【課題】検査時にウェーハが水平方向や垂直方向に急速に変位しても、受光装置のフォーカス位置が合い、受光装置のフォーカス位置がずれることなく観測ポイントが視野中心に合った状態を維持することが可能な円板体外周検査装置を提供する。
【解決手段】円板体外周検査装置１は、円板体Ｗの径方向と円板面Ｓｗとの直交方向への変位量ΔＸ、ΔＹを検出する変位量検出装置３と、該表面Ｗｓでの散乱光Ｌを反射する第１ミラーとその反射光を散乱光Ｌの光軸に平行で逆向きに反射する第２ミラー４２とを備えるミラー部４と、ミラー部４を光軸方向とそれとの直交方向に夫々移動させるアクチュエータ５とを備え、散乱光Ｌが該表面Ｗｓで角度θ（下向き正）方向に散乱される場合、アクチュエータ５は、ミラー部４を、該表面Ｗｓでの散乱光Ｌの光軸方向及びそれとの直交方向にそれぞれ（ΔＸcosθ−ΔＹsinθ）／２及び（ΔＸsinθ＋ΔＹcosθ）／２だけ移動させる。 （もっと読む）

【課題】ノイズの効果を低下させ、オーバレイエラーの計算がさらに正確になるオーバレイエラーの代替計算方法を提供する。
【解決手段】複数の回折格子などを含むターゲットマークからの反射放射が、ピクセルのアレイによって検出される。各ピクセルの回折格子のオーバレイエラーが検出され、オーバレイエラーのアレイが割り出される。全ピクセルのオーバレイエラー値を単純に平均するのではなく、フィルタリングが実行される。ピクセルは、オーバレイエラーの検出値又はピクセルの検出強度に従ってフィルタリングすることができる。 （もっと読む）

【課題】凹凸を有する被検査物の表面の比較的広範囲の傷等の情報をその全範囲においてピントが合った状態で的確に検出することが可能な表面検査装置を提供する。
【解決手段】凹凸を有する被検査物Ｗの表面Ｗｓに光を照射し、該表面Ｗｓでの反射光を受光素子５で検出して被検査物Ｗの表面Ｗｓの検査を行うように構成された表面検査装置１において、束ねられた複数の光ファイバ４１からなり、入力側端部４ａにおけるファイバ位置（ｘ，ｙ）と出力側端部４ｂにおけるファイバ位置（ｘ^＊，ｙ^＊）とが光学的に１対１に対応付けられ、表面Ｗｓでの反射光Ｌreを受光素子５に導くファイババンドル４を備え、ファイババンドル４の入力側端部４ａが、被検査物Ｗの表面Ｗｓの形状と相補的でありかつ等倍または相似な形状に形成されている。 （もっと読む）

本明細書に記載される実施形態は、対象サンプルに関する構造的情報および深さ情報の取得を可能にする低コヒーレンス干渉法（ＬＣＩ）技術を伴う。一実施形態において、「掃引源」（ＳＳ）光源は、サンプルに関する構造的情報および深さ情報を取得するために、ＬＣＩにおいて用いられる。掃引源光源は、参照信号と、サンプルに向けられる信号を生成するために用いられることができる。サンプルから散乱される光は、結果として戻され、参照信号と混合されて、干渉を実現し、したがって、サンプルに関する構造的情報を提供する。サンプルに関する深さ情報は、フーリエ領域概念のほか、時間領域技術を用いて取得されることができる。掃引源光源を利用する複数のＬＣＩ実施形態が、本明細書に開示される。本明細書に開示される別の実施形態において、ａ／ＬＣＩシステムおよび方法は、時間領域システムに基づいて提供され、広帯域の光源を利用する。
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【課題】吸光性膜の厚さを広範囲にわたって干渉の影響を受けることなく解析可能な方法を提供する。
【解決手段】ガラスからなる透明基材９０にアモルファスシリコンからなる吸光性膜９１が被膜されている。この吸光性膜９１に照射部１０Ｘから検査光Ｌ１を照射し、反射検出部１０Ｙで反射率（Ｒ）を検出するとともに、透過検出部２０Ｘで透過率（Ｔ）を検出する。これら検出結果からＸ＝Ｔ／（１−Ｒ）を算出し、その算出値と、記憶部３３に格納した膜厚とＸとの関係データとに基づいて、吸光性膜９１の膜厚を解析する。 （もっと読む）

