【課題】計測装置の測長軸の調整を不要とし、簡便な取り付け及び光学素子の汚染防止の点で有利な技術を提供する。
【解決手段】参照面と被検面との間の距離を計測する計測装置であって、光源からの光を分割させる光分割素子と、前記参照面、前記被検面及び前記光分割素子を内部に収納すると共に、前記内部において前記参照面及び前記光分割素子を固定するハウジングと、前記ハウジングの外部に設けられ、前記光分割素子から前記参照面までの第１の光路長と前記光分割素子から前記被検面までの第２の光路長とが等しくなるときの前記被検面の位置を示す測長基点を表示する第１の表示部と、前記ハウジングの外部に設けられ、前記第２の光の光路に平行な軸を示す測長軸を表示する第２の表示部と、前記参照面と前記被検面からの反射光との干渉信号から前記参照面と前記被検面との間の距離を算出する処理部と、を有することを特徴とする計測装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】装置を小型化し、かつ非干渉成分の影響を受けず、光パルスの波長分散測定を確実かつ高安定に行う波長分散測定装置等を提供する。
【解決手段】出射する伝搬光の波長が可変な光源と、伝搬光を第1及び第2伝搬光に分離し、出射する際に第1及び第2伝搬光の間に波長差を発生させる光分岐結合部と、偏波保持特性を有するプローブ及び参照光ファイバと、これらの光ファイバのいずれかに設けられ、光伝搬光の位相α_ｉを周期的に変化させる光位相シフタと、プローブ光ファイバに設けられた試料測定部内の試料を透過あるいは反射した第1伝搬光と、参照光ファイバを伝搬する第2伝搬光とを合波し、合波光の位相α_ｉのα_ｉ光成分の干渉要素を干渉信号とする光検出部と、前記光源での波長掃引に同期し、サンプリングクロックを出力する制御部と、サンプリングクロックに同期して第ｉ光成分に対応する干渉信号を時系列に取得するデータ取得部とを有する。 （もっと読む）

【課題】参照面と被検面との間の距離の測定に有利な技術を提供する。
【解決手段】光源からの光を２つの光に分割して、一方の光を参照面に入射させ、他方の光を被検面に入射させ、前記参照面で反射された光と前記被検面で反射された光との干渉光を検出する検出部と、距離を求める処理を行う処理部、前記光源からの光の波長を固定しての干渉光である第１の信号と、前記光源からの光の波長を連続的に変更させながらの干渉光である第２の信号、前記第２の信号を周波数解析して前記第２の信号に含まれる周期誤差を算出し、前記第１の信号に含まれる周期誤差と前記第２の信号に含まれる周期誤差との対応関係を表すテーブルを用いて、前記算出された前記第２の信号に含まれる周期誤差に対応する前記第１の信号に含まれる周期誤差を特定し、前記第１の信号から前記特定された周期誤差を減算し、前記参照面と前記被検面との間の光路長に対応する位相を求める。 （もっと読む）

【課題】グイ位相に伴って生じる計測誤差を低減する。
【解決手段】計測装置１００は、光源から射出された光を参照光と被検光とに分割する分割部１１０と、前記参照光を反射する参照面１１１と、前記被検光を被検面１１３に集光する集光部１１２と、前記被検面でキャッツアイ反射された被検光と前記参照面で反射された参照光との干渉光を検出する第１検出器１１４とを含む計測ヘッド１０１と、前記計測ヘッドを前記被検面に沿って駆動する駆動部１４０と、前記計測ヘッドの位置を検出する第２検出器１５０と、前記被検光の前記被検面における回折によって生じるグイ位相を取得し、前記第１検出器により検出された干渉光の情報から前記被検光と前記参照光との間の位相差を算出し、前記第２検出器により検出された前記計測ヘッドの位置と前記取得されたグイ位相と前記算出された位相差とから前記被検面の形状を算出する処理部１１５と、を備える。 （もっと読む）

【課題】被検光束のシア量の設定の自由度を向上させるために有利な技術を提供する。
【解決手段】被検光学系からの光の波面を測定するシアリング干渉測定装置は、撮像素子と、前記被検光学系の瞳を前記撮像素子の撮像面に結像させる瞳結像光学系と、前記瞳結像光学系の光路に配置され、前記被検光学系からの光の波面を分割することによって複数の波面を形成する回折格子と、前記回折格子によって分割された複数の波面の間の前記撮像面におけるシア量が変更されるように前記シアリング干渉測定装置の光軸に平行な方向における前記回折格子の位置を変更するための駆動機構とを備え、前記回折格子によって分割された複数の波面によって形成される干渉縞を前記撮像素子によって撮像する。 （もっと読む）

