【課題】本発明はスコロダイト合成に要する時間を短縮し、更には砒素及び鉄のスコロダイトへの収率を向上させることの可能なスコロダイトの製造方法を提供することを課題とする。
【解決手段】５価のＡｓと３価のＦｅを含有する酸性水溶液から結晶性スコロダイトを製造する方法であって、酸性水溶液中に含まれる５価のＡｓに対する３価のＦｅのモル比を１．０以上１．１以下に調節した後に結晶性スコロダイトの合成を行うことを含む方法であり、前記酸性水溶液は銅製錬工程で産出する電解沈殿銅の硫酸浸出液に３価のＦｅを添加することにより調製する方法。 （もっと読む）

【課題】塩化物浴から銅を溶媒抽出する際に、銅の抽出能力の向上を図る。
【解決手段】銅の塩化物と、アルカリ及び／又はアルカリ土類金属の塩化物とを含有する酸性水溶液から、陽イオン交換型抽出剤を用いて溶媒抽出により銅を回収する方法で、溶媒抽出を硫酸イオンの存在下で行う。硫酸ナトリウム、硫酸マグネシウム、硫酸カルシウム、硫酸カリウム及び硫酸アンモニウムよりなる群から選択される硫酸化合物を該酸性水溶液に添加し、硫酸イオンの含有量を１０〜１００ｇ／Ｌの範囲とする。さらに、酸性水溶液中の塩素イオン濃度と臭素イオン濃度を所定範囲し、陽イオン交換型抽出剤として酸性キレート抽出剤を用いることができる。銅の抽出能力が上昇し、前段階で実施する銅の浸出工程で取り扱う溶液量を少なくでき、設備コスト、操業コスト等を少なくできる。 （もっと読む）

【課題】ダマシン銅配線等おける無電解銅めっきでシード層を形成した際の、成膜均一性、および密着性を、単体の金属上に無電解銅めっきを行った場合と比較して向上させ、さらに、銅シード層の成膜に先立つバリア層と触媒金属層との二つの層形成の煩雑さを解消して、超微細配線の形成が可能な、薄くかつ均一な膜厚でシード層を成膜しためっき物を提供することを目的とする。
【解決手段】基材上に、無電解めっき液に含まれる銅イオンと置換めっきが可能でかつ銅に対してバリア性を持つ金属Ｂと、銅に対してバリア性を持つ金属Ａからなる銅拡散防止用バリア合金薄膜が形成され、該銅拡散防止用バリア合金薄膜が、前記金属Ａを１５原子％以上、３５原子％以下とする組成であり、その上に無電解置換めっきにより銅薄膜が形成されたことを特徴とするめっき物。 （もっと読む）

【課題】実操業レベルで汎用性ある条件で、黄銅鉱や硫砒銅鉱を主体とする硫化銅鉱から銅を効率よく浸出する方法を提供すること。
【解決手段】ヨウ素イオンと、ヨウ素イオンに対して過剰量の鉄（III)イオンとを含有する硫酸溶液を浸出液として用いて硫化銅鉱から銅を浸出させることを特徴とする硫化銅鉱からの銅の浸出方法、あるいは、上記成分に加えてさらに塩化物イオン等の鉄（III)イオンを安定化することのできる水溶性配位子を含有する浸出液を用いて硫化銅鉱から銅を浸出させることを特徴とする硫化銅鉱からの銅の浸出方法。 （もっと読む）

【課題】転炉内に装入する３０ｍｍφ以下の粉状・粒状及び１００ｍｍ角以下の箔状のリサイクル原料の飛散を抑制することを課題とする。
【解決手段】リサイクル原料処理方法は、リサイクル原料の周囲に故銅を配置し、プレス処理によりリサイクル原料含有成形物１３を成形する工程と、リサイクル原料含有成形物１３を転炉用ボート１４に装入し、転炉１６へ装入する工程と、リサイクル原料含有成形物１３を転炉１６内において溶解し、リサイクル原料を含有する粗銅を得る工程と、この粗銅の電解精製時における殿物としてリサイクル原料を回収する工程と、を備えている。本発明によると、リサイクル原料の周囲に故銅を配置し、プレス処理することにより、リサイクル原料が故銅により包装される。これにより、転炉用ボート１１への積載時、転炉１６への装入時、及び転炉送風時のリサイクル原料の飛散が防止される。 （もっと読む）

