【課題】光学系の組み立て調整が容易で、かつ、スケール部に異物等が付着した際の光量低下を抑えることが可能な光学式変位測定装置を提供する。
【解決手段】光学式変位測定装置１Ａは、スケール部１１Ａの回折格子１１Ｔで回折された２つの１回回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２を再度回折格子１１Ｔに照射する反射光学系１６を備える。反射光学系１６は、直角を３つ合成した頂点を持つ三角錐のプリズムで構成されるマイクロコーナーキューブプリズムが、縦横に並べて配列されるマイクロコーナーキューブプリズム集合ミラー１７ａ，１７ｂを備える。 （もっと読む）

【課題】基板及びリソグラフィ装置の性能に関する物理的特性を迅速に検出する。
【解決手段】概ね第一方向に延在する少なくとも１本の線によって形成された延在パターンの特性を検出する。延在パターンは、基板又は基板テーブル上に形成され、好ましくは線の幅の少なくとも５０倍の長さにわたって延在する。検出方法は、基板テーブルを第一方向に移動させ、その第一方向ｘに沿って延在パターンの特性を測定することを含む。特性は、第一方向に対して直角の第二方向ｙにおける延在パターンの物理的特性の結果である。次のステップでは、延在パターンの測定位置から基板テーブル位置の較正を導出することができる。 （もっと読む）

【課題】被処理基板上のレジスト膜に形成された複数の回路パターン毎の寸法を測定し、直後に測定情報に基づいて紫外光を照射して各回路パターン毎の補正を行うようにした回路パターンの補正方法及びその装置を提供する。
【解決手段】半導体ウエハＷ表面のレジスト膜に形成される複数のチップＣＰ（回路パターン）の寸法を目標寸法に補正する回路パターンの補正方法において、ウエハに形成された各回路パターン間のピッチと同寸法に回路パターンの測定手段７０と紫外線照射手段７１との位置を調整し、測定手段によって各回路パターンの寸法を順次測定し、測定手段によって測定された情報に基づいて各回路パターンの補正量を演算して目標寸法に達する紫外線の照射量を決定し、紫外線照射手段によって各回路パターンに順次、上記決定された照射量の紫外線を照射する。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ露光装置中でパターン付き放射ビームを測定する、より正確なセンサを提供する。
【解決手段】リソグラフィ露光装置中でパターン付き放射ビームを測定するセンサは、パターン付き放射ビームを受け取る受容部分と、受容部分を介してパターン付き放射ビームの少なくとも一部分を受け取るように配置された処理部分とを含む。センサの受容部分は、基板を保持するための基板テーブル中に一体化されている。 （もっと読む）

【課題】半導体装置の製造環境の変化を簡便かつ迅速に把握する。
【解決手段】製造装置内部やクリーンルーム内等のモニタ環境下に、シリコンウェーハを一定時間放置し、その放置の間にシリコンウェーハ表面に形成された酸化膜の膜厚を求める（ステップＳ１〜Ｓ４）。そして、その放置の間の膜厚増加量を、正常なモニタ環境で許容される膜厚増加量の閾値と比較し、閾値を上回る場合には、モニタ環境が異常であると判定すると共に、そのシリコンウェーハの定性分析や定量分析を行って異常原因を調査する（ステップＳ５，Ｓ６）。シリコンウェーハ表面に形成される酸化膜の膜厚増加量を用いることで、モニタ環境の変化を簡便かつ迅速に把握することができる。また、異常が認められたときのみ詳細な分析を行うようにすることで、分析コストを抑えることが可能になる。 （もっと読む）

【解決手段】バーコード読み取り装置および方法であって、そこではプローブ光のスペクトルがまず空間にフーリエ変換され、バーコード上に導かれ、そしてフーリエ変換され、スペクトル的に符号化されたバーコードパターンを時間ドメインの波形に変換する。ある実装では、スペクトルドメインから空間ドメインへのフーリエ変換は分散要素によって行われ、一方でスペクトル的に符号化されたバーコードパターンから時間ドメインの波形へのフーリエ変換は群速度分散（ＧＶＤ）によって行われる。時間的に符号化されたバーコードパターンは光ディテクタによって検出され、デジタイザによってデジタル化され、およびデジタル信号プロセッサによって解析される。本発明は、１および２次元バーコードの読み取りや変位検知や表面測定や幅およびギャップの測定やフローサイトメトリや光メディアの読み取りや存在または非存在検出や他の関連分野を含む複数の分野に適用可能である。 （もっと読む）

本発明の主な分野は、光ファイバセンサの分野である。本発明によるセンサは、物理量の測定に用いられ、少なくとも、
・ 少なくとも１つのブラッググレーティング（１２）を含む測定用光ファイバ（１０）と、
・ 上記ファイバに、第１の、「ポンプ」波を第１の光周波数で注入し、第２の、「プローブ」波を第２の光周波数で注入するように設計された光学的手段（２０）であって、第２の光周波数は、第１の光周波数と異なり、ブラッググレーティングは、第１および第２の光波を反射するように設計されており、第１の波の光パワーは、誘導ブリルアン散乱によって反射された第２の波との相互作用の後に、「ストークス」波を与えるのに十分であり、ストークス波の周波数は、被測定物理量を表す、光学的手段（２０）と、
・ ２つの光波、すなわち、「ポンプ」波および「ストークス」波の間の周波数差を分析する手段（４０）と、を含む。
本センサは、特に、ハイドロホンとして用いることが可能である。
（もっと読む）

