【課題】基板表面のキズ、ピット等の微細穴を目視判定する際に、判定バラツキを低減で
きるようにした基板の外観検査法及び検査具を提供すること。
【解決手段】被検査基板１に光を照射して該基板１表面に存在するキズ等の微細穴１ａ、
１ｂを検査する基板の外観検査法において、被検査基板１に光を照射し、該被検査基板１
の表面に存在する微細穴１ａ、１ｂに反射させて輝点１Ａ、１Ｂを出現させた後、該輝点
１Ａ、１Ｂに可視光レーザービームをスポット照射して該輝点と照合することにより微細
穴１ａ、１ｂの大きさを判定する。 （もっと読む）

【課題】蛍光体ペースト塗工直後に塗工装置の状態を検査することで不具合を迅速に発見し、不良基板数を最小限に抑え、速やかに工程を復旧させることを可能にするディスプレイパネルの検査方法および検査装置並びにそれらを用いた製造方法を提供する。
【解決手段】基板に設けられた溝内に液状材料が塗工された塗工基板１０に、照明手段６３から光を照射し、前記該塗工基板からの反射光を撮像手段６２により撮像して、該反射光の光量を輝度情報として１次元または２次元状に取得し、該取得した輝度情報を信号処理して、前記液状材料の塗工不良箇所を検出する検査方法であって、前記溝の長手方向６８と垂直に交わる平面と、前記照明手段と撮像手段間の入射光軸と正反射光軸を含み、かつ前記溝の底面に垂直な平面とがなす小さい方の角度を４０°から８０°の間で保持して、前記輝度情報を取得する。 （もっと読む）

【課題】基板を圧力気体により浮上させるステージ部を備えつつ小型化を図るとともに、製造ライン内に設置可能な基板検査装置を提供する。
【解決手段】基板１を浮上させて水平支持する浮上ステージ部６と、基板１の端部を保持し浮上ステージ部６上に浮上させ状態で搬送する第１の基板搬送手段９と、第１の基板搬送手段９により搬送された基板１を検査する検査部と、浮上ステージ部６の搬送面より出没可能に設けられ、基板１の裏面を支持して浮上ステージ部６内に搬入する回転駆動可能な回転体８ｂを浮上ステージ部６の端部に複数配置した第２の基板搬送手段８とを備える。 （もっと読む）

【課題】大型の基板を検査する場合においても、構成が簡単で高コスト化を招くことなく、検査者が基板に近づいて観察可能な外観検査装置を提供する。
【解決手段】光を基板２に照射するマクロ照明部１と、光が基板２に照射されるように基板２を保持する基板保持部４とを備える外観検査装置Ａにおいて、基板保持部４は、基板２の表面２ａが略垂直となるように基板２を保持するものとされ、マクロ照明部１は、検査者７が基板２からの反射光または透過光を観察可能な観察台３が設けられ、基板保持部４に基板１が略垂直に保持された状態で、マクロ照明部２と観察台３とが基板面に沿って二次元方向に相対移動可能とされている。 （もっと読む）

【課題】 透明樹脂被膜の塗布ムラを効率的に検出する塗布ムラ検査方法を提供すること。
【解決手段】 透明樹脂の塗布方向及びこれに直交する方向に分割して多数の小領域とし、これら小領域に光を照射してその反射光強度を小領域毎に測定し、前記塗布方向又は塗布方向に直交する方向を積算方向として、この積算方向に沿って並んだ小領域の反射光強度を基準エリア５１内で積算処理して基準積算値を算出し、前記塗布方向又は塗布方向に直交する方向を積算方向として、この積算方向に沿って並んだ小領域の反射光強度を前記基準エリア５１内の走査エリア５２内で積算処理して積算値を算出し、前記基準積算値及び積算値から所定区間内で分散を算出し、前記基準エリア５１及び走査エリア５２の分散値との比較演算により塗布ムラを抽出する。 （もっと読む）

【課題】
半導体デバイス等の基板上に回路パターンを形成するデバイス製造工程において、製造工程中に発生する微小な異物やパターン欠陥を、高速に高感度で安定して検査できる装置および方法を提供すること。
【解決手段】
表面に透明膜が形成された被検査対象物に対し、異なる波長の広帯域照明と単一波長を用いて複数の照明方向と照明角度から暗視野照明を行い、繰り返しパターン部と非繰り返しパターンからの反射散乱光を波長分離して検出することにより、繰り返しパターンおよび非繰り返しパターンの表面および透明膜表面の異物または欠陥の反射散乱光を有効に検出するとともに、実パターンの回折像及びパターンの設計データから繰り返しパターンの回折光を除去する機能を検査装置に備えたことにより微小欠陥の安定検出を図る。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ディスペンサで塗布した打点の形状不良を判定する形状判定方法を提供することを目的とする。
【解決手段】上記目的を達成するために、本発明の形状判定方法は、ディスペンサで塗布した打点の重心を通る直線上の画像エッジから打点径を求めることを多方向に対して実施することで塗布打点の形状不良を判定することを特徴とする。本発明の塗布打点の形状判定方法を用いれば、容易に塗布不良の特定が可能となる。 （もっと読む）

