説明

三菱商事プラスチック株式会社により出願された特許

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【課題】本発明の目的は、ガスバリア性プラスチック容器の製造装置において、排気室又はそれ以降の排気経路での定期的な異物除去作業と容器形状換えに伴う外部電極の交換作業を低減し、ガスバリア性プラスチック容器の生産性を高めることである。
【解決手段】本発明は、プラスチック容器の内壁面にプラズマCVD法によってガスバリア性を有する薄膜を形成する装置であり、外部電極の内壁面とプラスチック容器の外壁面とに挟まれた隙間空間に誘電体からなるスペーサーを配置し、かつ、プラスチック容器自体の静電容量とその内部空間の静電容量との合成静電容量をCとし、真空チャンバの内部空間と排気室の内部空間とを含む成膜ユニットの内部空間のうちプラスチック容器の外側空間の合成静電容量をCとしたとき、C>Cの関係が成立し、かつ、周波数400kHz〜4MHzの低周波電力を外部電極に供給する。 (もっと読む)


【課題】本発明の目的は、ガスバリア性プラスチック容器を製造するに際して、真空チャンバ以外でのプラズマの発生を抑制し、さらには原料ガス由来の異物の発生を抑制することである。
【解決手段】本発明は、プラスチック容器の内壁面にガスバリア性を有する薄膜を形成する装置であり、外部電極1の上端を容器8の天頂Yよりも下方に位置させ、外部電極1の上方かつ容器8の外側周囲に誘電体からなる環状部材2を配置し、外部電極1と環状部材2とは真空チャンバ3を構成し、容器自体の静電容量とその内部空間の静電容量との合成静電容量をCとし、真空チャンバの内部空間と排気室の内部空間とを含む成膜ユニットの内部空間のうち容器の外側空間の合成静電容量をCとしたとき、C>Cの関係が成立し、電源27は周波数400kHz〜4MHzの低周波電力を供給する。 (もっと読む)


【課題】ボトルの内側に褐色のまだら模様を形成することなく、見栄えの良いアモルファスカーボン被膜を成膜する方法を提供する。
【解決手段】本発明は、合成樹脂製ボトル1の口部2の内側に形成した注出路6に、この注出路6との間に隙間tを空けて筒状部材12を配置し、この筒状部材12を通して口部2に繋がる肩部3、胴部4及び底部5の内面で形作られる充填空間Rに、C2H2ガスを供給して、このC2H2ガスを用いたプラズマCVD法によってボトル1の内側にアモルファスカーボン被膜を形成する方法である。本発明では、アモルファスカーボン被膜を形成するにあたり、筒状部材12を、当該筒状部材12の先端が注出路6から充填空間Rに露出するように位置決めする。 (もっと読む)


【課題】本発明の目的は、プラズマの発生が反応室の内部、すなわちプラスチック容器の内部のみで起こるように、排気室又はそれ以降の排気経路でのプラズマの発生を抑制し、同時にプラズマを安定して着火させることである。さらに、装置寿命の短縮の防止、インピーダンスの急激な変化に起因する不良ボトルの偶発の防止及び容器主軸方向に対してガスバリア薄膜の膜厚の均一化を図ることである。
【解決手段】本発明に係るプラズマCVD成膜装置は、反応室3に周波数100kHz〜3MHzの低周波電力を供給し、且つ、プラスチック容器8の内部にスパーク発生部40を有するプラズマ着火手段と配置する。このとき、プラスチック容器8と反応室3の内部空間30との合成静電容量をCとし、絶縁体スペーサー4と排気室5の内部空間31との合成静電容量をCとしたとき、C>Cの関係が成立する。 (もっと読む)