【課題】膜厚をより高い精度を測定することが可能な膜厚測定装置を提供する。
【解決手段】モデル化部７２１Ａは、フィッティング部７２２Ａからのパラメータ更新指令に従って第１層の膜厚ｄ_１を順次更新し、この更新後の第１層の膜厚ｄ_１に従って理論反射率を示す関数を更新する。さらに、モデル化部７２１Ａは、更新後の関数に従って、各波長における理論反射率（スペクトル）を繰返し算出する。このような手順によって、第１層の膜厚ｄ_１がフィッティングによって決定される。フィッティングが規定回数以内に収束しなかった場合には、フーリエ変換を用いて、第１層の膜厚ｄ_１が決定される。 （もっと読む）

【課題】膜厚をより高い精度を測定することが可能な膜厚測定装置を提供する。
【解決手段】測定光の波長が長くなるほど、被測定物に対して測定される反射率波形の周期は短くなる。ＩｎＧａＡｓなどの各アレイ素子が波長について等間隔に配置されているとすると、波数に対する各アレイ素子の配置間隔は波数が小さくなるほど広がる。したがって、波数に対して所定の周期で変化する反射率波形を正確にサンプリングするためには、この各アレイ素子の配置間隔（波長分解能Δλ）がナイキストのサンプリング定理を満たす必要があり、このサンプリング定理が満たされるという条件によって、膜厚測定範囲の上限値ｄ_ｍａｘが決定される。 （もっと読む）

【課題】 バンドパスフィルタを用いて制限した光を被検物の表面に当てて、その反射光により被検物の表面を安定的に観察する。
【解決手段】 被検物を照射する光の光源と、該光源の光から所定の波長成分を抽出する第１のフィルタと、記第１のフィルタを通過した光のうち前記所定の波長成分の範囲内であり前記第１のフィルタよりも狭い帯域の抽出特性を有する第２のフィルタと、前記第１のフィルタと前記第２のフィルタとで抽出された前記光で前記被検物を照明する照明光学系と、前記照明された前記被検物の観察を行う観察光学系とを用いる。 （もっと読む）

【課題】この発明は、試料片の厚さを屈折率分布の計測と同時に、かつ高精度で行うことを可能とし、もって屈折率分布を高精度で計測することを可能とすることを課題とするものである。
【解決手段】屈折率が既知でかつその値が異なる２種以上の透明な板状体１，２と、屈折率が未知の被計測部分が包埋された被計測試料５とをその薄片化方向に沿った面を当接させて積層し、次いで前記積層された板状体と試料体とに薄片化加工を施して被計測薄片９を形成する。
干渉計測を行うために、一旦可干渉光を二分し、一方には被測定部分の情報、他方には基準となる位相の情報を持たせた後、その両者を重畳させる。こうして得られた干渉画像から、一の板状体と他の板状体のそれぞれの領域を透過した可干渉光の間の位相差を計測し、この位相差と前記透明板状体の既知の屈折率から前記被計測薄片の厚さを計測する。 （もっと読む）

【課題】 欠陥検知及び分類のための共通光路干渉イメージング用のシステム及び方法を記載する。
【解決手段】 照明光源が可干渉光を発生し且つサンプルへ向けて指向させる。光学的イメージングシステムが、該サンプルにより主に回折されていない鏡面成分と散乱成分とを包含しており該サンプルから反射又は透過された光を回収する。可変位相制御システムが、画像面において干渉する態様を変化させるために散乱成分と鏡面成分の相対的位相を調節するために使用される。その結果発生する信号は該サンプル上の同じ位置に対する参照信号と比較され、スレッシュホールドを超える差が欠陥であると考えられる。このプロセスは、各々が異なる相対的位相シフト及び各欠陥位置で複数回繰り返され、且つその差信号がメモリ内に格納される。このデータは各欠陥に対する振幅及び位相を計算するために使用される。 （もっと読む）

【課題】移動体の位置情報を精度良く計測できる位置計測装置を提供する。
【解決手段】位置計測装置は、移動面内を移動する移動体の位置情報を計測する。位置計測装置は、移動体の第１面に配置された移動格子に光を照射する光源と、光源との位置関係が固定で、移動格子で回折された光が入射する第２面を有し、入射した光を回折又は反射して移動格子に戻す固定光学部材と、移動格子を再度介して干渉された光を検出する検出装置と、を備え、第１面と第２面とはほぼ平行である。 （もっと読む）

