【課題】計測対象の寸法を求める隙間段差計測装置において、計測姿勢を正確に正対する必要がなく、容易に高精度の計測を行う。
【解決手段】計測対象Ｇを形成する２つのワークＷ１，Ｗ２の表面にスリット光Ｌ１を照射するスリット光照射手段４と、少なくとも前記スリット光が照射された状態の前記計測対象を含む第一の平面画像、及び前記スリット光が照射されない状態で、前記計測対象を形成する一対のワーク端部を含む第二の平面画像を取得する撮像手段６と、前記計測対象の寸法を算出する制御手段１０とを備え、前記制御手段は、前記第一の平面画像から、前記ワーク表面に照射されたスリット光の中心ラインＬＣを抽出し、前記第二の平面画像から前記一対のワーク端部のエッジラインをそれぞれ抽出し、前記スリット光の中心ラインと前記一対のワーク端部のエッジラインとの各交点Ｐ１，Ｐ２に基づき前記計測対象の寸法を算出する。 （もっと読む）

【課題】構造が未知の膜体に対し、比較的短い計算時間で複数の膜厚を測定することができる方法及び装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る膜厚測定方法では、測定対象の膜体に対し、予め作成された既知の単一膜厚値d_j(j=1,2,...,m)に対する基準スペクトルS_jと、前記膜体の所定の測定領域内におけるn個の照射領域から得られる測定スペクトルV_k(k=1,2,...,n)とを、基準ベクトルs_j及び測定ベクトルv_kに変換し、ベクトル空間{v₁,v₂,...,v_n}と各基準ベクトルs_jとの距離L_jを算出する（ステップＳ１〜Ｓ４）。そして、距離L_jが極小となる膜厚値d_jをそれぞれ膜厚値として出力する（ステップＳ５及びＳ６）。この方法によれば、膜体の構造が未知であっても複数の膜厚を測定することができると共に、計算時間が比較的短いため、半導体製造等の用途においてリアルタイムで膜厚を測定することができる。 （もっと読む）

【課題】 連続移動する測定対象物の三次元形状を、位相シフト法により高速に測定すると共に、垂直解像度や深度を柔軟に設定できる構成とする。
【解決手段】
被測定対象物に対して斜め上方から、投影方向に沿って光の強度が正弦波状に変化する格子縞を投影する格子縞投影器１と、鉛直上方に位置しエリアセンサ６を備えたカメラ２と、被測定対象物を一定方向へ移動させるステージ３とを備え、格子縞は位相が互いにπ／２ずつシフトした４つの帯状領域に分かれており、エリアセンサ６上の各帯状領域につき一本の水平ライン、計４本から画像を読出し、位相シフト法の原理を用いて位相を算出して高さに変換し、被測定対象物の三次元形状を測定する。 （もっと読む）

【課題】所望する場所で手軽に被測定物の３次元形状測定を行なうことができる携帯電話機を用いた３次元形状測定システムおよび同携帯電話機を提供する。
【解決手段】３次元形状測定システムは、携帯電話機１００と３次元形状測定装置２００とを備えている。携帯電話機１００は、被測定物ＷＫに明部と暗部とからなる縞状パターンを投影するための投影部１２０と、同縞状パターンが投影された被測定物ＷＫを撮像して複数の撮像画像データを生成する撮像部１４０と、同撮像画像データを記憶するための記憶部１１４と、被測定物ＷＫの３次元形状を表示するための液晶表示部１３１とをそれぞれ内蔵して構成されている。３次元形状測定装置２００は、携帯電話機１００との通信を制御する通信制御部２０１と、撮像画像データに基づいて被測定物ＷＫの３次元形状を表す形状測定データを位相シフト法や空間コード法を用いて計算する３次元形状計算部２０２とを備えている。 （もっと読む）

【課題】試験対象物の第１及び第２表面を干渉法によってプロファイルすることに加えて、第１基準面と第２基準面との間の空間的関係に基づき、試験対象物の幾何学的特性を測定する。
【解決手段】本発明は、試験対象物の幾何学的特性を測定するための方法を特徴とする。この方法は、第１基準面に対して、試験対象物の第１表面を干渉法によってプロファイルする工程と、第１基準面とは異なる第２基準面に対して、試験対象物の第２表面を干渉法によってプロファイルする工程と、第１基準面と第２基準面との間の空間的関係を提供する工程と、干渉法によってプロファイルした表面、並びに第１基準面と第２基準面との間の空間的関係に基づいて、試験対象物の幾何学的特性を計算する工程とを含む。ある実施形態では、この空間的関係は、校正済みのゲージ・ブロックを使用することによって、または変位測定干渉計を使用することによって測定することができる。対応するシステムも説明される。 （もっと読む）

