【課題】本発明は、多重回折格子記録媒体のそれぞれの模様を検出することが可能な品質検査装置及び品質検査方法に関する。
【解決手段】多重回折格子記録媒体の裏面側から透過光を照射する透過光照射部と、多重回折格子記録媒体を保持する保持部と、多重回折格子記録媒体の透過光軸方向に設けられ、多重回折格子記録媒体の透過光を偏光する偏光素子と、偏光素子を前記多重回折格子記録媒体の透過光の光軸を中心に所定の角度に回転する偏光素子回転部と、所定の角度に応じて多重回折格子記録媒体の透過光による各模様の読取を行う画像読取部を有する画像撮影部と、画像撮影部により読取られた各模様を演算処理し、あらかじめ記録した基準模様と比較して良否判定を行う画像処理部と、画像処理部により演算処理された模様と、良否判定の結果を表示する出力部を有する。 （もっと読む）

【課題】ウエハを保持するステージを高精度で駆動する。
【解決手段】 微動ステージＷＦＳ１と微動ステージＷＦＳ１を支持する粗動ステージＷＣＳ１とにより囲まれる空間内に位置決めされる計測アーム７１Ａがエンコーダヘッドを有し、該ヘッドにより微動ステージＷＦＳ１に設けられたグレーティングＲＧに計測ビームを照射し、グレーティングＲＧからの戻りビームを受光する。ヘッドの出力に基づいて、微動ステージ位置計測系が微動ステージＷＦＳ１の位置情報を計測する。計測アーム位置計測系７２Ａ_０が、計測アーム７１Ａの光軸ＡＸに対する相対位置情報を計測する。従って、微動ステージ位置計測系と計測アーム位置計測系７２Ａ_０との計測結果に基づいて、光軸ＡＸを基準とする微動ステージＷＦＳ１の位置情報を高精度で計測する。 （もっと読む）

【課題】測定対象物に取り付ける際に光ファイバーが折れたり、破断したりするのを防止すると共に、計測精度の向上を図る。
【解決手段】本発明に係るセンサー１０は、縦糸１１に略直交するように横糸１２が織り込まれて形成された織物１３を備え、織物１３の縦糸１１と横糸１２のうちの少なくともいずれか一方の繊維に光ファイバー１４が含まれていることを特徴とし、光ファイバー１４はＦＢＧセンサーとして機能してもよい。 （もっと読む）

【課題】オートコリメータを使用したレンズの偏心測定精度を改善する。
【解決手段】オートコリメータ１００を用い、かつ光軸を有する光学素子１を回転させて上記光学素子における上記光軸と回転軸との偏心を調整する偏心調整方法であって、光源１３０が発する光束から回折光学素子１１２によりそれぞれ異なる次数の回折光１３１，１３２を上記光学素子の光学作用面１ａ及びフランジ面１ｃに照射し、受光部１２０で検出された検出結果から、上記光学作用面における光軸と上記光学素子の上記回転軸とが一致するように上記光学素子を位置決めする。 （もっと読む）

【課題】エンコーダシステムを用いたステージを位置決めする場合、スケール間に存在する幾何学的誤差に起因する計測誤差を低減する。
【解決手段】可動体に配置された複数のセンサと、構造体に取り付けられた複数のスケールとを有し、前記可動体の変位を検出することによって前記可動体の位置を計測する計測装置であって、前記複数のスケールは、第１方向における前記可動体の変位を検出するための２つの第１スケールと、前記第１方向とは異なる第２方向における前記可動体の変位を検出するための２つの第２スケールとを含み、２つのセンサによる検出値とが等しくなるように前記可動体を前記第１位置から前記第２位置に移動させたときに前記２つの第１スケールに対向している２つのセンサによってそれぞれ検出される変位の間の差に基づいて、前記２つの第１スケールの間に存在する幾何学的誤差に起因する計測誤差を低減する制御部とを備える。 （もっと読む）

【課題】スケール用のパターンが形成されたパターン形成面の法線方向の位置情報を高精度に計測する。
【解決手段】スケール体２８ｅは、Ｙスケール３９Ｙ₂が形成されたパターン板４ｅと、パターン板４ｅに設けられ、Ｙスケール３９Ｙ₂を覆うカバーガラス５と、カバーガラス５の表面に形成され、互いに異なる波長域の第１の光及び第２の光に対して波長選択性を有する波長選択膜７と、を備え、波長選択膜７を介してカバーガラス５を透過する第１の光の透過率は、カバーガラス５のみを透過する第１の光の透過率より低く、波長選択膜７を介してカバーガラス５を透過する第２の光の透過率は、波長選択膜７で反射する第２の光の反射率より高い。 （もっと読む）

