【課題】回折格子が配置された面の垂直方向の変位のみを容易に検出することができる変位検出装置を提供する。
【解決手段】変位検出装置１は、照射光学系２と、干渉光学系３と、受光部４と、変位検出部５とを備えている。照射光学系３は、回折格子１００の格子構造が周期的に並んでいるＸ方向に垂直な面に対して異なる角度でそれぞれ光束を回折格子に入射させる。干渉光学系３は、回折格子１００に入射された入射光Ａ１，Ｂ１のＭ次回折光Ａ３，Ｂ３どうしを干渉させて干渉光を生じさせる。受光部４は、干渉光を受光して干渉信号を検出する。変位検出部は、干渉信号の変化から回折格子が設けられた面の垂直方向の変位を検出する。 （もっと読む）

【課題】位置合わせ測定の精度を向上する。
【解決手段】１つの実施形態によれば、位置合わせ測定方法では、測定光学系の測定領域内が２次元的に分割された複数の部分領域のそれぞれに位置合わせ測定用マークが位置するように前記位置合わせ測定用マークに対する前記測定領域の相対的な位置を順次にシフトさせながら前記位置合わせ測定用マークの位置合わせずれ量を予め測定して、前記測定光学系の特性ずれに関する装置要因誤差を前記複数の部分領域のそれぞれごとに求め、前記複数の部分領域ごとに求められた前記装置要因誤差に基づいて前記複数の部分領域のうち使用すべき部分領域を決定し、前記決定された前記使用すべき部分領域に前記位置合わせ測定用マークが位置するように前記位置合わせ測定用マークに対する前記測定領域の相対的な位置をシフトさせた状態で前記位置合わせ測定用マークの位置合わせずれ量を測定する。 （もっと読む）

【課題】既知のアライメントシステムの不利な点は、アライメント測定システムの自己参照干渉計が比較的高価となりうることである。
【解決手段】自己参照干渉計は、アライメントビームを分割して参照ビームおよび変性ビームを生成する光学システムを含む。光学システムは、参照ビームの回折次数が変性ビームの対応する反対の次数と空間的に重なり合うよう、参照ビームおよび変性ビームを合成するビームスプリッタを含む。ディテクタシステムは、光学システムから空間的に重なり合う参照ビームおよび変性ビームを受け、位置信号を決定する。ディテクタシステムは、それらビームが干渉するようそれらビームの偏光を操作し、干渉する参照ビームおよび変性ビームをディテクタに導く偏光システムを含む。ディテクタでは、干渉するビームの強度の変化から位置信号が決定される。 （もっと読む）

【課題】分散型の光スポットを生成することのできる回折光学素子および計測装置を提供する。
【解決手段】凹凸を有し、入射した光を２次元的に回折して、回折光を発生させる回折光学素子であって、前記回折光により形成される一部または全部の光スポットの個数をｎとした場合、前記光スポットが照射される領域の面積により規格化された前記光スポットにおける平均最近隣距離Ｗは、１／（２×ｎ^１／２）＜Ｗ＜１／（ｎ^１／２）の範囲内であることを特徴とする回折光学素子を提供することにより上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】小型であり、且つ回折格子で反射回折された回折光の光量の利用効率が従来よりも高いエンコーダ装置を提供する。
【解決手段】エンコーダヘッド２０は、光源部から照明光がスケール５（回折格子）に照射されてスケール５で反射回折された＋１次回折光を反射させて当該＋１次回折光の回折角と等しい角度で再びスケール５に入射させる第１コーナーキューブ２１と、スケール５で反射回折された−１次回折光を反射させて当該−１次回折光の回折角と等しい角度で再びスケール５に入射させる第２コーナーキューブ２３とを有して構成される。 （もっと読む）