【課題】物体に簡便で小型な反射センサーを取り付け、回転・傾斜を精密にリモート計測する方法を提供する。
【解決手段】リモート観測方向に設置固定された偏光検知器と、物体に取り付ける反射センサーと、該反射センサーに円偏光を照射する光源装置から成り、且つ、該円偏光の照射角度範囲の設定によって、該反射センサーで所定の範囲の入射角度分布で正反射せしめ、その正反射せしめることで、該正反射光束を偏光反射の既知の入射角依存性に従う所定の空間分布の発散する楕円偏光光束を成さしめ、その楕円偏光光束を検出して、リモート観測方向へ向かう光線成分の偏光楕円から該反射センサーのリモート観測光軸周りの回転角θと観測光軸と成す傾斜角φを計測する。 （もっと読む）

【課題】ノイズの影響を抑えて、安定した精度の高い測定結果を得る。
【解決手段】広帯域スペクトルを有する光源１から被測定対象４までの第１光路長と光源４から参照面５までの第２光路長との光路長差によって変化する被測定対象の測定面内の各測定位置に対応した干渉光強度を示す干渉光強度分布画像を、光路長差を変化させながら、画像記憶手段９に順次記憶する。干渉光強度分布画像の各測定位置における光路長差の変化に伴う干渉光強度の変化を示す干渉光強度列に対し、その強度の中心から強度軸の正負方向に所定のスレッショルドレベルを設定する。スレッショルドレベルを超える干渉光強度のデータをピーク位置候補として求め、最もピーク位置候補が密集している領域の重心を干渉光強度列のピーク値として求める。 （もっと読む）

【課題】多層膜に光を照射してその反射光から光学膜厚を測定し、この光学膜厚から物理膜厚を演算する構成の膜厚計では、測定対象の多層膜や測定する光学膜厚が異なると、光学膜厚と物理膜厚の関係式も異なる。このため、測定に特別な知識が必要になり、また測定対象が変わると新しい関係式を設定するために改造が必要になるという課題を解決する。
【解決手段】測定した光学膜厚と各層の物理膜厚をベクトルと考え、多層膜を構成する各層の屈折率を入力して、この屈折率を用いて光学膜厚から物理膜厚を演算する係数行列を算出し、この係数行列と測定した光学膜厚から物理膜厚を演算するようにした。多層膜の構成や光学膜厚に依存しない汎用的な手法で物理膜厚を演算できるので、特別な知識や機器の改造がなくても、新しい多層膜の測定ができる。 （もっと読む）

薄膜の厚さに関するデータ（例えば、厚さ変化）は、以下の通りに本願明細書において決定される。前記膜および基板が、全体において、干渉計構造を形成するように、前記膜は基板上に配置される。その光放射線が膜および基板によって形成される干渉計構造の方へ発されて、前記干渉計構造から光学的に反射された後、放射線は測定される。前記薄膜の厚さ関連のデータ（例えば、厚さ変化）は、その後、スペクトル関連の情報の中で、例えば、前記光学的に反射された放射線によって決定される。 （もっと読む）

あるシステム及び方法が、再構築により、基板上のオブジェクトの概略構造を決定する。これは、例えば、リソグラフィ装置のクリティカルディメンション（ＣＤ）又はオーバレイ性能を評価するための微細構造のモデルベースのメトロロジーなどに適用できる。基板上のスタック上の格子などのオブジェクトの概略構造を決定するためにスキャトロメータが使用される。ウェーハ基板は上層と下地層とを有する。基板はスタックオブジェクト上の格子を含む第１のスキャトロメトリターゲット領域を有する。スタック上の格子は上層と下地層とからなる。上層は周期格子のパターンを備える。基板はさらに、上層がない、隣接する第２のスキャトロメトリターゲット領域を有する。第２の領域は、パターン形成されていない下地層のみを有する。 （もっと読む）

