【課題】多数のアライメントヘッドのキャリブレーションを改良し、オーバレイ精度及び製品歩留まりを向上させる。
【解決手段】物体のアライメントを測定するための装置を備えるリソグラフィ装置であって、アライメント検出領域にてアライメントマークの位置を測定するためのアライメント検出器を各々が備える複数のアライメントセンサと、レベリングセンサ検出領域において物体の高さ及び／または傾斜を測定するためのレベリングセンサと、レベリングセンサとアライメントセンサとの間のフィードフォワード接続部と、を備えるリソグラフィ装置が提供される。 （もっと読む）

【目的】いわゆる金属を使用しない腐食に強い起歪体を形成し、もって外装材により起歪体を保護する必要がなく、コンクリートに起歪体を直接接触させられ、かつコンクリートのひずみを起歪体周囲の付着力により直接起歪体に伝達できるため、計測値につきばらつきのない高品質で破損や故障の少ない長期間の計測が可能なひずみ検出装置を提供し、さらに、長大構造物に対しても劣化の可能性が少なく、かつ精度よくコンクリート構造物の内部温度が計測できる内部温度検出装置をすることを目的とする
【構成】ＦＢＧセンサが設けられた光ファイバを、光ファイバと略同等の線膨張係数、弾性係数を有するガラス繊維部材で被覆して起歪体を形成し、起歪体をあらかじめ内部設置した状態で、コンクリートを打設して構造物を構築し、コンクリート構造物の構築後生ずる歪みを検出可能とした、ことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】マイクロローティングおよび計測ターゲットへのプロセス効果を検出する方法を提供する。
【解決手段】基板へのリソグラフィプロセスに用いられるリソグラフィ装置の焦点を測定する方法において、リソグラフィプロセスは、基板上に構造体を形成するために用いられる。構造体は、リソグラフィ装置の基板上の焦点の関数として変化する印刷プロファイルにおいて非対称性を有する少なくとも一つのフィーチャを有する。構造体を第１放射ビームで照射する間に周期的な構造体の第１の像が形成および検出される。第１の像は、非ゼロ次回折放射の第１部分を用いて形成される。構造体を第２放射ビームで照射する間に周期的な構造体の第２の像が形成および検出される。第２の像は、回折スペクトルにおいて第１部分と対称的に向かい合う非ゼロ次回折放射の第２部分を用いて形成される。測定されたスペクトルの第１および第２部分の強度比が測定され、周期的構造体のプロファイルにおける非対称性を測定および／または基板の焦点の表示を提供するために用いられる。同一の装置において、検出部分にわたる強度変化が構造体にわたるプロセス誘発変動の測定として決定される。不要なプロセス変動を伴う構造体の領域が特定され、構造体の測定から除外される。 （もっと読む）

【課題】生体試料の三次元形状を高精度に測定することが可能な構成の形状測定方法、画像処理プログラム、観察装置を提供する。
【解決手段】生体試料たる受精卵とこの受精卵の像を結像する第１観察光学系との光学的距離を変化させながら第１撮像装置により受精卵を一方側から順次撮影した複数の第１画像と、受精卵とこの受精卵の像を結像する第２観察光学系との光学的距離を変化させながら第２撮像装置により受精卵を他方側から順次撮影した複数の第２画像とを取得し、複数の第１画像及び第２画像に基づいて合焦測度を画素単位で算出し、受精卵の一方側の領域については第１画像より得られた合焦測度情報を優先適用し、受精卵の他方側の領域については第２画像より得られた合焦測度情報を優先適用して各画素の合焦点を求め、合焦点位置に基づいて受精卵の三次元形状を構築する。 （もっと読む）

【課題】 電圧を印加しても泳動させることができない粒子群の粒子径を算出することができる粒子径測定装置及び粒子径測定方法を提供する。
【解決手段】 媒体が第一設定方向に通過する測定セル１と、複数の導入口１６ａが、第二設定方向で設定間隔となるように形成されており、複数の導入口１６ａから、被測定粒子群を媒体中に含有する試料を測定セル１内に導入する導入口群１６と、測定セル１内の被測定粒子群に対して、第三設定方向に測定光を照射する光源４ａと、測定セル１内の被測定粒子群に測定光を照射することにより発生する回折光による回折光強度を検出する検出器５０とを備え、被測定粒子群を測定セル１内の第一設定方向に通過させながら、媒体中で被測定粒子群を第二設定方向に拡散させていく粒子径測定装置１０であって、第一設定方向での回折光強度の変化に基づいて、被測定粒子群の粒子径を算出する粒子径算出部３５を備える。 （もっと読む）