【課題】動的干渉計を使用した薄膜形成監視方法の提供。
【解決手段】動的干渉計（dynamic interferometer）を用いた薄膜成長リアルタイム監視方法が開示される。光学監視により成長薄膜スタックの反射係数の時間的位相変化を抽出する。該動的干渉計（dynamic interferometer）は、振動と乱気流の影響を排除し、直接的に成長薄膜スタックの変動位相を検出する方法に使用される。反射率或いは透過率測定と組み合わせて、監視光の垂直入射下でのリアルタイム反射係数が光学アドミタンスと同様に見つけられ、これにより薄膜成長の誤り補償強化に供される。 （もっと読む）

【課題】参照光の位相設定精度に限界がある場合でも、測定対象物による位相シフト量を用いた計測する光位相測定装置を提供する。
【解決手段】コヒーレント光源８１、光源よりの光波を２分岐する光分岐手段８２、光波のうちの参照光波８９を周波数ωｍで位相変調する位相変調手段８３ａ、分岐された後に被測定対象物８５を透過又は反射した信号光波と位相変調された参照光波８９とを合成する光合成手段９７と、合成された干渉光の強度を測定する光強度測定手段８８を有する光干渉計を備えた光位相測定装置で、干渉光の強度を一定の時間に亘って取得し、取得した時系列の強度信号をフーリエ変換し、位相変調の周波数ωｍの整数倍の周波数成分のうち少なくとも２つの成分の光強度を演算して、位相変調手段の変調指数ｍを同定して、該変調指数ｍに基づいて前記被測定対象物８５による信号光波の位相変化量φを算出する演算手段９５を備えた光位相測定装置。 （もっと読む）

【課題】
光干渉を用いた変位計測装置において、プローブ光路と参照光路とが空間的に分離して
いるため、空気の揺らぎ等による温度分布や屈折率分布、あるいは機械振動が生じた場合
、両光路間で光路差が変動し、測定誤差となってしまう。
【解決手段】
プローブ光の光軸と参照光の光軸を外乱の影響を受けない距離まで近接させて、プロー
ブ光を対象物に、参照光を参照面に各々照射し、その反射光同士を干渉させ、生じた干渉
光から対象物の変位量を求める （もっと読む）

【課題】光の波長の変化による位相のずれを補償し、位相の観測・位相の検出に適した光干渉計を実現する。
【解決手段】外部入力光を２つの光路の光に分ける第１のビームスプリッタ１０と、一方の光路に挿入したファラデー効果を利用した透過型の可変光位相器１２と、２つの光路に分けた光を再度重ね合わせる第２のビームスプリッタ１４を具備している。可変光位相器は、入力した直線偏光を円偏光に変換する第１の四分の一波長板２０と、その円偏光を、偏光面を回転させながら透過させる可変ファラデー回転子２２と、それを透過した円偏光を直線偏光に変換して出力する第２の四分の一波長板２４を備え、この第２の四分の一波長板から出力する光の位相を、可変ファラデー回転子のファラデー回転角に応じて変化させる構造とする。そして、第２のビームスプリッタは、２つに分けた他方の光路の光と前記可変光位相器の透過光とを重ね合わせて外部出力光とする。 （もっと読む）

【課題】分光器の分解能が異なる場合に発生するコントラスト差を補正する。
【解決手段】光源から照射された測定光の対象物体からの戻り光と、光源から照射された参照光のミラーからの戻り光とを合波して、分光器により分解されて検出された波長スペクトルに基づいて対象物体の断層像を構成する構成部を備える光干渉断層撮像装置であって、分光器の分解能を含む対象物体の測定条件を選択する選択部と、構成部により構成された断層像の光強度を、選択部により選択された分光器の分解能ごとに予め定められた伝達関数によって規格化する規格化部と、規格化部により規格化された断層像の光強度から画像を形成する画像形成部と、を備える。 （もっと読む）