【課題】外光の存在下においても投影装置からの光出力を増加させることなく対象物の３次元形状を計測することを可能にする。
【解決手段】投影装置１からスリット光が物体Ｏｂに投影され、物体Ｏｂの表面に形成されるパターンが投影装置２により撮像される。制御回路部３は、投影装置１から光パターンを投影する照射期間と投影しない非照射期間とを設ける。撮像装置２は、電荷の集積と保持とが可能な感光部を備え、画像生成部４は、照射期間に対応する感光部からの受光出力と非照射期間に対応する感光部からの受光出力との差分である反射強度値を画素値とする反射強度画像を生成する。目的画素抽出部５は、反射強度画像において光パターンに対応する画素の位置を抽出する。位置演算部６では、目的画素抽出部５で抽出した画素の位置を用いて対象物の３次元位置を算出する。 （もっと読む）

【課題】表面に膜が形成されたウエハでも安定してアライメントマークと周辺部のコントラストが高い画像データを取得できるようにしたものを提供する。
【解決手段】照明光となる光源と前記光源からの光を物体に照射し、また反射光を集光結像する結像光学系と前記結像光学系の集光点に設置し、物体の画像を取り込むカメラと取り込んだ画像を処理する画像処理機能からなるアライメント測定装置を備えた欠陥検査装置において、画像の取り込みを少なくとも２つの異なる波長帯域の反射光において行い、それぞれの反射光に対応した物体の画像情報を適切に演算処理することによってアライメントマークのコントラストを高めるように構成する。 （もっと読む）

光学的放射の手段による対象物の表面の特性を決定するための測定機器は、光学的放射源及び測定表面から反射した放射を受信する検出器を具備する。更に、測定デバイスは、放射される光学的放射の処理装置を具備し、それは、光源から放射される光学的放射を、別の波長へ分割し、前述の波長の内、少なくとも最も短い波長及び最も長い波長が、測定表面の法線方向において、測定対象物の異なる半分且つ異なる高さに集中するように、前述の測定対象物への分割された波長を測定表面の通常から異なる方向に向けるように調整される。更に、測定デバイスは、反射光の放射線処理装置を具備し、被測定物から少なくとも鏡面反射の方向に反射光学的放射線を受けるように調整され、測定表面の法線方向とは異なり、受信した光学的放射を前述の検出器へ向ける。更に、測定デバイスは、検出器によって生成された電子シグナルを分析し、そこに集中した放射線の強度に比例し、更に、被測定物の表面の光沢（光沢度）及び／又は厚さ特性を、その波長の強度、測定面に位置する、焦点に基づいて決定するように調整され、波長は鏡面のジオメトリにおいて検出器へのその点から反射された最も強いものであった。 （もっと読む）

【課題】対象物の大きさの指標となる目盛をリアルタイムに撮像画像に重ねて表示することができる安価で簡潔な構成の撮像装置、画像表示方法、及び画像表示のためのプログラムを記録した記録媒体を提供すること。
【解決手段】対象物を撮像し、その撮像画像を表示する撮像装置であって、撮像画像中の対象物の大きさの指標となる目盛を生成する目盛生成部と、目盛に歪曲収差による歪みと同等の歪みを与える形状補正を行うために使用する補正用データを記憶しているデータ記憶部と、補正用データに基づいて目盛に形状補正を行った歪曲目盛を生成する目盛形状補正部と、歪曲目盛を撮像画像に合成する画像合成部を有し、リアルタイムで撮像画像を歪曲目盛と合成して表示する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、多重回折格子記録媒体のそれぞれの模様を検出することが可能な品質検査装置及び品質検査方法に関する。
【解決手段】多重回折格子記録媒体の裏面側から透過光を照射する透過光照射部と、多重回折格子記録媒体を保持する保持部と、多重回折格子記録媒体の透過光軸方向に設けられ、多重回折格子記録媒体の透過光を偏光する偏光素子と、偏光素子を前記多重回折格子記録媒体の透過光の光軸を中心に所定の角度に回転する偏光素子回転部と、所定の角度に応じて多重回折格子記録媒体の透過光による各模様の読取を行う画像読取部を有する画像撮影部と、画像撮影部により読取られた各模様を演算処理し、あらかじめ記録した基準模様と比較して良否判定を行う画像処理部と、画像処理部により演算処理された模様と、良否判定の結果を表示する出力部を有する。 （もっと読む）