【課題】パターンの画像を測定しているパターン付き基板上の位置を正確に決定する方法および装置を提供することである。
【解決手段】基板特性の測定方法は、放射ビームＢがマスクＭＡを通過するように構成されたパターン付きマスクを生成してパターンを取得すること、マスクを使用してパターンが与えられたパターン付き放射ビームでの基板Ｗの照射をシミュレーションしてシミュレーションパターンを獲得すること、パターニングの誤差が発生しやすいシミュレーションパターンの少なくとも１つの位置を決定すること、および、リソグラフィプロセスを使用して前記パターン付き放射ビームで前記基板を照射することを含む。方法は、パターニングの誤差が発生しやすいとして決定された基板上のパターンの少なくとも１つの位置の少なくとも１つの特性の精度を測定し、測定に従ってリソグラフィプロセスを調整することも含む。 （もっと読む）

【課題】高アスペクト比のビィアホールを高分解能で測定できる深さ測定装置及び方法を実現する。
【解決手段】深さ測定装置は白色光の光ビーム発生手段１、光ビームを測定ビームと参照ビームとに分割するビームスプリッタ１０、測定ビームを試料に投射する対物レンズ１６、参照ビームを反射させる参照ミラー１４、前記測定ビームと参照ビームの相対的な光路長差を変化させるフリンジスキャン手段１４，１５、試料からの反射光と参照ミラーからの反射光とを合成して干渉ビームを発生するビーム合成手段１０、対物レンズと試料間の相対距離を変化させる駆動機構２０、対物レンズと試料間の相対位置を検出する位置検出手段２１、干渉ビームを受光してフリンジスキャン信号を出力する光検出手段２２、フリンジスキャン信号に基づく変位情報と前記位置検出手段から出力される相対位置情報とに基づいて凹部の深さ情報を出力する信号処理回路を具える。 （もっと読む）

【課題】温度補償用光ファイバをケーブル内に配置することなく正確な歪測定値を得ることができ、長尺製造が可能な光ファイバセンサケーブルの提供。
【解決手段】ケーブル外被に埋設された少なくとも１本以上の歪検出用光ファイバと、ケーブル外被内又は外側に設けられ、内部に温度調節した流体を流すことで前記歪検出用光ファイバを恒温に保持する可撓性の温度調節用流体流路とを有することを特徴とする光ファイバセンサケーブル。 （もっと読む）

【課題】高い輝度を拡散光において達成することである。
【解決手段】反射器（５）が管状であり、光進出スリット（７）に、製品ウェブ（６）から反射された光の進出のための少なくとも１つの監視スリット（８）が相対して位置しているようにした。 （もっと読む）

【課題】 透明フィルム上の突起、窪み、折れなどの平面異常による不良を高速に検査するにあたり、反射率や透過率から検査する方式の表面検査装置では平面異常だけを選択的に検出することは非常に困難であった。またレーザ光を使った凹凸測定による検出方法では表裏の反射光を分別できず正確な測定ができなかった。
【解決手段】光源より出射された光を、前記平面に対してライン状に走査する光走査手段と、該走査光による該平面および平面異常部からの透過光を受光する反射光位置検知手段と、該検知手段からの検知信号により該平面異常部の角度を算出して平面異常の検査を行う角度検査測定部と、を有する光走査式平面検査装置とした。 （もっと読む）