【課題】低価格な距離画像センサ及び距離画像生成装置並びに距離画像データ取得方法及び距離画像生成方法を提供する。
【解決手段】距離画像センサ１００は、ｘ軸、ｙ軸、及びｚ軸からなる座標空間において、入射された平行光が複数の分割光に分割され、ｚ軸に交差する所定の投光平面上に、複数の分割光が形成する複数の投光スポットによって画定される複数の線分とｘ軸とが成す複数の角度が所定の角度となるように、入射される平行光の進行方向を変更する回折格子が形成された回折光学素子１３１及び１３２を備える。さらに、距離画像センサ１００は、複数の分割光によって対象物上に形成される複数の投光スポットで画定される複数の線分のｘ軸に対する傾きに基づいて、複数の投光スポットとの複数の距離を測定する（決定する）距離測定部（距離決定部）１１７とを備える。 （もっと読む）

【課題】被測定マスク基板に焼き付きを生じさせることなく、非破壊での測定を可能とするとともに、個々の露光条件を考慮して精度良く微細加工処理が施された基板上のパタン幅を露光機における実効的なパタン幅として測定することが可能なパタン幅測定装置を提供する。
【解決手段】空間領域及び／又は時間領域でのコヒーレントな光を、被検パタンを微細加工した被検マスク基板２に照射する照射部１０と、照射部１０により照射された被検マスク基板２上の被検パタンからの回折光を受光する撮像素子１５と、撮像素子１５による受光結果である画像情報を記録する記録部１６ａと、記録部１６ａに記録された受光結果である画像情報を解析して、微細加工処理が施された被検マスク基板２上のパタン幅を測定する測定処理部１６とを備える。 （もっと読む）

【課題】複数レイヤ試料の２つのレイヤ間のオーバレイ誤差を決定する方法を提供する。
【解決手段】試料の第１レイヤから形成される第１構造および第２レイヤから形成される第２構造をそれぞれ有する複数の周期的ターゲットについて、光学システムを用い、周期的ターゲットのそれぞれについて光学信号が計測される。第１および第２構造の間には既定義されたオフセットが存在する。散乱計測オーバレイ技術を用いて既定義されたオフセットに基づいて周期的ターゲットからの前記計測された光学信号を分析することによって第１および第２構造間のオーバレイ誤差が決定される。本光学システムは、反射計、偏光計、画像化、干渉計、および／または走査角システムのうちの任意の１つ以上を備える。 （もっと読む）

【課題】回転中の工具と被加工物間の間隙を直接測定する手法を確立する。
【解決手段】回転工具とそれに対向配置した被加工物との間の間隙を超える幅を有するパルス化レーザ光を発生して、発生レーザ光の光軸を被加工平面に対して傾斜させて間隙に照射する。パルス化レーザ光は、回転工具の１回転又は整数回転当たり１パルスの発振パルス周期を有し、該発振パルスオン期間の間に回転工具の同一角度範囲に照射する。間隙に照射されて該間隙により遮蔽されずに回折した光を受光センサーにより検出して、間隙長さを測定する。 （もっと読む）

【課題】
１本の光ファイバにより歪と温度の両方を測定し、より正確な歪情報を測定することが可能であると共に、コストの増加を抑制した光測定システムを提供すること。
【解決手段】
光ファイバを用いて温度及び歪みを測定可能な光測定システムにおいて、１本の光ファイバ２を用いて温度及び歪みに係る測定光を検知し、測定対象物に配置された該光ファイバの一部に、該測定対象物から該光ファイバに加わる応力を遮断するシールド部材３が配置され、該シールド部材内に配置される該光ファイバの状態に基づく測定光から温度を検出する温度検出手段と、該シールド部材以外に配置される該光ファイバの状態に基づく測定光から歪みを検出する歪検出手段と、該歪検出手段の結果を、該温度検出手段の結果で補償する温度補償手段とを有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】薄膜化されたレジストを有する測定パターンの構造をスキャトロメトリ法で測定する場合、構造を十分な測定感度で測定できない部位が生じ、測定パターンの構造を精度良く測定できないことがある。
【解決手段】光源２０１は、光ビームを測定パターン３０１に照射するスペクトル測定部２０４は、光ビームの測定パターン３０１による反射回折光のスペクトルである実スペクトルを検出する。制御部２０５は、実スペクトルと、予め用意されたモデルパターンから算出される理論スペクトルとの波形フィッティングを、その実スペクトル内の複数の波長領域のそれぞれについて行い、測定パターンの構造を測定する。 （もっと読む）

