【課題】リソグラフィのための検査方法を提供すること。
【解決手段】基板上でリソグラフィプロセスに使用されるリソグラフィ装置の焦点を決定するために使用される方法である。リソグラフィプロセスは、少なくとも２つの周期構造を基板上に形成するために使用される。各構造は、基板上のリソグラフィ装置の焦点の異なる関数として変化する互いに反対側の側壁角度間に非対称性を有する少なくとも１つのフィーチャを有している。放射のビームを少なくとも２つの周期構造上に導くことによって生成されるスペクトルが測定され、かつ、非対称性の比率が決定される。比率と、構造毎の焦点と側壁非対称性の間の関係とを使用して、基板上のリソグラフィ装置の焦点が決定される。 （もっと読む）

【課題】接合体における各構成の屈折率差の大小に関係なく、好適に接着層の厚さを測定することができる、接合体における接着層の厚さの測定方法を提供する。
【解決手段】第１層と、第１層と同等の屈折率を有し、第１層に接合される接着層とを有する接合体の接着層の厚さを測定するための測定方法は、第１層と接着層との界面に、界面よりも高い反射率を有する反射層を形成する反射層形成工程Ｓ１０と、反射層に測定光を照射する測定光照射工程Ｓ２０と、測定光が反射層で反射された反射光を取得する反射光取得工程Ｓ３０と、取得された反射光に基づいて接着層の厚さを算出する反射光解析工程Ｓ４０とを備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】スケールの位置が基準位置からずれている場合であっても、被測定体（例えば、ステージ）の位置を高精度に測定することができる測定装置を提供する。
【解決手段】いずれか一方が被測定体に設けられるスケール及びセンサを備え、前記スケールを前記センサで読み取ることで前記被測定体の位置を測定する測定装置であって、基準位置からの前記スケールのずれ量を検出する検出部と、前記検出部によって検出された前記基準位置からの前記スケールのずれ量に基づいて、前記スケールを前記センサで読み取ることで測定された前記被測定体の位置を補正する演算部と、を有することを特徴とする測定装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】回転体の回転に伴って生じる都合５軸方向の運動誤差を高精度で測定することのできる５自由度誤差測定装置を提供する。
【解決手段】回転体２の外周面に回転体２の回転軸の方向に一定の間隔を置いて設けられた複数の周溝から形成された回折格子面３を設け、回転体２の径方向に相当するセンサ座標系第１軸と回転体２の軸方向に相当するセンサ座標系第２軸に沿った回折格子面の相対移動変位を検出する２軸干渉センサユニットＳ１，Ｓ２，Ｓ３を回転体２の外周面から径方向外側に間隙をおき、かつ、相互に重合しないようにして回転体２の周方向の相異なる少なくとも３つの位置に固定配備し、３つの２軸干渉センサユニットＳ１，Ｓ２，Ｓ３のセンサ座標系第１軸の干渉信号とセンサ座標系第２軸の干渉信号に基いて都合５軸方向の運動誤差Δｘ，Δｙ，Δｚ，Δｕ，Δｖを同時に求める。 （もっと読む）

【課題】 受光素子の受光面上における干渉光の位置ずれに基づく撮影画像の画質の低下を抑え、従来の調整機構では解消できなかったレベルでの感度調整を行うことができ、好適で信頼度の高い断層画像や光学表面プロファイルを得ることのできる眼科撮影装置を提供する。
【解決手段】 キャリブレーション用の光束を分光光学系に導光する導光手段と、キャリブレーション用の光束を干渉させるための光学部材と、キャリブレーション用の光束を受光手段に受光させることによって得られる分光情報に基づいて導光手段からのキャリブレーション用の光束の出射位置と受光手段との相対的な位置関係を調整する調整手段と、調整手段によって相対的な位置関係が調整された後の受光手段にて得られる干渉されたキャリブレーション用の光束の分光情報に基づいて，受光手段の各画素に対する各波長成分の分布状態を補正するための補正情報を演算により求める演算手段と、を備える。 （もっと読む）