【課題】スキャトロメトリターゲットを提供すること、およびターゲットの回折格子のサイズが低減するのを可能にするが、回折格子のピッチが測定放射ビームの波長よりも小さい場合に、より高次の回折次数を損なわないターゲットの製作方法を提供すること。
【解決手段】ｎ個ごとに１個の構造が構造の残りとは異なる、構造の周期的なアレイを含む、基板上のオーバーレイターゲットが開示される。周期的なアレイは、望ましくは、交錯した２つの回折格子から形成され、アレイ内に非対称性を形成するために、それらの回折格子の一方が他方の回折格子とは異なるピッチを有する。次いで、この非対称性を、オーバーレイターゲットから反射された放射の回折スペクトルを測定することによって測定することができる。非対称性のばらつきが、連続する層上にオーバーレイターゲットがプリントされる基板上の層内に、オーバーレイエラーがあることを示す。 （もっと読む）

【課題】予め多種類の被測定物に対して変換用のデータを準備する必要がなく、しかも、被測定物の計測点の周辺を観察できる計測装置を提供する。
【解決手段】色収差によって、波長成分毎に異なる合焦位置からの反射光のみが計測光学系のピンホール２０を通過して検出器２６によって検出され、検出出力が最大となる波長成分に基づいて、ワーク２３の表面の位置を計測する一方、撮像光学系では、波長成分毎に、異なる合焦位置のワーク２３からの反射光が、ピンホールアレー２８の各ピンホール上に結像されて撮像され、計測光学系による計測点の周辺の画像を、深い被写界深度で観察できるようにしている。 （もっと読む）

【課題】スライダを広範囲で移動できるとともに、安定した位置制御を可能とする位置制御装置を提供する。
【解決手段】複数のレーザ干渉計３ａ〜３ｑと、スライダ２の位置を計測する位置計測部８２と、位置計測手段８２により計測されるスライダの計測位置に応じて、複数のレーザ干渉計３ａ〜３ｑの中からスライダ２の位置制御のために使用するレーザ干渉計を選択する選択部８１と、を備える。選択部８１は、前回レーザ干渉計を切り替えた後、所定時間経過するまでの間は、使用するレーザ干渉計の新たな切り替えを行わない。 （もっと読む）

【課題】スライダを広範囲で移動できるとともに、精度よく位置決めできる位置制御装置を提供する。
【解決手段】複数のレーザ干渉計３ａ〜３ｑは、スライダ２の移動方向に沿って配置される。選択部８１は、スライダ２の位置に応じて、複数のレーザ干渉計３ａ〜３ｑの中から使用すべきレーザ干渉計を選択する。位置計測部８２は、選択部８１により選択されたレーザ干渉計の計測結果を用いてスライダ２の現在位置を計測する。制御部８３は、位置計測部８２で計測されたスライダ２の現在位置に基づいてスライダ２の位置制御を実行する。 （もっと読む）

【課題】
デフォーカス技術を用いた三次元（３Ｄ）撮像装置および方法を開示する。
【解決手段】
この装置は、実質的に楕円である１つの絞り開口を備えた１つのレンズと、被写体から出て、かつレンズと実質的に楕円である絞り開口とを通過した光を獲得するために動作可能な１つのセンサーと、センサー情報を処理するため、かつ被写体の３Ｄ画像を生成するために、センサーと通信可能に接続されたプロセッサとを有する。この絞り開口は、焦点面より前にある被写体と、焦点面より後ろにある被写体とを区別するために、非対称形状を有しうる。この絞り開口は、回転可能であってもよく、観察されるパターンの方向は、時間と共に楕円である絞り開口に対して相対的に変動し、これにより、画像の重複による不明確さが除去される。この開示された装置は、さらに、所望の被写体の表面上に電磁放射線の所定のパターンを投影するように構成された光投影システムを有し、これにより、マークされていない表面が三次元でマッピングされることができる。 （もっと読む）

