【課題】ＣＶＤ用の原料溶液の流量を長時間にわたって精度よく制御することができるＣＶＤ用気化器、溶液気化式ＣＶＤ装置及びＣＶＤ用気化方法を提供する。
【解決手段】本発明に係るＣＶＤ用気化器は、キャリアガス中に原料溶液を微粒子状又は霧状に分散させるオリフィス管と、前記オリフィス管の前記ガス通路に連通されたところの前記原料溶液を供給する原料溶液用通路２１〜２５と、前記オリフィス管に前記キャリアガスを供給するキャリアガス用通路３３と、前記オリフィス管で分散された前記原料溶液を気化する気化管３１と、前記気化管３１内に挿入され前記オリフィス管のガスを噴出する噴出部とを有し、前記オリフィス管は、円柱状のガス通路を備える。 （もっと読む）

【課題】
本発明の目的は、チャンバを交換することなく異なる容量の容器に対して、容器高さ方向に対して均一な膜質の成膜をすることができるプラズマＣＶＤ成膜装置を提供すること。異なる容量の容器に対して、容器高さ方向に対して均一な膜質の成膜が為されたガスバリア性を有するプラスチック容器の製造方法を提供すること。
【解決手段】
本発明に係るプラズマＣＶＤ成膜装置は、プラスチック容器を収容する真空チャンバと、該真空チャンバの側壁に沿って螺旋状に巻きつけられたリボン状コイルと、前記プラスチック容器の内部に挿脱可能に配置され、該プラスチック容器へ原料ガスを供給する原料ガス供給管と、前記真空チャンバの内部ガスを排気する排気手段と、前記リボン状コイルに高周波電力を印加する高周波供給手段と、を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】透明性を向上させたＳｉＮxＯyＣz膜、及び成膜速度を向上させた成膜方法を提供する。
【解決手段】ＳｉＮxＯyＣz膜は、x、y及びzそれぞれが下記式（１）〜（３）の範囲である有機ＥＬ素子の保護膜。 ０．２＜x＜１．５ ・・・（１）
０．３＜y＜０．８ ・・・（２）
０．０３＜z＜０．４ ・・・（３）
このＳｉＮxＯyＣz膜は、４００ｎｍ〜８００ｎｍの波長光で９５％以上の透過率を有することが可能である。この膜は、１ターンのコイルにＩＣＰ出力を印加して発生させた誘導結合プラズマによって原料ガスを分解するＣＶＤ法を用いて成膜されたものであることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 回路調整が容易で高密度のプラズマを安定的に発生させるＩＣＰ回路を提供する。
【解決手段】 本発明に係るＩＣＰ回路は、共振条件又は共振条件の許容動作範囲で回路動作を行うＩＣＰ回路であって、高周波電流が供給される高周波コイルと、前記高周波コイルの一端に接続され、前記高周波電流が出力されるＩＣＰ電源１８と、前記高周波コイルの他端に接続され、前記高周波電流の周波数及び前記高周波コイルのインダクタンスに対して共振条件又は共振条件の許容動作範囲を満たす容量を有する共振コンデンサ２０と、を具備することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 複数のスパッタリングターゲットを備えたスパッタリング装置を提供する。
【解決手段】 本発明に係るスパッタリング装置は、被成膜基板１３にスパッタリングにより薄膜を成膜するスパッタリング装置であって、真空容器１０と、前記真空容器１０内に配置された第１乃至第３のスパッタリングターゲット２４〜２６と、前記第１乃至第３のスパッタリングターゲット２４〜２６それぞれに高周波電流を出力する高周波電源３３〜３５と、前記真空容器内に配置され、被成膜基板を保持するサセプタ１４と、を具備することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 めっき法のように廃液の処理が必要なく、環境に対する負荷が小さい表面処理物、表面処理方法及び表面処理装置を提供する。
【解決手段】 本発明に係る表面処理物は、スパッタリング法によってボルトやナット等の被処理体３の表面に耐食性物質又は犠牲物質からなる薄膜が被覆されたことを特徴とする。また、本発明に係る表面処理物は、スパッタリング法によって被処理体の表面に薄膜が被覆され、前記被処理体と前記薄膜を反応させて該被処理体の表面に反応層が形成されたことを特徴とする。前記スパッタリング法は、内部の断面形状が多角形を有する真空容器１ｂを、前記断面に対して略垂直方向を回転軸として回転させることにより、該真空容器内の被処理体３を攪拌あるいは回転させながらスパッタリングを行うものであることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 紫外線に対する遮光性を有し且つ透明性を有する膜を成膜することができるＣＶＤ成膜装置を提供する。
【解決手段】 本発明に係るＣＶＤ成膜装置は、容器２の外表面にプラズマＣＶＤ法により膜を成膜する装置であって、容器２の外側面を囲むように配置された外周電極１４と、容器２の外表面に出発原料を供給する原料供給機構２２とを具備する。容器２の首部２ａの内側に配置された電極１６を更に備えてもよい。この場合、電極１６は、容器２の首部２ａ又は口の内面形状に略相似形の表面を有するのが好ましい。また容器２の首部２ａ又は口の内面から略等距離の表面を有することも好ましい。 （もっと読む）

【課題】 メンテナンス作業を短時間で容易に行うことができる成膜装置及び蒸着装置を提供する。
【解決手段】 本発明に係る成膜装置は、チャンバー上部１ａとチャンバー下部１ｂを有する外部チャンバー１と、前記外部チャンバー１内に配置され、前記チャンバー下部１ｂに取り付けられた内部チャンバー６と、前記内部チャンバー６内に配置され、被成膜基板１６が保持される基板保持部４ａと、具備し、前記チャンバー上部１ａと前記チャンバー下部１ｂは分離自在に形成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
本発明の目的は、ガスバリア膜によってガスバリア性を付与しつつ、容器口部周辺の内壁での着色の過多を緩和し、またプラズマ集中によるボトルの熱変形を防止し、さらにはボトル口部に挿入する物体への炭素系異物の付着を低減することができるプラズマＣＶＤ成膜装置及び容器口部周辺の内壁での着色の過多を緩和したガスバリア性を有するプラスチック容器の製造方法を提供することである。
【解決手段】
本発明に係るプラズマＣＶＤ成膜装置は、プラスチック容器の内表面にガスバリア膜を成膜するプラズマＣＶＤ成膜装置であり、プラスチック容器の内部に挿脱可能に配置され、プラスチック容器の内部ガスを排気する排気管と、プラスチック容器の内部へ原料ガスを供給する原料ガス供給手段と、プラスチック容器の内部に供給された前記原料ガスをプラズマ化させるプラズマ発生手段と、を有することを特徴とする。 （もっと読む）

本発明のガスバリア性測定方法は、プラスチックの吸湿量によりガスバリア性の評価がばらつくという課題を克服し、容器をはじめとしてプラスチック成形体のガスバリア性をその吸湿量によらず、測定値の応答が良く且つ精度良く測定することを目的とする。 本発明に係るプラスチック成形体のガスバリア性測定方法は、プラスチック容器、プラスチックシート又はプラスチックフィルム等のプラスチック成形体を透過する測定対象ガスの透過量をガス分析装置により測定するガスバリア性測定方法において、前記プラスチック成形体を変形又は熱劣化させない温度範囲にて加熱して乾燥させる加熱乾燥工程を有することを特徴とする。
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