【課題】本発明の目的は、排気室でのプラズマの発生を抑制することで、容器の主軸方向に対してガスバリア薄膜の膜厚の均一化を図り、また、排気室及び排気経路での各部品の劣化を生じにくくすることである。
【解決手段】本発明に係る反応室外でのプラズマ発生の抑制方法は、プラスチック容器8と反応室3の内部空間30との合成静電容量CのインピーダンスAと絶縁体スペーサー4と排気室5の内部空間31との合成静電容量CのインピーダンスBのうち、インピーダンスBを、インピーダンスAを基準として相対的に高めて、排気室5におけるプラズマの発生を抑制することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】酸素に鋭敏な飲料や発泡飲料の容器として適するプラスチック容器及びこのようなプラスチック容器を製造することができる製造装置を提供する。
【解決手段】膜厚が50〜400ÅのDLC膜をプラスチック容器の内壁面に形成する。DLC膜は、プラスチック容器5の外側に配置された外電極と、プラスチック容器5の内側に配置された内電極11と、減圧されたプラスチック容器の内側に炭素源の原料ガスを供給する管路12と、原料ガスの供給後、外電極および内電極の間に電圧を印加してプラズマを発生させることによりプラスチック容器の内壁面に硬質炭素膜を形成する高周波発振器9と、を備え、外電極は、プラスチック容器の底部に沿って配置される底部電極4と、プラスチック容器の胴部に沿って配置される胴部電極3と、を備えるとともに、底部電極の上端はプラスチック容器の上下端の中央位置よりも下方に位置付けられた製造装置を用いて形成できる。 (もっと読む)


【課題】
本発明の目的は、チャンバを交換することなく異なる容量の容器に対して、容器高さ方向に対して均一な膜質の成膜をすることができるプラズマCVD成膜装置を提供すること。異なる容量の容器に対して、容器高さ方向に対して均一な膜質の成膜が為されたガスバリア性を有するプラスチック容器の製造方法を提供すること。
【解決手段】
本発明に係るプラズマCVD成膜装置は、プラスチック容器を収容する真空チャンバと、該真空チャンバの側壁に沿って螺旋状に巻きつけられたリボン状コイルと、前記プラスチック容器の内部に挿脱可能に配置され、該プラスチック容器へ原料ガスを供給する原料ガス供給管と、前記真空チャンバの内部ガスを排気する排気手段と、前記リボン状コイルに高周波電力を印加する高周波供給手段と、を有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】プラスチック容器の内壁面に成膜をする場合において、(1)形状の異なる容器ごとに外部電極を準備する必要をなくし、(2)誘導結合型プラズマ又はマイクロ波プラズマのいずれの方式によっても、容器の内部空間と外部空間との圧力差制御機構を設けることなく、前記隙間空間でのプラズマ発生を抑制すること。
【解決手段】本発明に係るプラズマCVD成膜装置は、プラスチック容器を収容する真空チャンバと、真空チャンバの内壁面とプラスチック容器の外壁面とに挟まれた隙間空間に配置された絶縁体からなるスペーサーと、プラスチック容器の内部に挿脱可能に配置され、プラスチック容器へ原料ガスを供給する原料ガス供給管と、真空チャンバの内部ガスを排気する排気手段と、プラスチック容器の内部に供給された原料ガスをプラズマ化させるプラズマ発生手段と、を有する。 (もっと読む)


【課題】巻き癖が付き難く、かつ、取扱性などの操作性に優れ、特に線材の巻解き作業がスムーズになされる線材収納容器を提供する。
【解決手段】容器1は第1の半体1aと第2の半体1bとを備え、第1の半体1aおよび第2の半体1bには環状凹部5の内側端に沿って凹および/または凸7を構成し、前記凸の前記環状凹部側の立設壁面は該環状凹部の内側端の立設壁面の延長上に在り、第1の半体1aと第2の半体1bとの合体時には、凹凸7が互いに噛み合っていて、第1の半体1aと第2の半体1bとの接合ラインが一平面上には無いよう構成されてなり、前記線材収納空間となる環状凹部5の内側に沿って第1の半体1aと第2の半体1bとはスポット的な接着一体化がなされているものの、環状凹部5の外側においては第1の半体1aと第2の半体1bとは接着一体化がなされていない。 (もっと読む)


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