【課題】ワークに施された溝または穴の断面形状を高精度に検出することができる断面形状測定装置を提供する。
【解決手段】白色光を発する光源１０１と、白色光に含まれる各波長をそれぞれ集光して、溝２に向かう光軸上に複数の集光点を形成する色収差レンズ１０２と、色収差レンズ１０２とワーク１とを溝２に交差する方向に相対的に移動させる移動手段と、移動手段によって色収差レンズ１０２とワーク１とを溝２に交差する方向に相対的に移動させながら色収差レンズ１０２で溝２に光を集光させたときに、溝２の表面で反射した反射光に基づいて溝２の断面形状を測定する測定手段１２０と、を備える。 （もっと読む）

【課題】 高い精度で被測定物の変位を測定することが可能な光学式変位計及び光学式変位測定方法を提供すること。
【解決手段】 被測定物４０からの反射光の位置変化を検出して被測定物４０の変位ｄを測定する光学式変位計において、光源１２から出射した光を第１のレンズ１４を介して平行光に近い収束光として円アパーチャ１６に照射させ、円アパーチャ１６から出射した発散光を第２のレンズ１８を介して平行光に近い発散光として被測定物４０に投射させるように構成する。 （もっと読む）

【課題】照明光の光量を安定させた表面検査装置を提供する。
【解決手段】表面検査装置は、照明部が所定の波長領域の光を透過させるバンドパスフィルターが設けられた波長選択機構７０，７５を有し、当該バンドパスフィルターを透過して得られた所定の波長領域の光を照明光として被検基板の表面に照射する。紫外光を遮断するＵＶカットフィルター６５がランプハウス６１と波長選択機構７０，７５との間の光路上に挿抜可能に設けられ、非検査時にＵＶカットフィルター６５が光路上に挿入されて、ＵＶカットフィルター６５を透過した光が前記バンドパスフィルターに照射されると共に、熱線反射部材が前記バンドパスフィルターの後段の光路上に挿抜可能に設けられ、前記被検基板の非検査時に前記熱線反射部材が前記光路上に挿入されて、前記バンドパスフィルターを透過した熱線が前記熱線反射部材により反射されて前記バンドパスフィルターに照射される。 （もっと読む）

【課題】光ファイバ式岩盤内変位計システムにおいて、比較的小口径のボーリング孔内に多段に変位計を設置することができるようにする。
【解決手段】地盤に形成したボーリング孔１の浅い領域に複数段に設置した浅部用アンカー３ａ〜８ａと、深い領域に複数段に設置した深部用アンカー９ａ〜１４ａと、ボーリング孔の開口部に設置されて浅部用アンカーに先端部分が結合され浅部用アンカーの変位に応じて進退する変位伝達ロッド３ｂ〜８ｂの基端部分に結合され浅部用アンカーの変位量を検出する変位量検出センサーユニット３ｃ〜８ｃと、深部用アンカーの側近に設置され深部用アンカーの変位量を検出する深部用変位計９〜１４を備え、変位伝達ロッドは、各変位伝達ロッド毎にそれぞれに専用の小口径の保護シース３ｄ〜８ｄによって１本ずつ包囲することにより変位伝達ロッドの変位がボーリング孔内に充填されるグラウト材１６によって阻害されないように構成する。 （もっと読む）

【課題】半導体ウェーハの２つの層の間のアライメント・オーバーレイの非破壊特性決定方法を提供する。
【解決手段】波長または入射角度の関数としての１つの実施例として、入射ビームの放射は、ウェーハ表面上に向けられ、結果として得られる回折ビームの特性が決定される。スペクトル的、または角度的に分解された回折ビームは、オーバーレイ・フィーチャのアライメントと関連する。計算された回折スペクトルのライブラリは、オーバーレイ・アライメントにおける予期される変動の全ての範囲をモデル化することにより確立される。少なくとも２つの層におけるアライメント・ターゲットを有する実際のウェーハの検査により得られたスペクトルは、実際のアライメントの特性を決定するため、最も適合するもの（ベスト・フィット）を識別するように、ライブラリと比較される。比較の結果は、上流および／または下流処理制御への入力として使用される。 （もっと読む）