【課題】高精度に高さ方向の位置を検出可能な変位検出装置を提供する。
【解決手段】光源１から出射される光を２つの光束に分割する第１の光束分割手段３と、分割された第１の光束を反射する反射部材８と、第１の光束分割手段によって分割された第２の光束を被測定面上に集光する対物レンズ５と、反射された第１の光束と、被測定面によって反射された第２の光束との干渉光を受光する第１の受光手段３０と、受光した干渉光強度に基づいて被測定面の高さ方向の相対位置情報を出力する相対位置情報出力手段６０と、第２の光束の一部を取り出す第２の光束分割手段２０と、取り出された第２の光束に非点収差を発生させる非点収差発生手段１０と、非点収差が発生した第２の光束を受光する第２の受光手段４０と、検出された受光強度に基づいて被測定面の高さ方向の絶対位置情報を出力する絶対位置情報出力手段５０とを含む。 （もっと読む）

【課題】小型であり、かつ構成部材の位置合せが容易なエンコーダ装置を提供する。
【解決手段】エンコーダヘッド２０は、光源部からの計測光をスケール５（回折格子）に向けて反射させる第１プリズム２１と、第１プリズム２１により反射された計測光を二つの直線偏光に分割する偏光ビームスプリッタ膜２２と、偏光ビームスプリッタ膜２２を透過した直線偏光を円偏光に変換してスケール５上の一方の位置に照射させる第１波長板２３と、偏光ビームスプリッタ膜２２で反射した直線偏光を円偏光に変換してスケール５上の他方の位置に照射させる第２波長板２４と、スケール５で反射回折した±１次回折光を干渉させて光検出器に向けて反射させる第２プリズム２５とを有し、偏光ビームスプリッタ膜２２が第１プリズム２１と第２プリズム２５に挟まれて設けられ第１プリズム２１、第２プリズム２５および偏光ビームスプリッタ膜２２が一体に形成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】従来の光アナログ法は、画像情報の並列実時間処理には適するが光学装置の小型化が困難で装置構成に利便性を欠いていた。そのために複数画像の識別に、小型で並列画像処理を可能とする光アナログ画像処理法と装置を提供する。
【解決手段】識別物体導入手段または識別物体形状写出手段を、フーリエ変換レンズの前側で前焦点面に限定することなく設置し、多重マッチトフィルタ作成光学系の光路を短縮し、鮮明な光回折パターン取得光学系で多重マッチトフィルタの作成を容易にした。複数形状の同時並列実時間識別の小型簡便な方法と装置を提供した。 （もっと読む）

【課題】被加工物の上面位置を計測する高さ位置計測装置およびレーザー加工機を提供する。
【解決手段】発光源からの光を第１の経路に導き、反射光を第２の経路に導く光分岐手段と、第１の経路に導かれた光を平行光に形成するコリメーションレンズによって平行光に形成された光を被加工物に導く対物レンズと、コリメーションレンズと対物レンズとの間に配設され、対物レンズ側の端面に反射ミラーが形成され、光路長を伸ばす透明体からなる円筒状の基準光路長設定部材と、反射ミラーによって反射し第１の光分岐手段から第２の経路に導かれた反射光と、被加工物で反射し第１の光分岐手段から第２の経路に導かれた反射光との干渉を回折する回折格子と、回折した反射光の所定の波長域における光強度を検出するイメージセンサーからの検出信号に基づいてチャックテーブルの表面から被加工物の上面までの距離を求める制御手段とを具備している。 （もっと読む）

