【課題】光干渉を利用して温度を適切に測定することができる温度計測システム、基板処理装置及び温度計測方法を提供する。
【解決手段】温度計測システム１は、光源１０、分光器１４、光伝達機構１１，１２、光路長算出部１６及び温度算出部２０を備える。光源１０は、測定光を発生させる。光伝達機構１１，１２は、測定対象物１３の表面１３ａ及び裏面１３ｂからの反射光を分光器１４へ出射する。分光器１４は、反射光の強度分布である干渉強度分布を測定する。光路長算出部１６は、フーリエ変換し光路長を算出する。温度算出部２０は、光路長と温度との関係に基づいて測定対象物１３の温度を算出する。光源１０は、分光器１４の波長スパンΔｗに基づいた条件を満たす半値半幅Δλの光源スペクトルを有する。分光器１４は、波長スパンΔｗと計測最大厚さｄとに基づいた条件を満たすサンプリング数Ｎ_ｃで強度分布を測定する。 （もっと読む）

【課題】光干渉を利用して測定対象物の温度を適切に計測することができる温度計測装置、基板処理装置、及び温度計測方法を提供する。
【解決手段】温度計測装置１は、データ入力部１６と、ピーク間隔算出部１７と、光路長算出部２０と、温度算出部２１とを備える。データ入力部１６は、測定対象物１３の表面１３ａへ測定光が照射され、表面１３ａにおいて反射された測定光と裏面１３ｂにおいて反射された測定光とが干渉して得られる干渉光のスペクトルを入力する。ピーク間隔算出部１７は、入力されたスペクトルのピーク間隔を算出する。光路長算出部２０は、ピーク間隔に基づいて光路長を算出する。温度算出部２１は、光路長に基づいて、測定対象物１３の温度を算出する。 （もっと読む）

【課題】ファブリペロー干渉計を利用して位置を取得する装置及び方法の提供。
【解決手段】位置を取得する装置は、共焦点ファブリペロー干渉計２００を有する。 （もっと読む）

本発明は、制御可能なファブリ・ペロー干渉計に関し、この干渉計は微小機械（ＭＥＭＳ）技術によって製造される。従来技術の干渉計の製造は、犠牲層（１２３）のエッチングの間のミラーの劣化のリスクを含む。本発明による解決法に従えば、ミラーの少なくとも１つの層（１０３、１０５、１１４、１１６）は、ケイ素リッチな窒化ケイ素から成る。この発明的なファブリ・ペロー干渉計においては、ミラー層における酸化ケイ素の使用を回避または減少させることが可能であり、それによりミラーの劣化のリスクが減少する。また、高い粗さのミラー表面を使用することも可能であり、それによりミラーが互いに貼り付いてしまうというリスクが減少する。 （もっと読む）

本発明は、放出された電磁スペクトルを分析することにより、反射性の共振器長を測定する方法およびシステムを提供する。放出されたスペクトルは、第１の空洞長さの概算に使用される。この概算は後に、スペクトルについて少なくとも１つの干渉数を最初に計算し、この数値を共振器の構成などに応じて整数または半整数に調整し、調整された干渉数の数値を用いて共振器長を再計算することによって修正される。これは、共振器の物理特性の測定における精度を向上させる効果的な方法である。 （もっと読む）

【課題】凹面部と凸面部を有してなる被検面の形状を光干渉計測できるようにする。
【解決手段】被検面８０の凹面部８１を測定する場合には、測定光が一旦収束した後に発散しながら凹面部８１に照射されるように、凸面部８２を測定する場合には、測定光が収束しながら凸面部８２に照射されるように、干渉光学系２に対する被検面８０の測定光軸Ｌ方向の位置をサンプルステージ６を用いて変更する。また、被検面８０に測定光が照射されたときに被検面８０の一部領域から反射されて撮像系４に入射する不要光の発生を防止するために、所定の干渉縞パターンを被検面８０に投影する干渉縞形成光学系７０を、光源部２０と分岐光学素子３との間の光路上に配置する。 （もっと読む）

【課題】本発明の精密フェーズシフト発生装置は、石英材料の低い膨張率や、高い機械品質要素の特徴を利用して、巧妙且つ正確な構造デザインを通じて、精密圧力発生器の作用に基づき、それぞれエタロン自体及びフレキシブルヒンジマイクロ変移プラットホームの変移スキャニングを実現し、物の長さに対する精密測定を実現する。
【解決手段】本発明の精密フェーズシフト発生装置は、「圧力スキャニング」原理に基づいてデザインされた「キャビティ長さ可変式」のエタロンとフレキシブルヒンジマイクロ変移プラットホームとの一体化装置であり、また、「キャビティ長さ可変式」エタロンのデザインによって、精密変移センサーの自己修正難題が解決されており、精密フェーズシフト発生装置のフェーズシフト測定の正確度を保証することができる。また、本発明は、精密フェーズシフト発生装置によって構成された精密の長さ測定システム及び測定方法をも提供している。 （もっと読む）