【課題】使用可能なすべての情報を効果的に使用し、プロファイルスペースを構成する公称プロファイル及びそのバリエーションをユーザが設定するのを手助けする。
【解決手段】オブジェクトのイメージ42を取り込み、このイメージ上に、手動又は自動によって推定プロファイル20を重畳すること、を含む。推定プロファイルは数学的に定義され、かつ、上記イメージと一致するようにセグメント毎にハンドル30を調節40する。あるいは又はこれに加えて、ユーザは、既知のイメージのプロファイルをトレース（又は自由描写）し、その後、多項式、スプライン、又はベクトル等の数学関数の形状定義物を推定プロファイル上に描くことにより、未知のオブジェクトのプロファイルをその回折パターンから再構成する際に使用し得る、プロファイル及び当該プロファイルの一つ以上の可変例を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】 簡単な構成で、測定部を小型化可能な光学式測定装置を提供すること。
【解決手段】 演算制御部１２０は、測定対象１０２を走査するパターンで光スイッチ部１０４のオン、オフを制御する。光源１３０からの測定用光は光スイッチ部１０４、第１光ファイバ束１０８、凹レンズ１１５を介して測定対象１０２に照射され、測定対象１０２で反射した測定用光は、受光レンズ１１４、第２光ファイバ束１０７を介して光検出部１０５によって検出されると共に、受光レンズ１１６、第２光ファイバ束１０９を介して光検出部１０６によって検出され、演算制御部１２０は光検出部１０５、１０６で検出した測定用光に基づいて測定対象１０２の３次元形状等を算出する。 （もっと読む）

【課題】簡素な構成で微少径を維持しつつも偏向部の回転速度が不均一になる現象を低減して安定した低コヒーレンス光の走査を実現することができるＯＣＴプローブを提供すること。
【解決手段】ＯＣＴプローブは、光源から照射された低コヒーレンスな光を用いて観察対象の断層像を取得するためのＯＣＴプローブであって、回転自在に構成され、外部にある光源から照射された光を前記ＯＣＴプローブの先端近傍まで導く導光手段と、導光手段と離間して配設され、導光手段から間接的に回転トルクを受けることにより導光手段の中心軸回りに回転するように構成され、導光手段により導かれた光を偏向して外部に照射すると同時に外部からの反射光を導光手段に向けて偏向する偏向手段と、導光手段から偏向手段に回転トルクを伝達し、かつ偏向手段の慣性による回転を許容するトルク伝達手段と、を有する構成にした。 （もっと読む）

【課題】簡素な構成で微少径を維持しつつも偏向部の回転速度が不均一になる現象を低減して安定した低コヒーレンス光の走査を実現することができるＯＣＴプローブを提供すること。
【解決手段】ＯＣＴプローブは、光源から照射された低コヒーレンスな光を用いて観察対象の断層像を取得するためのＯＣＴプローブであって、回転自在に構成され、外部にある光源から照射された光を前記ＯＣＴプローブの先端近傍まで導く導光手段と、導光手段と離間して配設され、導光手段から間接的に回転トルクを受けることにより導光手段の中心軸回りに回転するように構成され、導光手段により導かれた光を偏向して外部に照射すると同時に外部からの反射光を導光手段に向けて偏向する偏向手段と、導光手段から偏向手段に回転トルクを伝達し、かつ偏向手段の慣性による回転を許容するトルク伝達手段と、を有する構成にした。 （もっと読む）

【課題】生成物層スタック上にプリントされたオブジェクトのプロファイルを測定する際に、スタック中の生成物層によって再構成式に組み込まれる自由度の数を低減、または、排除することができる検査装置、リソグラフィ装置等を提供する。
【解決手段】オブジェクトプロファイルの測定に影響を与える１つ以上の生成物層の不明なパラメータが生じないように、層上にあるスキャトロメトリオブジェクトのプロファイルを測定する前に１つ以上の生成物層の厚さが測定される。実施形態においては、直前に露光された生成物層の自由度のみが各測定工程において不明な状態となるように、複数の生成物層における各層が、露光される際に測定される。複数の生成物層における各層が測定された後で、かつスキャトロメトリオブジェクトが層の最上部にあるとき、該スキャトロメトリオブジェクトの自由度のみが不明であり、オブジェクトのプロファイルのみ測定する必要がある。 （もっと読む）