【課題】ヘッドの回転に影響されることなく実装対象物および被実装対象物にそれぞれ設けられたアライメントマークを上方から認識手段により読取りつつ、ヘッドを回転することにより実装対象物および被実装対象物の回転方向における相対的な位置調整を行うことができる技術を提供する。
【解決手段】空間ＯＳにヘッド２と非接触状態で２視野光学系レンズ１４ａが挿入されてアライメントマーク２０ａ，２２ａが上方から光学的に読取られるため、ヘッド２が回転しても、２視野光学系レンズ１４ａによる光路の変換方向がＣＣＤカメラ１４ｂに向かう方向からずれないため、ヘッド２の回転の影響を受けることなくアライメントマーク２０ａ，２２ａを上方から上下マーク認識手段１４により読取りつつ、部品２０および基板２２の回転方向における相対的な位置調整を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】塗膜の膜厚を、低コストで、非接触で正確に計測する。
【解決手段】カメラ（撮像部）１３は、照明光１２で照射された試料２０の表面をカラー撮像する。この際、膜厚を計測する際には、位置（Ａ）に設置され、照明光１２の反射光１４がこのカメラ１３に直接入射しない構成とする。これにより、カメラ１３が検出する光の大部分は、照明光１２の試料２０による散乱光１５となる。パーソナルコンピュータ（制御部）１６は、Ｒ信号、Ｇ信号、Ｂ信号の強度を、色相ｈ、彩度ｓ、明度ｖのＨＳＶ信号に変換する。パーソナルコンピュータ１６は、この散乱光におけるｈ、ｓ、ｖの値から塗膜２２の膜厚ｔを算出する。 （もっと読む）

【課題】
検査時間を増大させることなく、微細凹凸パターンが形成された、ハードディスク用のパターンドメディアなどの試料よりの欠陥種類の特定を容易に行うようにする。
【解決手段】
微細凹凸パターンの欠陥検査において、スキャッタロメトリー法にて検査対象物の特徴を検出する際に、検査対象物の検出対象領域の分光波形を検出し、検出対象領域が検査対象物のパターン種類によって決まるどの領域区分に属するかの領域判定を行い、領域判定の結果により、判定された領域区分に対応する、欠陥種類毎に異なる特徴量の演算式と判定指標値を選択し、選択した特徴量の演算式にしたがって、前記分光波形データに対し、特徴量演算を行い、算出した特徴量の値と、前記選択した判定指標値とを比較して欠陥種類毎の判定処理を行う。 （もっと読む）

【課題】チャックテーブルに保持された半導体ウエーハ等の被加工物の上面高さを正確に計測できる計測装置を装備したレーザー加工機を提供する。
【解決手段】チャックテーブル３６に保持された被加工物に向けて発光する白色光源６１と、白色光を被加工物に照射する第１の色収差レンズ６２と、被加工物に照射された白色光の反射光を分光するビームスプリッター６３と、ビームスプリッター６３によって分光された反射光における光軸を通る波長の反射光を通過させる光分別手段６５と、回折格子６６によって回折された回折光の波長を検出する波長検出手段６７と、制御手段を具備する計測装置であって、ビームスプリッター６３と第１の色収差レンズ６２との間に配設され光軸上に白色光源６１からビームスプリッター６３を通して入光する白色光の仮想焦点の像を形成する第２の色収差レンズ６４を備え、各波長の集光点が所定波長間隔に比例するように設定されている。 （もっと読む）

【課題】 光源からの光により生じる対象物の影から対象物の形状をより適切に推定可能な形状推定システム等を提供することを目的とする。
【解決手段】 形状推定システム１において、影撮影装置５は、例えば、撮影部１９の周囲に複数の光源１５₁，・・・，１５_Nを配置し、例えば１回ずつ点灯させるＮ回点灯制御を行い、各点灯制御に同期して撮影部１９は撮影する。撮影データは撮影データ記憶部２１に記憶され、画像データ修正部２７によりノイズ除去等の修正処理が施され、特徴情報生成部２９は、例えば多段階のウェーブレット多重解像度解析を行い、各成分の二乗平均平方根を取ることにより得られる対象物３の影の特徴を示す特徴情報を生成する。対象物３が既知の形状であれば、学習部３１は例えば自己組織化マップを学習させる。対象物３が未知の形状であれば、推定部３５は学習後の自己組織化マップに提示して既知の形状の一つを対象物３の形状として推定する。 （もっと読む）