【課題】エアギャップ長が大きい場合であっても大きな段差を形成することなく電極を形成することができるファブリペロー干渉計を提供
【解決手段】ファブリペロー干渉計１は、高屈折率膜２１，２３からなる下側ミラー１３と、高屈折率膜３１，３３からなる上側ミラー１５とを備え、両ミラー間に静電気力を作用させることで両ミラー間の距離を変化可能に構成されている。そして、両ミラー間のエアギャップ１４を取り囲むように配置されるとともに、高屈折率膜２３に達するトレンチ内に埋め込まれた形状の高屈折率膜３１，３３を有し、高屈折率膜２３と絶縁分離されたエッチングストッパ部３と、エッチングストッパ部３の外周側に配置されるとともに、高屈折率膜２３に達するトレンチ内に埋め込まれた形状の高屈折率膜３１，３３を有し、上側ミラー１５とは絶縁分離されるとともに高屈折率膜２１，２３とは導通される下側電圧印加部５を備える。 （もっと読む）

【課題】アパーチャとして機能させるための金属層やドーピング層を用いなくても、アパーチャの光遮断能力を高めることができるファブリペロー干渉計を提供する。
【解決手段】半導体基板１１の他方の面１１ｂのうち透過領域４０に対応する領域に、半導体基板１１を通過する光をこの光の進行方向と同じ方向に射出する射出面１１ｃを設けると共に、半導体基板１１の他方の面１１ｂのうちアパーチャ部４１に対応する領域に、当該領域から射出される光を透過領域４０から遠ざける方向に屈折させる傾斜面１１ｅを設ける。これにより、透過領域４０の周囲の光を傾斜面１１ｅによって透過領域４０からアパーチャ部４１に遠ざけることが可能となり、アパーチャのための金属層やドーピング層を設けることなく傾斜面１１ｅを実質的にアパーチャとして機能させることができる。 （もっと読む）

【課題】広帯域な波長帯域の光であっても、効率良く光を透過させることができるファブリペロー干渉計を提供する。
【解決手段】半導体基板１の他方の面１ｂに、他方の面１ｂに垂直な方向においてアパーチャ１４のうち光を透過させる部分を他方の面１ｂに投影したとき、当該光を透過させる部分の全域に複数の凹凸１ｃを設ける。これにより、半導体基板１の他方の面１ｂと空気との界面において屈折率をなだらかに連続的に変化させることができるので、広帯域な波長帯域の光であっても当該界面において光を効率良く透過させることができる。 （もっと読む）

自己混合干渉を用いて光センサ（６００）に対する対象の動きを検出する光センサ（６００）を有するスイッチについて記載する。光センサ（６００）はレーザ（１００）、検出器（２００）及びフィルタ装置（５００）を有する。フィルタ装置（５００）は、検出器（２００）によって生成される測定信号を、その測定信号が所定閾値を下回る速度での対象の動きによって生じる場合に、抑制する。光センサ（６００）は、対象の動きの速度に依存した選択的なスイッチングを可能にすることができる。
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測定量（１２）の変化に従って変化する光学的な経路長差（ｄ_Ｇａｐ）を光に対して生成する空洞共振器（１１）を含む測定セル（５）による測定量（１２）の評価のために、次の各ステップが提案される：光導波路（４）の経路に配置された結合器（３）を介して前記光導波路（４）により白色光源（２）の光（１）を前記空洞共振器（１１）へ導入し、前記空洞共振器（１１）から前記光導波路へ反射された光（１’）の少なくとも一部を前記結合器（３）によって出力結合し、この反射された光（１’）を光学式の分光計（６）へ供給し、前記分光計（６）で反射された光（１’）の光学的なスペクトルを判定して、分光計信号（８）を生成し、前記分光計信号（８）を計算ユニット（９）へ供給し、前記分光計信号（８）は前記計算ユニット（９）により干渉図形へ直接的に変換され、その強度推移からそれぞれの振幅極値の位置が判定され、このそれぞれの位置が、測定量（１２）を含む、前記空洞共振器内での光学的な経路長差のそれぞれの値を直接的に表している。
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本発明は、測定区域に適用された測長手段（１０２）と測長手段の時間的変動を与えるための測長変動ユニット（Ｂ）を具備する、位置検出のための装置に関係する。検出器（１０８）は、測定された区域の長さと変動の関数として上記測長手段（１０２）を観測し、測定信号を生成する。前記測定信号は、測長手段の時間的変動の関数として評価される。 （もっと読む）