【課題】
スキャトロメトリを用いることにより、基板上に形成された線幅数１００ｎｍ以下のパターンの断面形状を、例えばディスク全面を数マイクロメータ程度の領域毎に検査・測定することも可能となる。しかし、ディスク全面を数マイクロメータ程度の領域毎に検査・測定したパターンの幅や高さ等を全て表示することは困難であり、また全て表示することが必ずしも有効であるとはいえない。
【解決手段】
本発明では、パターンの幅や高さ、特にデバイスの性能に直接影響を及ぼすパターン断面の磁性体部分の断面積(単位長さあたりの体積)等の分布を独立に、又は組み合わせて表示する。また、結果の特徴を強調して表示する。さらに、リードライトテスト結果との相関を予め評価しておくことにより、パターン断面形状の検査・測定時に最終的な不良箇所の特定を可能とし、不良の発生を事前に防止することができる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、フォトマスクの特性を検出することができるフォトマスクの特性検出装置およびフォトマスクの特性検出方法を提供する。
【解決手段】被検出体に形成されたパターンの光学像に基づいて検出データを作成する検出データ作成部と、前記パターンに関する参照データを作成する参照データ作成部と、特性の検出対象となるパターンに対応する参照パターンと、前記参照パターンの位置情報と、を前記参照データから抽出する抽出部と、前記参照パターンに基づいて特性を検出する領域を設定するとともに、前記位置情報に基づいて前記検出データから前記特性の検出対象となるパターンを抽出する第１の領域設定部と、前記特性を検出する領域における前記特性の検出対象となるパターンの特性を受光面上に結像された光学像を光電変換することで検出する検出部と、前記検出された特性を集計する集計部と、を備えたことを特徴とするフォトマスクの特性検出装置が提供される。 （もっと読む）

【課題】複数の画像データから高精細な画像を表す高精細画像データを生成する高精細画像生成処理において、生成する高精細画像の出力時における画質の低下が抑制されるような画像データを生成することを可能とする。
【解決手段】画像生成装置は、生成する高精細画像データの出力に用いる出力装置に関する情報を出力装置情報として取得し、出力装置情報に基づいて出力装置での出力に適した高精細画像の画像サイズを生成画像サイズとして設定する生成画像サイズ設定部を備える。また画像生成装置は、複数の画像データから、時系列に並んだ複数の画像データを合成元画像データとして取得し、取得した合成元画像データを合成して、設定した生成画像サイズの高精細画像を表す高精細画像データを生成する画像合成部を備える。 （もっと読む）

本発明は、液状薬剤（Ｍ）の半透明の薬剤容器（１）のコンパートメント（５）をシールするためのストッパ（４）の長手位置を決定するための配置及び方法に関する。配置は、円形光源（８）及び光感受性センサ（７）を含み、ここで光源（８）又はセンサ（７）は、薬剤容器（１）の長さの少なくとも一部に広がる薬剤容器（１）に接して横方向に配置可能であり、ここでそれぞれの他の光源（８）及びセンサ（７）は薬剤容器（１）の先端周りに円形状に配置可能である。光源は薬剤容器中に光を放射するように配置される。光は薬剤又は薬剤容器（１）により散乱され、センサ（７）により検出される。センサ（７）はストッパ（４）の位置を検出するためにプロセッサユニットに連結される。 （もっと読む）

【課題】エッチングや印刷のムラによりメッシュ幅の太さの変化に影響されずに正確な欠陥抽出を行うことが可能なメッシュ検査装置を提供する。
【解決手段】メッシュ検査装置１の処理部３は、ラインセンサ５からメッシュシート１０のメッシュが画像に写る分解能で画像を入力し、前処理として光源である白色ＬＥＤ照明７によるシェーディングの補正を行い、前処理した画像を平滑化し、欠陥を誤検出しない程度に画像をぼかす。平滑化した画像内でしきい値により欠陥を抽出し、抽出した欠陥の重心を中心に例えば１２８×１２８画素を平滑化前の画像からトリミングする。トリミングした画像のＦＦＴ画像でメッシュの空間周波数に相当する領域を０に置き換えてメッシュ周波数を除去した後、ＩＦＦＴ処理を施し、得られた画像から欠陥の輝度、形状、面積の判定を行い、結果を出力する。 （もっと読む）