【課題】大型化したウエハの搬送を容易にする。
【解決手段】 露光装置は、ＸＹ平面に沿って移動可能であるとともに、互いに接近及び離間が可能な第１部分と第２部分とを含む粗動ステージＷＣＳ１と、ウエハＷを保持するとともに、粗動ステージＷＣＳ１によって少なくともＸＹ平面内で相対移動可能に支持される微動ステージＷＦＳ１と、粗動ステージＷＣＳ１に支持されている微動ステージＷＦＳ１を単独で若しくは粗動ステージＷＣＳ１と一体で駆動する駆動系と、を備える。また、露光装置は、粗動ステージＷＣＳ１との間で、微動ステージＷＦＳ１の受け渡しが可能なリレーステージＤＲＳＴを備えている。 （もっと読む）

【課題】移動体を精度良く駆動する。
【解決手段】 駆動系により、アーム部材７１から移動体ＷＦＳのＸＹ平面に平行な一面に配置されたグレーティングＲＧに対して計測ビームを照射して移動体のＸＹ平面内の位置を計測する第１計測系の計測結果と、レーザ干渉計を用いてアーム部材７１の変動を計測する第２計測系の計測結果と、に基づいて移動体が駆動される。この場合、駆動系は、第１計測系の計測結果に含まれるアーム部材の変動に起因する計測誤差を、第２計測系の計測結果を用いて補正する。 （もっと読む）

【課題】 粗微動ステージにおいて、微動ステージの位置を高精度に計測する。
【解決手段】 粗動ステージＷＣＳに保持された微動ステージＷＦＳのＸＹ平面内での位置情報の計測には、微動ステージのＸＹ平面に実質的に平行な一面に配置されたグレーティングＲＧに対向して配置され、該グレーティングに計測ビームを照射するヘッドを含むエンコーダシステムが用いられる。そして、微動ステージは、駆動系によって、エンコーダシステムで計測された位置情報に基づいて、単独で、若しくは粗動ステージと一体で駆動される。この場合、エンコーダシステムのヘッドを微動ステージ（グレーティング）に近接して配置することができ、これにより、エンコーダシステムによる微動ステージの位置情報の高精度な計測が可能になる。 （もっと読む）

【課題】ウエハテーブルの位置計測を高精度に行う。
【解決手段】エンコーダ本体（１６Ｙａ，１６Ｙｂ等）から射出されるレーザ光（Ｌｙ１，Ｌｙ２等）は、ウエハテーブルＷＴＢにＰＢＳ１８を介して外部から入射し、露光領域ＩＡの直下に位置する点ＩＡａにて、グレーティング２４に到達し、該グレーティングで回折される。そして、グレーティングから戻ってきた第１の偏光成分と、ＰＢＳで反射された第２の偏光成分との干渉光を受光することにより、ウエハテーブルＷＴＢの位置情報を計測する。従って、ＰＢＳを透過した第１の偏光成分が、第２の偏光成分と再度合成されるまでの間は、ウエハテーブル内を通過し、外部雰囲気中を進行することが無いので、測長ビームがウエハテーブルの周辺雰囲気の揺らぎの影響を受けることなく、高精度なウエハテーブルの位置計測を行うことが可能である。 （もっと読む）

【課題】移動体の位置情報を高精度で計測する。
【解決手段】 露光ステーション２００では、ウエハを保持するステージＷＦＳ１の位置情報は、計測アーム７１Ａを含む第１の微動ステージ位置計測系により計測され、計測ステーション３００では、ウエハを保持するステージＷＦＳ２の位置情報は、計測アーム７１Ｂを含む第２の微動ステージ位置計測系により計測される。露光装置１００は、ステージＷＦＳ２が計測ステーション３００から露光ステーション２００へ搬送される際、このステージＷＦＳ２の位置情報を計測可能な第３の微動ステージ計測系を有する。第３の微動ステージ計測系は、複数のＹヘッド９６，９７を含むエンコーダシステムとレーザ干渉計７６ａ〜７６ｄを含むレーザ干渉計システムとを含む。 （もっと読む）