【課題】回折を用いる場合に所望の次数の回折光の全ての波長を検出に利用できるようにする。
【解決手段】反射光のうちワーク１表面付近で焦点を結んだ光以外の光の通過を規制する光ファイバ１２１と、光ファイバ１２１を通過した反射光を同一平面内に広がる回折光に分岐させる回折光学素子１２２と、回折光に含まれる１次回折光と高次回折光とのうちで１次回折光のみを検出する１次回折光検出手段１３０とを有する高さ検出手段１２０を備え、１次回折光検出手段１３０は、回折光を集光する回折光集光レンズ１３１と、集光される回折光を、同一平面外の方向へ波長毎に異なった角度で屈折させる波長分散フィルタ１３２と、１次回折光が集光される箇所にのみ検出部を有し、１次回折光のみの波長毎の光強度を検出する波長検出センサ１３３と、色収差レンズ１０２によって集光される白色光の各波長の焦点距離を記憶した制御マップを格納するメモリ１３４とを含む。 （もっと読む）

【課題】本発明は、３次元形状測定方法を提供する。
【解決手段】
本発明は、基板と、基板上に設けられた半田ボールを有する被検査体の３次元形状測定方法において、半田ボールのイメージを取得し、半田ボールの中心部を決定する中心部決定ステップと、被検査体に正弦波形を形成し、基板の上面と半田ボールを同時に含む統合イメージを取得するイメージ取得ステップと、統合イメージから半田ボールの中心を通過する仮想の直線である基準線を選定し、基準線上に位置した半田ボールの中心部で正弦波形が投影された部分の位相値を抽出して半田ボールの中心部の位相値として決定し、基準線上に位置する基板で正弦波形が投影された部分の位相値を抽出して基板の位相値として決定する位相値決定ステップ、及び半田ボールの中心部の位相値と基板の位相値との差に基づき、基板の上面から半田ボールの中心部までの高さを算出する高さ算出ステップと、を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】観察試料の表面形状を直感的で判りやすく表示することができ、３次元情報取得の操作性を格段に向上することが可能な走査型共焦点顕微鏡を提供すること。
【解決手段】対物レンズの集光位置と試料の相対的な位置を集束光の光軸方向に治って離散的に繰り返し往復動作させて光強度情報を取得し、抽出した光強度情報に適合する変化曲線上の最大値と相対位置を推定し、輝度情報と高さ情報として取得し、移動機構の反転動作から次の反転動作までの間に取得される各相対位置での試料からの光強度情報を光強度情報群として取り扱い、試料からの非共焦点画像情報を光強度情報とは別に取得し、移動機構の反転動作位置から次の反転動作位置の間に得られる試料の高さ情報を、取得した非共焦点画像情報とともに同一画面上に、移動機構が反転動作位置から次の反転動作位置に移動する毎に試料形状の３Ｄ画像、非共焦点画像を更新して表示する。 （もっと読む）

物体（８）の、特に、半透明な物体の少なくとも１つの部分の形状、例えば、歯の部分の形状を、好ましくは広帯域スペクトルを有する光を発生させるための光源（１）と、多焦点の照射パターンを作成するための装置（３）と、照射パターンの複数の焦点を物体に結像するための、大きな色収差を有する対物レンズ（６）と、対物レンズを介して物体に共焦点に結像される複数の焦点の波長スペクトルを決定するための検出装置（１０）とを用いて、測定するための方法であって、各々の波長スペクトルから、各々の焦点のスペクトルのピーク位置を決定し、該ピーク位置から、結像光線（Ｚ座標）の方向における物体の広がりを計算し、多焦点の照射パターンを、光源（１）と、大きな色収差を有する対物レンズ（６）との間に設けられた複数のライトガイド（５）によって形成し、対物レンズ（６）は、ライトガイドの、物体側の端部を物体に結像し、物体から反射された光を、ライトガイドの物体側の端部に結像し、ライトガイドによって導かれかつ反射された光を、検出装置（１２）へ向ける。構造的に簡単な措置によって極めて正確な測定を行なうことができ、サンプル上の測定点のできる限り良好な分布のみならず、検出装置における最適なスペクトル分布を可能にすることが意図されることを達成するために、物体側の照射パターンは、物体側の測定点分布が、照射側および検出側のマイクロレンズの分布またはピンホールの分布に依存していないように、ライトガイド（５）を介して、形成されることが提案される。 （もっと読む）