様々な計測システムおよび計測方法が提供される。 （もっと読む）

【課題】複数の基準座標系相互間のずれを較正する。
【解決手段】 ステージＷＳＴ１上に搭載された４つのヘッド６０_１〜６０_４のうち、互いに異なる１つのヘッドを含む３つのヘッドが属する第１ヘッド群と第２ヘッド群とに含まれるヘッドがスケール板上の対応する領域に対向する領域Ａ_０内で、第１ヘッド群を用いて得られる位置情報に基づいてステージＷＳＴ１を駆動するとともに、第１及び第２ヘッド群を用いて得られる位置情報を用いて対応する第１及び第２基準座標系Ｃ_１，Ｃ_２間のずれ（位置、回転、スケーリングのずれ）を求める。その結果を用いて第２ヘッド群を用いて得られる計測結果を補正することにより、第１及び第２基準座標系Ｃ_１，Ｃ_２間のずれが較正され、４つのヘッド６０_１〜６０_４のそれぞれが対向するスケール板上の領域の相互間のずれに伴う計測誤差が修正される。 （もっと読む）

【目的】光損失の小さい1550nm付近の帯域光を使用するBOTDRといわゆるＣバンド帯域の波長分割多重化方式FBGとを組み合わせて測定することによって、最大10kmに及ぶ範囲のひずみ測定を高精度に行うことができる、ひずみ・変形の計測監視装置を提供する。
【構成】ＦＢＧ光測定器とＢＯＴＤＲ光測定器と、両測定器の使用を切り替える光スイッチと、光スイッチを介して両測定器に接続された光ファイバと複数個のＦＢＧセンサとにより構成された測定部とを備え、複数個のＦＢＧセンサに略１５５０ｎｍ付近の波長光を検出するＦＢＧセンサを使用してなり、光スイッチによりＦＢＧ光測定器とＢＯＴＤＲ光測定器とを切り替え、両測定器による測定が時間をずらして同一の前記測定部で行える、ことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】より小さいターゲット上のより正確な測定 を行うことができる、改善されたメトロロジ方法および基板上の複数のターゲットの特性を測定するように構成されたメトロロジ装置等を提供する。
【解決手段】メトロロジ装置を配置してオフアクシス照明モードで複数のターゲットを照明する。１つの１次回折ビームのみを用いてターゲットのイメージを得る。ターゲットが複合格子である場合、回折格子のイメージの強度からオーバーレイ測定値を得ることができる。イメージフィールド内の格子の位置変動に起因するエラーについてオーバーレイ測定値を補正することができる。 （もっと読む）

【課題】プロファイル及びそのバリエーションをユーザが設定するのを手助けするシステムを提供する。
【解決手段】既知のオブジェクトのイメージ４２を取り込むこと、及び、このイメージ上に、手動又は自動によって推定プロファイル２０を重畳すること、を含む。推定プロファイルは数学的に定義され、かつ、上記イメージと一致するようにセグメント毎に調節される４０ことによって、調節された推定プロファイルが、上記イメージに関連する当該回折スペクトルとともに記憶される。あるいは又はこれに加えて、ユーザは、既知のイメージのプロファイルをトレース（又は自由描写）し、その後、多項式、スプライン、又はベクトル等の数学関数の形状定義物を推定プロファイル上に描くことにより、未知のオブジェクトのプロファイルをその回折パターンから再構成する際に使用し得る。 （もっと読む）

【課題】マクロ検査ツールの適用性を広げ、高スループットで半導体ウェハからより詳細な検査情報を得る。
【解決手段】ウェハ検査方法は、ウェハ上に繰り返し配列されている個々の微細構造を解像するには不十分な結像解像度でウェハの全表面を結像させるステップを含む。本発明によれば、微細構造のフィーチャの特性は、微細構造を結像において直接解像することができないとしても、被選択検出信号群からの１若しくは複数の値の計算によって決定される。このようにして、記録される画像にマスク（１０９）が施され、画像の非マスク部分（１１１）は平均化によってさらに処理される。非マスク部分（１１１）は、ウェハのメモリ部分を含むように選択される。フィーチャ特性は、線幅、側壁の角度、微小寸法（ＣＤ）などを含むことができる。互いに異なる照明波長または偏光状態で撮影した複数の画像を組み合わせることもできる。 （もっと読む）

【課題】露光装置の光学的像面を精度よく計測可能な装置を提供する。
【解決手段】露光装置５０により所定のマスクパターンが投影露光されて表面に半導体パターンが形成されたウェハ１０を支持するステージ５と、ステージ５に支持されたウェハ１０の表面に照明光を照射する照明系２０と、照明光が照射されたウェハ１０の表面からの光を検出する撮像装置３５と、撮像装置３５に検出されたウェハ１０の表面からの光の情報に基づいて、露光装置５０により投影露光されるマスクパターンの像面の傾きを求める画像処理部４０とを備えて構成される。 （もっと読む）