【課題】移動体を精度良く駆動する。
【解決手段】 駆動系により、アーム部材７１から移動体ＷＦＳのＸＹ平面に平行な一面に配置されたグレーティングＲＧに対して計測ビームを照射して移動体のＸＹ平面内の位置を計測する第１計測系の計測結果に基づいて移動体が駆動される。この場合、アーム部材からグレーティングＲＧに計測ビームを照射する構成が採用されているので、ステージ定盤にエンコーダシステムを設ける場合とは異なり、移動体の駆動に起因する悪影響はない。従って、移動体を精度良く駆動することが可能になる。 （もっと読む）

ウエハステージ（ＷＳＴ１，ＷＳＴ２）の位置情報は、定盤（１４Ａ、１４Ｂ）の下方に配置された計測バー（７１）が有する、複数のエンコーダヘッド、Ｚヘッドなどにより、微動ステージ（ＷＦＳ１，ＷＦＳ２）の下面に配置されたグレーティングを用いて、計測される。従って、ウエハステージ（ＷＳＴ１，ＷＳＴ２）の位置情報の高精度な計測が可能となる。また、ウエハステージのガイド面が所定のクリアランスを介して並べて配置された２つの定盤（１４Ａ，１４Ｂ）によって形成されているので、定盤が一体である場合に比べて、１つ１つの定盤の取り扱いが容易になるとともに、定盤近傍のメンテナンスなどが容易になる。
（もっと読む）

【課題】オーバレイ測定を向上させる。
【解決手段】生成物マーカ格子の非対称性などの生成物マーカ格子の横プロファイルに関する情報が測定結果から判定される。オーバレイマーカ格子がレジスト膜に印刷された後、生成物マーカ格子に対するオーバレイマーカ格子の横オーバレイがスキャトロメータによって、且つ適宜の処理モデルと組み合わせた判定済みの非対称情報を使用して測定される。アライメントセンサの情報を使用して、先ず生成物格子を再構築してもよく、この情報はスキャトロメータに送られ、スキャトロメータは生成物とレジスト格子との積層を測定し、積層によって散乱された光は、オーバレイを計算するために積層のモデルを再構築するために利用される。 （もっと読む）

【課題】極微線幅の正確な測定やパターンウェハ上のエッチング構造のプロファイルに関する定量化が容易に行える測定方法と装置を提供する。
【解決手段】半導体ウェハ上の回折構造体１２ｃからの回折の前に、必要な場合は、分光反射率計または分光エリプソメータを使って構造体の下に位置する膜の膜厚と屈折率とをまず測定する。そして、厳密なモデルを使って回折構造体の強度またはエリプソメトリックな署名を計算する。次に、偏光放射線および広帯域放射線を用いた分光散乱計を使って回折構造体１２ｃを測定して回折構造体の強度またはエリプソメトリックな署名を得る。この署名をデータベース内の署名と適合させて構造体の格子型パラメータを判定する。 （もっと読む）

【課題】
検査時間を増大させることなく、微細凹凸パターンが形成された、ハードディスク用のパターンドメディアなどの試料よりの欠陥種類の特定を容易に行うようにする。
【解決手段】
微細凹凸パターンの欠陥検査において、スキャッタロメトリー法にて検査対象物の特徴を検出する際に、検査対象物の検出対象領域の分光波形を検出し、検出対象領域が検査対象物のパターン種類によって決まるどの領域区分に属するかの領域判定を行い、領域判定の結果により、判定された領域区分に対応する、欠陥種類毎に異なる特徴量の演算式と判定指標値を選択し、選択した特徴量の演算式にしたがって、前記分光波形データに対し、特徴量演算を行い、算出した特徴量の値と、前記選択した判定指標値とを比較して欠陥種類毎の判定処理を行う。 （もっと読む）