【課題】駅の直ぐ先の踏切の警報時間を適正化して踏切の混雑を緩和する。
【解決手段】列車進行方向に出発信号機１４と踏切１３の存在する駅１２を通っている軌道１１に関連する鉄道設備の一部として設けられ出発信号機１４の現示と踏切１３の警報に係る制御を行う踏切警報適正化システムに、軌道１１のうち列車重量に感応して歪む部位に設置されている光ファイバセンサ（３２）を介して軌道歪情報（Ｓ１，Ｓ２）を取得する軌道歪検出装置３０と、その軌道歪情報に基づいて駅１２への列車進来時に列車停止位置（Ｐ１，Ｐ２）を検知する列車停止位置検知手段４１と、踏切１３での踏切警報継続時間を安定させるよう列車停止位置に応じて出発信号機１４の現示時素を調整する出発信号機現示時素調整手段４２，４３とを設ける。 （もっと読む）

【課題】 薄膜構造の特性評価を含む、偏光解析、反射光測定および散乱光測定のための干渉計法を提供する。
【解決手段】検出器上で参照光と干渉するように、或る範囲の角度にわたってテスト物体から出射するテスト光を結像することであって、テスト光および参照光は共通の光源から生成される。それぞれの角度毎に、テスト光がテスト物体から出射する角度に依存する速度で、テスト光および参照光の干渉する部分の間にいて、光源から検出器までの光路長差を同時に変更すること、および、それぞれの角度毎に光路長差を変更しながら、テスト光と参照光との間の干渉に基づいて、テスト物体の光学特性の角度依存性を特定することからなる方法。 （もっと読む）

【課題】
光ビームの位相シフトを高速に行う方法及び装置について記述する。
【解決手段】
異なる光学的厚さを持った複数の領域を備える透明プレートを、当該領域に延びる入射経路に沿って移動する前記光ビームにより照明する。前記透明プレートを移動させるか、又は前記光ビームを偏向させることにより、入射経路を生成する。前記透明プレートを出射する前記光ビームは、当該光ビームが入射した領域に応じた瞬間位相値を持つ。好ましくは、前記位相値は、再現性があり、対応する領域内における光ビームの入射位置にかかわらず安定しており、かつ、高速な変調速度で位相変化を発生させることができる。本方法及び装置は、干渉縞投影システムなどにおいて、一対のコヒーレント光ビームの位相差を変調するのに用いることができる。 （もっと読む）

【課題】空気入りタイヤを構成する各所の歪みを状況や目的に合わせて検出すること。
【解決手段】伸縮により光の反射波長が変化する回折格子部９２が形成された光ファイバ９を内部に埋設した空気入りタイヤ１において、複数のコードを有するビードコア５１、カーカス層６、ベルト層７およびベルト補強層８などの構造体について、コードの少なくとも１つを光ファイバ９に置換する。かかる空気入りタイヤ１によれば、構造体のコードの少なくとも１つを光ファイバ９に置換したことで、構造体に生じる歪みや温度の変化を状況や目的に合わせて検出できる。 （もっと読む）

【課題】 測定対象物の表面形状を非接触で測定するための表面形状測定方法、表面形状測定装置、位置合わせ装置に関し、光源の種類に拘わらず高精度な測定を行うことを目的とする。
【解決手段】 被対象物の表面像を結像する結像光学系と、被対象物の基準面と共役関係にある像面との間に、電界の付与により屈折率を変化可能な電気光学素子を配置し、電気光学素子の屈折率を電界の付与により変化して像面上で被対象物の表面像が形成されるようにし、この時に電気光学素子に付与した電界値に基づいて、被対象物の表面の基準面からの変位量を求める。 （もっと読む）