【課題】 ２次以上の回折光および迷光の発生を抑え、位置検出信号のＳ／Ｎ比を改善し検出精度の向上を図る。
【解決手段】 屈折率ｎの保護層１２で格子面１１ａが覆われた回折格子１１のピッチをｄ、照射される可干渉光の真空中の波長をλ_０とした時、ｄ＜２λ_０／ｎ とし、上記回折格子１１への可干渉光の入射角θ_０を
｜ｓｉｎθ_０｜＜（２λ_０／ｄｎ）−１
なる式を満たす角度に設定し、１次回折光を位置検出に使用する。 （もっと読む）

【課題】面ずれと面倒れを互いに分離して高精度に測定することができ、かつ種々の被検体を測定対象とすることが可能な面ずれ面倒れ測定装置を得る。
【解決手段】回折格子２２Ａを介して、光軸Ｃ_２２Ａに対する波面の進行角度が互いに異なる２つの円錐状光束を第１被検面９０Ａに照射するとともに、回折格子２２Ｂを介して、光軸Ｃ_２２Ｂに対する波面の進行角度が互いに異なる２つの円錐状光束を第２被検面９０Ｂに照射する。第１被検面９０Ａからの戻り光により形成される２つの干渉縞を解析することにより、光軸Ｃ_２２Ａに対する第１被検面９０Ａの面ずれおよび面倒れを求め、第２被検面９０Ｂからの戻り光により形成される２つの干渉縞を解析することにより、光軸Ｃ_２２Ｂに対する第２被検面９０Ａの面ずれおよび面倒れを求め、それらの結果から、被検レンズ９の面ずれおよび面倒れを求める。 （もっと読む）

【課題】被測定面の面粗度、汚れ、微細なゴミ等の付着によって被測定面の変位量の測定に誤差が生じる可能性を減少させる変位検出装置を提供する。
【解決手段】変位検出装置１では、対物レンズ３が光源２からの出射光を被測定面１０１に向けて集光する。被測定面１０１からの反射光の光路は、分離光学系４により光源２から出射光の光路と分離される。分離光学系４を通った反射光は、集光手段７により集光され、非点収差発生手段８により非点収差が発生した状態で受光部９に入射する。位置情報生成部１０は、受光部９で検出した光量から得られるフォーカスエラー信号を用いて被測定面１０１の位置情報を生成する。そして、集光手段７、非点収差発生手段８又は受光部９は、対物レンズ３により集光された出射光の焦点が被測定面１０１の奥側に位置するときに、フォーカスエラー信号の値が０になるように光軸上の位置が設定されている。 （もっと読む）

【課題】コンパクトなユニット内に組み込むことができ、複数の自由度の位置測定値を提供できる位置センサを提供する。
【解決手段】位置センサは、ターゲットの位置データを測定するように構成される。位置センサは、放射ビームを照射するように構成された放射源と、放射ビームを第１の回折方向に少なくとも１つの１次放射ビームに回折するように構成された第１の格子と、１次回折ビームの光路内に配置され、第１の格子で回折された１次回折ビームを、第１の回折方向に実質的に垂直な第２の回折方向に回折するように構成された第２の格子とを含む。第２の格子はターゲットに接続される。第１の検出器は、第１の格子によって回折されたビームの少なくとも一部を検出するように構成され、少なくとも１つの第２の検出器は第１の格子と第２の格子によって回折されたビームの少なくとも一部を検出するように構成される。 （もっと読む）

【課題】 調整の容易な干渉計測装置を提供する。
【解決手段】 光源から射出された光を２つの光束に分割し該２つの光束を重ね合わせることによって生成された干渉光の強度の変動を観測することによって被検物の変位を計測する干渉計測装置は、複数の部分領域を有する受光領域を備え、前記複数の部分領域のそれぞれで前記干渉光を受光する受光部と、前記複数の部分領域のそれぞれでの受光結果に基づいて、前記受光領域における前記干渉光の位相分布の均一性を示す指標を求める処理部とを備える。 （もっと読む）