【課題】測定面の傾斜量を高精度に測定する。
【解決手段】光源１より測定面２へ照明光２０を照射し、その反射光を回折格子８に入射させる。回折格子８より生じる±１次の回折光２２は光学ユニット３の一対の回折格子９に入射し、測定面２の傾斜量に応じた光路差を持つ２つの回折光２３を生じる。各回折光２３を集光光学素子１０により受光素子４に集光させると、上記光路差により干渉光を生じる。この干渉光の強度変化を測定することで上記光路差を求めて、測定面２の傾斜量を計算する。 （もっと読む）

【課題】一つのセンサで同時に正反射面及び乱反射面の傾き角度の測定を行うことができるチルトセンサを提供する。
【解決手段】検出領域に向けて測定用光を出射する投光部、および、検出領域で反射された測定用光を受光する受光部からなる光学系を備え、投光部は、発光素子とコリメータレンズとを具備して構成され、受光部は、正反射光測定部と乱反射光測定部とを備え、正反射光測定部は、受光レンズと受光素子とを具備し、乱反射光測定部は、受光レンズと、受光素子と、乱反射光受光ミラーと、正反射光乱反射光合成ハーフミラーとを具備して構成され、正反射光測定部の受光レンズ及び乱反射光測定部の受光レンズを１枚の受光レンズで兼用し、また正反射光測定部の受光素子及び乱反射光測定部の受光素子を１つの受光素子で兼用する。 （もっと読む）

【課題】
周期構造物の構造を早くかつ正確に把握する方法を提供する。
【解決手段】
仮想周期構造物を設定して、前記設定された仮想周期構造物を多数の層に分けて、リープマン−シュウィンガー積分方程式をＭ次内挿法で離散化させて前記仮想周期構造物に対する反射率または透過率に対する物理量を計算する工程を含む、周期構造物分析方法に対するもので、Ｍ次内挿法を用いてより早い時間内により正確な非破壊検査ができる。 （もっと読む）

【課題】被加工物の上面高さを計測する計測装置および計測装置を装備したレーザー加工機を提供する。
【解決手段】被加工物Ｗに向けて白色光を発光する白色光源６１と、発光した光が有する各波長を回折する回折手段６２と、回折された光の中央部を遮蔽して光を環状に形成するマスク手段６３と、形成された環状の光の像をリレーするリレーレンズ６４と、伝達された環状の光を集光して被加工物に照射する対物レンズ６５と、マスク６３手段とリレーレンズ６４との間に配設され被加工物に照射された光の反射光を分光するビームスプリッター６６と、分光された反射光における光軸を通る波長の反射光を通過させる光分別手段６７と、通過した反射光を回折光に変換する回折格子６８と、回折された回折光の波長を検出する波長検出手段６９と、波長検出手段６９からの波長信号に基いて被加工物Ｗの高さ位置を求める制御手段とを具備している。 （もっと読む）

【課題】半導体デバイスの微細化に対して、プロセスマージンが狭小な場合でも半導体パターンの形状計測を高精度で行うことができるパターン形状計測方法を提供する。
【解決手段】パターン形状計測方法において、ベストマッチとなる計算波形が選出不可能な場合は、形状パラメータの内、少なくとも１つのパラメータを、パターン形状計測に依らない計測方法を用いる他計測装置にて得られた情報に基づいて固定値とし、再度、ライブラリと検出波形のマッチングを行い、ベストマッチとなる計算波形を選出するステップと、ベストマッチした計算波形より対象パターンの形状情報を求める。 （もっと読む）

【課題】高スループットかつ高感度の欠陥検査装置を提供すること。
【解決手段】広帯域波長の照明を用いて結像性能を向上させることが有効である。そこで、従来の屈折型光学系より広帯域波長の照明が使用可能な反射型光学系を用い、更に良好な収差状態を得られるレンズ外周部の円弧形状のスリット状視野にする。しかしこの方式は、受光面での各検出画素寸法の違いによる明るさの差と、センサの出力配列を視野内の位置座標に対応付けることが課題である。課題を解決するために、明るさの差及び座標を画素位置に応じて個別に補正する。 （もっと読む）

【課題】多数のアライメントヘッドのキャリブレーションを改良し、オーバレイ精度及び製品歩留まりを向上させる。
【解決手段】多重ヘッドアライメントシステムにおいて主アライメントヘッドを用い副アライメントヘッドの位置較正をするためのキャリブレーション方法が開示される。このシステムは例えばウェーハ表面のマーカ測定に使用され、そのウェーハ内またはウェーハ上に回路を形成するリソグラフィ処理中に行われる。複数のオフセット測定が少なくとも１つの副アライメントヘッドのために行われ、それにより副アライメントヘッドの主アライメントヘッドに対するオフセットが測定され、以降のウェーハ測定演算での補正データとして使用される。 （もっと読む）