【課題】タイヤ内面の検査において、ハレーションを抑制してタイヤ内面のキズや汚れ及び異物などの検出精度を向上させるタイヤ内面検査装置を提供する。
【解決手段】タイヤ内面検査装置が、タイヤ内面の一方のタイヤサイド側に光を照射する第１照射手段とタイヤ内面の他方のタイヤサイド側に光を照射する第２照射手段と、第１照射手段の照射面に取り付けられる第１偏光手段と第２照射手段の照射面に取り付けられる第２偏光手段と、第１照射手段と第２照射手段が照射する光に基づき一方、他方のタイヤサイドを含むタイヤ内面を撮像する撮像手段とを備え、撮像手段が第１照射手段と第２照射手段によってタイヤ内面に照射された光のタイヤ内面からの反射光を偏光する撮像用偏光手段を備える。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィのための検査方法を提供すること。
【解決手段】基板上でリソグラフィプロセスに使用されるリソグラフィ装置の焦点を決定するために使用される方法である。リソグラフィプロセスは、少なくとも２つの周期構造を基板上に形成するために使用される。各構造は、基板上のリソグラフィ装置の焦点の異なる関数として変化する互いに反対側の側壁角度間に非対称性を有する少なくとも１つのフィーチャを有している。放射のビームを少なくとも２つの周期構造上に導くことによって生成されるスペクトルが測定され、かつ、非対称性の比率が決定される。比率と、構造毎の焦点と側壁非対称性の間の関係とを使用して、基板上のリソグラフィ装置の焦点が決定される。 （もっと読む）

【課題】交換可能なクロマティックポイントセンサ構成要素の強度補償を提供する。
【解決手段】クロマティックポイントセンサ（ＣＰＳ）の光源および波長検出器サブシステムの非均一応答に補償を提供する方法が提供される。光源からの光は、ＣＰＳ光学ペンを通る測定路を迂回し、迂回光を波長検出器に提供して、検出器のピクセルにわたって分布した未処理強度プロファイルを提供する光路に入力される。結果として生成される未処理強度プロファイル信号のセットが解析されて、未処理強度プロファイル信号内に発生する波長依存強度変動の誤差補償係数のセットが決定される。後に、誤差補償係数を適用して、本発明を使用しない場合にはＣＰＳ距離測定プロファイル信号データのピーク領域内の信号の形状に発生する歪みおよび非対称性を低減することができる。開示される方法は、様々な実施形態において、ＣＰＳ構成要素に強化された精度、ロバスト性、現場でのテスト、および交換可能性を提供することができる。 （もっと読む）

【課題】 微細化トレンドに従って焦点深度が極めて小さくなるに従って、フォーカス検出の高精度化がますます重要となっている。しかしながら要求精度に合致する検出範囲は狭小化の一途にあり、ウエハ表面を確実に検出範囲内に位置付けることが難しくなっており、露光不良の一因となっている。
【解決手段】 ウエハを保持する可動ステージと、面位置計測手段を持った面位置計測方法において、ウエハ表面の全体、又は一部のウエハ表面形状を計測する段階と、計測したウエハ表面形状を記憶する段階を持ち、記憶したウエハ表面形状に沿った軌道で可動ステージを動かしながら面位置の変化量を計測する手段と、軌道からの変化量を駆動する手段とを有する。 （もっと読む）

【課題】高解像度のカメラを用いずに、マークを識別できるようにする
【解決手段】カメラで撮影したマーク候補の画像のスペクトラムデータを作成する（Ｓ１４）。マーク候補のスペクトラムデータと、予め記憶してある複数のマークの反射光の周波数特性を示すスペクトラムデータと照合し、スペクトラムデータの一致するものを同一のマークと判定する（Ｓ１６）。２以上のマークの絶対座標を取得し、取得した絶対座標と、２以上のマーク候補の相対位置座標から移動体の位置を計算する（Ｓ１７）。 （もっと読む）