【課題】光干渉信号出力をセンサ信号とするセンサでは、光干渉信号方式としてホモダイン干渉方式があり、センサの構成は簡単であるが、安定な動作を得るには、使用部品に対し厳しい工作精度と熱膨張対策が必要であると共に、センサ信号として変動できる位相範囲は±９０度以内に限られていた。
【解決手段】干渉計の入力を周期性光パルスとし、参照光パルスの前半と後半で位相を９０度ずらせて、計測光パルスと干渉させることにより、２つの干渉出力ｉ、ｊを得て、その参照光と計測光とから２つの余弦信号ｃｏｓθｉ、ｃｏｓθｊを算出して余弦曲線上に位置を定め、その角度θｉ、θｊを求めることにより、干渉光のレベル、位相変動の影響を除外するとともに、１周期前との角度の差分を積算して出力することにより、センサ信号として変動できる位相範囲が±９０度を超えることを許容する光ファイバセンサを提供する。 （もっと読む）

【課題】ダイナミックレンジの広い演算器が不要な干渉型光ファイバーセンサーシステムを提供する。
【解決手段】物理量を検知するセンシングファイバー１１ａおよびリファレンスファイバーを有する干渉計と、前記物理量の測定信号３を含む干渉光３２ａを、電気信号に変換するＯ／Ｅ変換器３３と、前記電気信号から、正弦波成分および余弦波成分を抽出するＡＭ復調器５１ａ、５１ｂと、該正弦波成分および該余弦波成分を用いて逆正接演算を行い、前記測定信号を含む信号を出力する逆正接演算器５３と、前記逆正接演算器から出力された信号の所定時間毎の差分を算出し、該差分信号を出力する差分器６１と、を備える。 （もっと読む）

【課題】光の干渉現象を利用して検出した干渉光（光ビート信号）が正規の像を取得させるものであるのか折り返し像を取得させるものであるのかを簡易に判定することができる光干渉計測方法を提供する。
【解決手段】光源ユニットから射出された光を測定光と参照光とに分割し、前記参照光と、前記測定光が照射された測定対象１１から反射または後方散乱した光と、が干渉した干渉光を検出し、前記参照光の光路に設けられた光路長可変機構１３を駆動させて前記参照光の光路長を変化させ、前記参照光の光路長の変化に応じた前記干渉光の変化に基いて、検出された前記干渉光に基づく画像が正規の像か折り返し像かを判定し、その判定の結果に基いて前記干渉光から前記測定対象を計測する。 （もっと読む）

【課題】 光干渉信号出力をセンサ信号とするセンサでは、光干渉信号方式として、ホモダイン干渉方式があり、構成は簡単であるが、その入力となる参照光と計測光との位相関係が同位相または逆位相付近にある時にその干渉出力の歪が大きくなり、そこを避けるためには、干渉計の光路長に関係する部品には、参照光と計測光の位相関係を良好に保つために、高い工作精度と、熱膨張対策が必要であった。
【解決手段】干渉計の入力となる参照光の位相を９０度変化させて、２つの位相の参照光とすることにより、一方の位相の参照光と計測光との位相関係が同相または逆相付近にあった場合には、他方の参照光と計測光の位相関係は９０度近く異なることになり、必ずどちらかが歪の少ない干渉出力となることにより、前後の干渉出力から判別処理し、センサ出力とすることで、光部品の工作精度や熱膨張による位相変動を許容した光ファイバセンサを提供する。 （もっと読む）

【課題】ゴースト光に起因した干渉計の測定制度の低下を抑制することができる干渉計を提供する。
【解決手段】干渉計は、光源と、前記光源から射出された光のうち第１偏光成分を参照光として反射し、第２偏光成分を測定光として透過する第１偏光ビームスプリッタと、前記光源と前記第１偏光ビームスプリッタとの間に配置された複屈折材料の素子と、前記第１偏光ビームスプリッタを透過し被検面である反射面で反射され前記第１偏光ビームスプリッタを透過した測定光と前記第１偏光ビームスプリッタで反射された参照光との干渉光を受光する受光素子と、を備える。前記参照光と前記測定光とは、前記第１偏光ビームスプリッタと前記受光素子との間で前記複屈折材料の素子を通過する。 （もっと読む）

