュール（２８）及び／又は第２の光学モジュール（２９）を通過した照明光（３、３’）を照明領域に送る結合要素（３５）がある。これにより、照明光学系と光源をも有する照明系とがもたらされ、異なる照明設定間の高速切り換えが可能となる。 （もっと読む）