【課題】燃焼装置において、簡易な構成により、未燃焼ガス等に含まれる微小粉塵を取り除くことを課題とする。
【解決手段】キルン処理装置１は、樹脂付金銀滓原料を焼却するキルン炉２と、キルン炉２の下流に配置した２次燃焼炉３と、２次燃焼炉３の下流に配置した冷却塔４と、冷却塔４の出口に接続された排気管６と、排気管６の下流に接続したバグフィルタ５と、排気管６内のガス流中に懸垂された鎖７とを備えている。排気管６を通過するガスに含まれる微小粉塵の一部が鎖７に捕集されることにより、バグフィルタ５の濾布５１の焼損が抑制される。 （もっと読む）

【課題】試料の測定面がフラットであり、試料作成の段階で凹凸の波又は反り等が発生せず、高精度の試料を得ることができる蛍光Ｘ線分析用試料ホルダー及び同試料の作成方法を得る。
【解決手段】金属リングと該リングの中に充填され、かつプレスされたパウダー状濾紙からなるフラットな面を備えた蛍光Ｘ線分析用試料ホルダー。金属リングと共にパウダー状濾紙がプレスされている。プレス前の金属リングの内径が３０ｍｍ以下、厚さが５ｍｍ以下である。パウダー状濾紙の充填量が２〜５ｇである。金属リングがアルミニウム若しくはアルミニウム合金又は銅若しくは銅合金である。蛍光Ｘ線分析用試料の作成方法は、金属リングの中にパウダー状濾紙を充填した後、軽くプレスし、次に分析すべき物質を含有する液を濾紙に滴下吸収させ、これを乾燥させた後、再度プレス成形してリングの内径を縮小させるとともに、濾紙を圧縮してフラットな面を得る。 （もっと読む）

【課題】リードフレームのリード変形が生じにくく、且つ、プレス加工後の歪取り焼鈍に要する時間の短い銅合金板又は条を提供する。
【解決手段】Ｎｉ：０．４〜６．０質量％、Ｓｉ：０．１〜２．０質量％を含有し、残部Ｃｕおよび不可避的不純物から構成される電子材料用銅合金板又は条であって、表面から１μｍの深さにおける残留応力の絶対値が５０ＭＰａ以下であり、且つ、５００℃の温度で１分間加熱する熱処理によって引張強さが４０ＭＰａ以上低下する銅合金板又は条。 （もっと読む）

【課題】メモリー点と非メモリー部との界面付近に偏析濃縮し、書き換え回数及び消去率の低下の原因となる不純物、特に結晶化速度に影響を与える不純物元素を極力減少させると共に、目標組成に対するターゲットの組成のずれ及び成分偏析を減少させて、相変化型メモリーの書き換え特性、結晶化速度を向上させることができる相変化型メモリー用スパッタリングターゲット及びその製造方法を提供する。
【解決手段】３元系以上の元素からなり、アンチモン、テルル又はセレンから選んだ１成分以上を主成分とし、目標組成に対する組成のずれが±１．０ａｔ％以下であることを特徴とする相変化型メモリー用スパッタリングターゲット及び該ターゲットを用いて形成された相変化メモリー用膜。 （もっと読む）

【課題】Ｓｎめっき被膜の摺れや脱落を防止することにより、ロールのメンテナンス性に優れ、生産性を向上させることができるＳｎめっき被膜及びそれを有する複合材料を提供する。
【解決手段】樹脂層又はフィルム４を積層した銅箔又は銅合金箔１の他の面に形成され、Ｓｎめっき表面の光沢度が１０〜８０％であるＳｎめっき被膜２である。 （もっと読む）