【課題】土粒子の粒径及び流砂量を計測又は監視する土粒子計測システム、土粒子計測及びプログラムを提供する。
【解決手段】本発明の土粒子計測システムは、土粒子が流れる方向と直行する方向に配置されるＦＢＧセンサ１１と、ＦＢＧセンサ１１から出力されるブラッグ波長の光信号から、土粒子の衝突によって生じるひずみ量を検出するＦＢＧアナライザ１２と、検出したひずみ量の値から土粒子の粒径及び流砂量を決定する土粒子管理・監視装置１３とを備える。土粒子管理・監視装置１３は、当該検出したひずみ量の値から土粒子の粒径の仮定値を決定して、該仮定値における前記ＦＢＧセンサへの衝突時の土粒子の運動エネルギー及び運動エネルギー期待値を算出し、運動エネルギーと運動エネルギー期待値の差が所定の許容範囲内になる仮定値の運動エネルギーから土粒子の粒径及び流砂量を決定する。 （もっと読む）

【課題】スループットの更なる向上。
【解決手段】露光ステーション２００において、粗動ステージＷＣＳ１に支持された微動ステージＷＦＳ１に保持されたウエハＷに対する露光処理が行われる間に、計測ステーション３００において、粗動ステージＷＣＳ２に支持された微動ステージＷＦＳ２に保持されたウエハＷに対する計測処理と、センターテーブル１３０上の微動ステージＷＦＳ３に保持されたウエハＷの交換とが少なくとも一部並行して行われる。このため、１つのウエハステージ上のウエハに対する露光処理と、別のウエハステージ上でのウエハ交換、アライメントなどの処理と、を並行して行う従来の露光装置に比べても、より高スループットな露光が可能になる。 （もっと読む）

【課題】 光ファイバーセンサを機器内部に設けて、機器内部の歪みおよび温度を直接的に計測可能とした、電子機器を得ることを目的とする。
【解決手段】 筐体と、上記筐体の内部に、互いに間隔を空けて収納される複数の基板と、上記各基板の表面にそれぞれ固着され、温度計測用のファイバーグレーティングと歪み計測用のファイバーグレーティングとを複数個所有し、上記基板に一筆書きで配線された光ファイバーセンサとを備えて、電子機器を構成する。 （もっと読む）

【課題】回折を用いる場合に所望の次数の回折光の全ての波長を検出に利用できるようにする。
【解決手段】反射光のうちワーク１表面付近で焦点を結んだ光以外の光の通過を規制する光ファイバ１２１と、光ファイバ１２１を通過した反射光を同一平面内に広がる回折光に分岐させる回折光学素子１２２と、回折光に含まれる１次回折光と高次回折光とのうちで１次回折光のみを検出する１次回折光検出手段１３０とを有する高さ検出手段１２０を備え、１次回折光検出手段１３０は、回折光を集光する回折光集光レンズ１３１と、集光される回折光を、同一平面外の方向へ波長毎に異なった角度で屈折させる波長分散フィルタ１３２と、１次回折光が集光される箇所にのみ検出部を有し、１次回折光のみの波長毎の光強度を検出する波長検出センサ１３３と、色収差レンズ１０２によって集光される白色光の各波長の焦点距離を記憶した制御マップを格納するメモリ１３４とを含む。 （もっと読む）

【課題】下層に形成された凹部のパターンの上に、フォトレジストを形成して上層のパターンを重ねて露光する際に、下層のパターンの影響を受けずに上層のパターンを形成することができるパターン形成方法を提供する。
【解決手段】第１のデバイスパターンと、矩形状に掘り込まれたマークが第１の方向に所定の間隔で配列された第１のマーク列を第２の方向に複数配列した第１の検査用パターンと、が形成された加工処理対象上にレジストを塗布し、第２のデバイスパターンを形成するためのマスクパターンと、矩形状に掘り込まれたマークが第１のマーク列のマーク間に配置されるとともに、第２の方向の形成位置が第１のマーク列と所定の長さだけ重なるように配置される第２のマーク列を第２の方向に複数配列した第２の検査用パターンと、をレジストに形成し、第１と第２の検査用パターンを用いて算出した合わせずれ量から後の工程に進むか否かを判定する。 （もっと読む）