【課題】誤った低いオーバーレイ計算を識別する方法を提供する。
【解決手段】スキャトロメータで１次回折次数と０次回折次数の両方が検出される。１次回折次数はオーバーレイエラーを検出するために使用される。その後、これがバイアスより大きくしかし回折格子のピッチより小さい大きさの誤ったオーバーレイエラー計算である場合、フラグを立てるために０次回折次数が使用される。 （もっと読む）

【課題】接合体における各構成の屈折率差の大小に関係なく、好適に接着層の厚さを測定することができる、接合体における接着層の厚さの測定方法を提供する。
【解決手段】第１層と、第１層と同等の屈折率を有し、第１層に接合される接着層とを有する接合体の接着層の厚さを測定するための測定方法は、第１層と接着層との界面に、界面よりも高い反射率を有する反射層を形成する反射層形成工程Ｓ１０と、反射層に測定光を照射する測定光照射工程Ｓ２０と、測定光が反射層で反射された反射光を取得する反射光取得工程Ｓ３０と、取得された反射光に基づいて接着層の厚さを算出する反射光解析工程Ｓ４０とを備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】検査対象上に形成される膜厚が変動した場合でも検査光の光量を適切に設定可能な光量設定方法、検査方法および検査装置を提供する。
【解決手段】光量設定方法は、検査対象に対して、波長の異なる複数の光を順次照射し、各波長の光に対する膜層での反射特性値を測定する反射特性値測定工程と、膜厚算出係数を用い、反射特性値測定工程により測定される反射特性値に対する膜厚推測値を算出する膜厚演算工程と、膜厚推測値に対する光量値を設定する光量設定工程と、を備えた。 （もっと読む）

【課題】溶剤の蒸散や固形成分の濃度にかかわらず、液滴吐出装置からの液滴吐出量を高い精度で計測することのできる液滴吐出量測定方法、および当該液滴吐出量測定方法を利用した有機ＥＬ装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】固形成分および溶媒を含む機能液を導入したインクジェット方式の液滴吐出装置２により吐出した機能液の液滴Ｍの量を測定するにあたって、検査面１１上に機能液の液滴Ｍを吐出着弾させた後、液滴Ｍから溶剤を蒸散させて固形ドットＤとする。その際、液滴Ｍからの溶剤の蒸散に伴って液滴Ｍを堆積収縮させて液滴Ｍの着弾面積よりも固形ドットＤの面積を狭くする。しかる後に、固形ドットＤを画像認識して固形ドットＤの体積を測定する。 （もっと読む）

本発明は、基材（２）上に被覆されたコーティング層（７）の厚みを測定する装置及び方法に関する。基材（２）上のコーティング層（７）の厚みは、コーティングローラー（３）上のコーティング層（４，８）の厚みが該コーティングからコーティングローラー（３）から基材（２）へ転写される前後に測定されることによって間接的に測定される。コーティングローラー（３）上のコーティング層（４，８）の厚みを測定するために、２つのセンサー（９，１０）がコーティングローラー（３）上の各々の層（４，８）に向けられて使用される。センサー（９，１０）はＩＲ放射器とＩＲ検知器とを備えている。
（もっと読む）

【課題】簡易な構成で膜厚を測定することができる膜厚測定装置及び膜厚測定方法を提供する。
【解決手段】本発明の一態様にかかる膜厚測定装置は、透明膜の表面反射光又は界面反射光が２次元アレイ光検出器の受光面に照射される照明領域に対応する画素列を光変換手段の位置に応じて記憶する画素列記憶手段と、試料上における焦点高さを走査する焦点高さ走査手段と、照明領域に対応する画素列で検出される光に基づく信号を焦点高さと対応付けて記憶する測定データ記憶手段１０１と、焦点高さを変数とし、測定データ記憶部１０１により透明膜の光学的な膜厚を求めるために参照される参照関数を記憶する参照関数記憶手段１０２と、参照関数と測定データに基づいて最小二乗法により、薄膜の光学的な膜厚を算出する算出手段１０５とを有するものである。
ものである。 （もっと読む）