【課題】試験対象物の第１及び第２表面を干渉法によってプロファイルすることに加えて、第１基準面と第２基準面との間の空間的関係に基づき、試験対象物の幾何学的特性を測定する。
【解決手段】本発明は、試験対象物の幾何学的特性を測定するための方法を特徴とする。この方法は、第１基準面に対して、試験対象物の第１表面を干渉法によってプロファイルする工程と、第１基準面とは異なる第２基準面に対して、試験対象物の第２表面を干渉法によってプロファイルする工程と、第１基準面と第２基準面との間の空間的関係を提供する工程と、干渉法によってプロファイルした表面、並びに第１基準面と第２基準面との間の空間的関係に基づいて、試験対象物の幾何学的特性を計算する工程とを含む。ある実施形態では、この空間的関係は、校正済みのゲージ・ブロックを使用することによって、または変位測定干渉計を使用することによって測定することができる。対応するシステムも説明される。 （もっと読む）

【課題】 干渉光の強度のピーク及びコントラストを最適化し、高速かつ高精度に被測定物の表面位置を測定できる測定装置を提供する。
【解決手段】 本発明は、光源から出射され分岐された光のうちの、参照面で反射された参照光と被測定物の表面で反射された測定光とによる干渉光の強度に基づいて前記被測定物の表面位置を測定する測定装置であって、測定光の光量を検出する検出部と、参照光の光量と前記検出部により検出された測定光の光量とに基づいて算出される干渉光の強度が目標範囲に入るように前記光源の光量を制御する制御部と、を備える。 （もっと読む）

【課題】安価で高精度な光波干渉計測装置を提供する。
【解決手段】光波干渉計測装置は、複数のスペクトルを有する光束を射出する第１多波長光源２００ａと、第１多波長光源からの光束とは異なる波長を有する光束を射出する第２多波長光源２００ｂと、第１多波長光源２００ａ及び第２多波長光源２００ｂからの光束を分離する偏光ビームスプリッタ６と、第２多波長光源２００ｂからの光束を反射する参照面７と、第１多波長光源２００ａからの光束を反射する被検面８と、第１多波長光源２００ａ及び第２多波長光源２００ｂからの光束の干渉信号を分光する分波器９ａ、９ｂと、第１多波長光源２００ａ及び第２多波長光源２００ｂからの光束の単一波長同士の干渉信号を複数の波長について検出する検出装置１０ａ、１０ｂと、検出装置１０ａ、１０ｂからの信号を処理して参照面７と被検面８との間の光路長差を算出する解析装置１１とを有する。 （もっと読む）

波長選択器５が広帯域光源４の波長を選択する。光導波器ＢＳ１、ＢＳ２が、波長選択器からの光を測定経路に沿ってサンプル表面の領域に向けて誘導すると共に基準経路に沿って基準表面に向けて誘導し、サンプル表面の領域によって反射された光及び基準表面によって反射された光が干渉してインターフェログラムを生成するようにしている。コントローラ２０が、波長選択器を制御して、波長選択器によって選択される波長を変更する。記録器６３が、連続した画像を記録し、各画像は、波長選択器によって選択された波長のそれぞれ１つによって生成されたインターフェログラムを表す。データプロセッサ１８、１８０が、記録された画像を処理して、サンプル表面の少なくとも一部の表面プロファイル及び表面高マップのうちの少なくとも一方を作成する。基準経路を制御して、振動、熱的効果及び乱流のような環境影響を補償することができる。データプロセッサは、グラフィックス処理装置を用いて、ピクセルデータを並列に処理することを可能にすることができる。
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【課題】複雑な表面構造を有する対象物の表面トポグラフィおよび／または他の特性を、走査干渉分光法を用いて測定する。
【解決手段】試験対象物の第１の表面箇所に対する走査干渉分光信号から導出可能な情報と試験対象物の複数のモデルに対応する情報とを比較することを含む方法であって、複数のモデルは、試験対象物に対する一連の特性によってパラメータ化される方法。複数のモデルに対応する情報は、試験対象物の各モデルに対応する走査干渉分光信号の変換分（例えば、フーリエ変換分）の少なくとも１つの振幅成分についての情報を含んでもよい。第２の側面では、モデルは固定された表面高さに対応するとともに、固定された表面高さとは異なる一連の特性によってパラメータ化されている。第３の側面では、比較は、走査干渉分光信号の系統的な影響を明確にすることを含む。 （もっと読む）