【課題】投影されるパターンのピッチと対物レンズの開口数とを最適化して、十分な高さ検出精度を得ることができる形状測定装置を提供する。
【解決手段】形状測定装置１は、投影パターン１３の像を、対物レンズ１７の焦点面に結像して検査対象物Ｓに照射する照明光学系２と、検査対象物Ｓの像を結像する撮像光学系３と、検査対象物Ｓの像を検出して画像信号を出力する撮像素子２１と、検査対象物Ｓ又は対物レンズ１７を相対的に移動させて、撮像素子２１により、合焦状態の異なる複数の像の画像データを取得して検査対象物Ｓの形状を得る制御部２０と、を有し、対物レンズ１７の焦点面に形成された投影パターン１３の像のピッチ及び対物レンズ１７の開口数が、撮像光学系３により、検査対象物Ｓから出射する回折光のうち、少なくとも３次の回折光までを取り込むことができるように設定する。 （もっと読む）

【課題】ウェハ上の回折構造体の格子型パラメータを決める。
【解決手段】半導体ウェハ１２ａ上の回折構造体１２ｃからの回折の前に、必要な場合は、分光反射率計６０または分光エリプソメータ３４を使って構造体の下に位置する膜１２ｂの膜厚と屈折率とをまず測定する。そして、厳密なモデルを使って回折構造体１２ｃの強度またはエリプソメトリックな特徴的パラメータを計算する。次に、偏光放射線および広帯域放射線を用いた分光散乱計を使って回折構造体１２ｃを測定して回折構造体１２ｃの強度またはエリプソメトリックな特徴的パラメータを得る。この特徴的パラメータをデータベース内の特徴的パラメータと適合させて構造体の格子型パラメータを判定する。 （もっと読む）

【課題】ウェハ上の回折構造体の格子型パラメータを決める。
【解決手段】半導体ウェハ１２ａ上の回折構造体１２ｃからの回折の前に、必要な場合は、分光反射率計６０または分光エリプソメータ３４を使って構造体の下に位置する膜１２ｂの膜厚と屈折率とをまず測定する。そして、厳密なモデルを使って回折構造体１２ｃの強度またはエリプソメトリックなパラメータを計算する。次に、偏光放射線および広帯域放射線を用いた分光散乱計を使って回折構造体１２ｃを測定して回折構造体１２ｃの強度またはエリプソメトリックなパラメータを得る。これらパラメータと参照データベースを用いて格子型パラメータを決める。 （もっと読む）

【課題】 非球面の面形状算出において、被検面の高周波成分まで高精度に算出する。
【解決手段】 非球面である被検面内を重なり領域をもつように複数の測定領域に分けて、被検面の形状を算出する基準となる参照面で反射する光と、測定領域で反射する光とによって生じる干渉光による干渉縞を受光部で受光し、各測定領域の形状を算出する工程と、算出された各測定領域の形状をつなぎ合わせて被検面の形状を算出する工程と、を有する形状算出方法において、各測定領域の形状を算出する工程は、測定される干渉縞の本数が最小となるように被検面と参照面との相対的な位置を調節する工程と、被検面の位置が調節された状態で、被検面と前光部とが共役の関係となるように受光部の位置を調節する工程と、受光部の位置が調節された状態で、干渉縞の位相分布を測定する工程と、測定した位相分布を用いて測定領域の形状を算出する工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】検査時間を短縮した表面検査装置を提供する。
【解決手段】ウェハ１０の端部近傍の状態を検出するエッジ検出器３０〜５０と、エッジ検出器３０〜５０からの出力に基づいてウェハ１０の端部近傍の検査を行う演算処理部７０と、エッジ検査器３０〜５０に対してウェハ１０を相対回転させるウェハ保持部２０とを備え、ウェハ保持部２０による相対回転を行いながらエッジ検出器３０〜５０がウェハ１０の端部近傍の状態を検出し、エッジ検出器３０〜５０からの出力に基づいて演算処理部７０がウェハ１０の端部近傍の検査を行う表面検査装置１において、ウェハ１０の端部を検出するプリアライメントセンサ６１〜６３が設けられ、演算処理部７０は、プリアライメントセンサ６１〜６３からの出力に基づいて、第１および第２エッジ検出器３０，４０の作動状態および、第３エッジ検出器５０から演算処理部７０への出力を補正するようになっている。 （もっと読む）