【課題】高精度且つ安定な移動テーブルの位置計測を実現する。
【解決手段】 液浸露光方式の露光装置において、投影光学系ＰＬとの間に供給される液体によってウエハＷ上面に液浸領域ＡＬｑが形成され、そのウエハＷを保持する移動テーブル上に、複数のエンコーダヘッド６０Ａ〜６０Ｄが配置されている。制御装置は、複数のエンコーダヘッドのうち、液浸領域外にあるエンコーダヘッド６０Ａ，６０Ｂ，６０Ｄを用いて、ＸＹ平面内における移動テーブルの位置情報を計測する。これにより、高精度且つ安定な移動テーブルの位置情報の計測が可能となる。 （もっと読む）

【課題】短波長の放射線を使うリソグラフィ投影装置では反射性マスクとその支持構造体の整列を長波長の光では吸収層と反射性基板の間の反射率の差に基づいて行うことが困難であるので、それが安価にできる整列マーカおよび整列方法を提供すること。
【解決手段】この発明の整列方法は、マスクＭＡ上に基板Ｗに投影すべきパターン３と並べて設けた高さ差のある整列マーカ５を整列センサ１の光源７が出す光ビーム４で照射し、その反射光を結像光学素子８で処理して検出器９で受け、その高さ差の位置を検出してマスクＭＡと支持体ＭＴの整列に使う。それで整列マーカ５とパターン３を同じ製造プロセスで同時に製造することができ、両者間の整列不良のリスクが少なく、整列マーカ５の照明を安い光源７でパターン３の照明と独立に行えるので、この整列センサ１をリソグラフィ装置内に設け、その場での整列ができる。 （もっと読む）

【課題】テーブルの位置を精度良く計測する。
【解決手段】 エンコーダシステムを構成する複数のヘッドがウエハテーブルに設けられ、スケール板２１（回折格子ＲＧ）に対向するヘッドの出力に基づいて、ウエハテーブルのＸＹ平面内における位置情報が計測される。ここで、各ヘッド、例えばヘッド６０Ｃのウエハテーブルとの相対位置（相対姿勢、回転を含む）がヘッド内部に設けられた計測系により計測される。従って、計測された相対位置の情報に基づいて位置情報を補正することにより、ウエハテーブルの動きに伴ってヘッドの位置（姿勢、回転）が変化する場合においても、高精度なウエハテーブルの位置情報の計測が可能となる。 （もっと読む）

【課題】パターン内に位置するターゲットの検出に関する。
【解決手段】本発明は、周囲パターンのフーリエ変換を除去することによって瞳面内で動作する。特に、当該方法は、反射した放射のデータに対してフーリエ変換を行ってフーリエ変換データを生成することと、フーリエ変換データの、ターゲットに対応する部分を除去して減少フーリエ変換データを生成することと、除去された減少フーリエ変換データの部分を補間して積フーリエ変換データを生成することと、フーリエ変換データから積フーリエ変換データを減じることと、を含む。 （もっと読む）

【課題】回転軸の軸方向の変位（アキシャルモーション）の測定精度を向上させることができる回転軸の軸方向変位測定装置、スケール部および角度スケール部を提供すること。
【解決手段】アキシャルスケール吸収部５２は、主軸２の外周面の円周方向に連続して凹設された断面Ｖ字形状の溝であり、アキシャルスケール反射部５３は、主軸２の外周面の円周方向に連続して延設される円筒面である。そのアキシャルスケール吸収部５２とアキシャルスケール反射部５３とは交互に配設されている。よって、主軸２が軸心Ｔを中心として回転している状態において、アキシャルスケール吸収部５２でレーザー光線Ｌ１が吸収または拡散されて、アキシャルスケール反射部５３でレーザー光線Ｌ１が反射回折される。その反射回折されたレーザー光線Ｌ１を照射部３１で測定することで主軸２の軸心Ｔ方向の変位を測定することができる。 （もっと読む）

【課題】回折パターンを用いて経時変化する液滴形状に適した計測条件の最適化方法を提供する。
【解決手段】経時変化する液滴の形状計測において、撮像された回折パターンからコントラスト情報を抽出し（ステップＳ４−２）、回折パターンの中央部のコントラストを、液滴の接触径を計測可能なコントラストになるように調整する（ステップＳ４−７）。そして接触径を計測し、計測された接触径に基づいて、レーザー光のビーム径を最適化する。上記の工程を経て得られた回折パターンを解析することで液滴形状を計測し、計測結果を時系列に並べることで液滴の形状変化を計測する。 （もっと読む）

【課題】干渉信号に歪みが生じた場合における測定誤りを防止する。
【解決手段】被測定物の面位置を測定する測定装置は、前記被測定物からの測定光と参照ミラーからの参照光とを光電変換素子の受光面で干渉させることによって干渉パターンを形成し、該干渉パターンを前記光電変換素子によって光電変換して干渉信号を出力する第１測定器と、前記被測定物の面位置を測定するための第２測定器と、演算処理部とを備え、前記演算処理部は、前記第２測定器を用いて測定された結果によってセントラルフリンジのピークであることが保証される前記干渉信号のピークに基づいて前記被測定物の面位置を検出する。 （もっと読む）