本発明は自己混合干渉計用のレーザーセンサに関する。当該レーザーセンサは、レーザー放射線を放出する少なくとも1つの半導体レーザー光源及び該レーザー光源のレーザー放射線を観測する少なくとも1つの光検出器(6)を有する。前記レーザー光源は、第1端部ミラー(4)の前面上の層構造(15)内に設けられた利得媒体(3)を有するVECSELである。前記第1端部ミラー(4)は外部の第2端部ミラー(5)を備えた外部共振器を形成する。提案された当該レーザーセンサは、検出範囲を広げ、かつ低コスト製造プロセスでの製造が可能である。
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【課題】非接触で2点間の高さの差を測定可能な光干渉式測定装置を提供する。
【解決手段】照射光を発する光源114、照射光を第1参照光と第1検査光に分割する第1半透鏡41、第1参照光と第1測定点91に照射されて第1測定光路長を進んだ第1検査光とを干渉させ、第1干渉縞を形成させる第1光学素子31、照射光を第2参照光と第2検査光に分割する第2半透鏡42、第2参照光と第2測定点92に照射されて第2測定光路長を進んだ第2検査光とを干渉させ、第2干渉縞を形成させる第2光学素子32、第1干渉縞と第2干渉縞の合成干渉縞を検出する干渉縞検出素子153、合成干渉縞から、第1測定光路長と第2測定光路長との光路差に応じて変動する干渉縞成分を抽出する抽出モジュール310、及び干渉縞成分から、第1測定点91と第2測定点92の高さの差を算出する算出モジュール330を備える。 （もっと読む）

【課題】多点の検出位置での振動を高い周波数帯域まで光ファイバを用いて検出できるようにすること。
【解決手段】波長可変レーザ１１の光を光カップラ１３，１５，１８等を用いて分岐し、複数のセンサ部Ｓ１，Ｓ２，Ｓｎに与える。各センサ部では振動に応じて反射位置を変化させる反射板２３，２６，２９を設ける。複数のセンサ部ではセンサ部毎にエタロンの干渉特性をあらかじめ変化させておく。波長可変レーザのレーザ光を一定の波長範囲で走査し、センサ部に与えることによってエタロンの特性に応じた干渉信号が重畳して得られる。これを光電変換しフーリエ変換すると共に、周波数をセンサ部のエタロンの特性に応じて分離することによって、多点のセンサ部での信号を検出する。 （もっと読む）

第１光ビーム及び少なくとも第２光ビームを合成して合成光ビームを形成するステップと、周波数ｆの正弦波位相シフトを、第１光ビームの位相と第２光ビームの位相との間に付与するステップと、正弦波位相シフトに応答して、合成光ビームの変調に基づいて少なくとも一つの干渉信号を記録するステップであって、干渉信号が少なくとも３つの異なる周波数成分を含む前記記録するステップと、そして情報を出力するステップとを含方法が開示される。各干渉信号に関して、第１及び第２光ビームの光路長の差に関する情報を、干渉信号の少なくとも３つの異なる周波数成分の強度を比較することにより導出する。
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【課題】 干渉に利用できる光のパワーを下げることなく高精度の参照波面を生成することが可能で、かつ収差の大きさに依存せずに測定することが可能な波面測定の方法および装置を実現する。
【解決手段】 ２枚以上の鏡から構成されるファブリ・ペロ干渉計１０に光を入射させて入射光とし、入射光のうちファブリ・ペロ干渉計１０の最低次の空間モードと共振する成分を透過させて透過光とし、ファブリ・ペロ干渉計１０と共振せず反射された収差を含む空間成分を反射光とし、透過光と反射光を干渉させることで収差の情報を含む干渉縞を形成させて入射光の波面の収差を検出することを特徴とする光波面測定装置。 （もっと読む）

【課題】成膜中の膜厚またはエッチング中のエッチング深さを測定する。
【解決手段】半導体ウエハ１の第１表面およびリファレンスミラー１３からのそれぞれの反射波１７ｃ、１７ｄによって第１干渉波を検出する。次いで、半導体ウエハ１の第１表面をエッチングすることによって、第１表面から第２表面へ変形する。次いで、半導体ウエハ１の第２表面およびリファレンスミラー１３からのそれぞれの反射波１７ｃ、１７ｄによって第２干渉波を検出する。次いで、第１干渉波と第２干渉波との位相差を電圧値に変換して、リファレンスミラー１３が固定された圧電素子１５にその電圧値を印加して、圧電素子１５を変位させると共にリファレンスミラー１３を移動する。 （もっと読む）