【課題】ステージ上に載置する液晶基板を検査する液晶基板検査装置において、加熱による変形量を定量化する。
【解決手段】液晶基板検査装置の装置内に撮像装置を設け、この撮像装置によって、液晶用ガラス基板上に設けられた基板アライメントマークを撮像し、この基板アライメントマークの座標に基づいて基板の変形量を測定することによって、加熱による変形量を定量化する。基板の変形量測定方法は、撮像装置によって、基板上に設けられた基板アライメントマークを撮像し、座標算出部によって、撮像装置の撮像画像に基づいて、基板アライメントマークの座標を撮像装置に固定した座標系上において算出し、変形量算出部によって、基板アライメントマークの座標に基づいて基板の変形量を算出する。 （もっと読む）

【課題】液晶パネルの表示画面上の傷を確実に検出することができる液晶パネル検査装置を提供することを目的とする。
【解決手段】液晶モジュール１０の表示画面の画像を真上から撮影するＣＣＤカメラ１４と、液晶モジュール１０に対し角度を変えて光を当てるライト１８と、前記角度を変えて撮影した画像を入力する画像取込部１６と、各角度毎の画像を二値化する二値化部２２と、二値化された画像を重ね合わせる合成部２４と、元の画像と重ね合わせた画像を比較し、傷等の不良箇所を検出する比較部２６とからなる。 （もっと読む）

平板表示パネルアセンブリーを備えた平板表示装置の検査システムにおいて、前記平板表示パネルアセンブリーを整列配置する検査ステージと、前記検査ステージの上方に配置され、前記平板表示パネルアセンブリーの測定領域に対して透過した透過光のスペクトルを測定する測定装置と、前記測定装置を前記検査ステージ上で等加速度で移送させる移送装置と、前記測定装置と電気的に連結され、前記測定装置から伝達されたスペクトルの電気的信号を処理して欠陥の有無、欠陥の種類、欠陥の不良程度を知らせる欠陥情報装置を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】修正材料が欠陥箇所以外に付着して別の欠陥を作ることを防止すること。
【解決手段】パネル基板の欠陥箇所に修正材料を塗布して修正する修正装置において、修正材料を欠陥箇所へ塗布するための塗布ヘッドと、塗布ヘッドとパネル基板との間に遮蔽部材を退避可能に挿入する遮蔽機構を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 半導体製造や磁気ヘッド製造において、被加工対象物（例えば、半導体基板上の絶縁膜）に対してＣＭＰなどの研磨または研削加工を施した際、その表面に生じる様々な形状を有するスクラッチと付着する異物とを弁別して検査することができるようにした欠陥検査装置およびその方法を提供することにある。
【解決手段】 本発明は、研磨または研削された絶縁膜の表面に発生したスクラッチや異物に対してほぼ同じ光束で落射照明と斜方照明とを行い、該落射照明時と斜方照明時との間において浅いスクラッチと異物とから発生する散乱光強度の比率等の相関関係に基いて浅いスクラッチと異物とを弁別しすることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】液晶パネルの外形精度には関係なく、正確な検査領域を決定できる液晶パネル検出装置を提供する。
【解決手段】液晶パネル１２を載置するステージ１８と、液晶パネルの裏面から光を当てる照明装置２０と、照明された液晶パネル１２を撮影するＣＣＤカメラ２２と、撮影した画像からブラックマトリックス３８の内周側を検出し、その検出位置から検出領域を決定し、その検出領域に基づいて液晶パネル１２の割れ、欠け等を検査する制御部２４とよりなる。 （もっと読む）

【課題】最適な照明配置条件を見出す時間を短縮でき、検査装置を複雑化および大型化することを回避しながら、数十ｎｍ〜数百ｎｍ程度の分解能で膜厚差を検出できる欠陥検査方法および欠陥検査装置を提供する。
【解決手段】カラーフィルタ等のカラーフィルタ基板１０１に対し照明光１０２ｃを照明する線状光源１０２ａを有する照明装置１０２を設ける。照明光１０２ｃが照明されたカラーフィルタ基板１０１からの反射光１０２ｄを撮像する撮像装置１０３を設ける。撮像結果から欠陥の有無を判定する画像処理装置１０６を設ける。線状光源１０２ａのカラーフィルタ基板１０１に対する位置関係である照明配置条件を調整するための制御装置１０５を設ける。線状光源１０２ａを複数の照明位置に変化させる駆動レール部１０２ｂを、制御装置１０５により制御されるように設ける。 （もっと読む）

【課題】外観検査装置において、簡素かつコンパクトな構成により被検体の検査を行うことができるようにする。
【解決手段】基板外観検査装置５０が、基板３と照明部１１および撮像部１２とを相対的に移動させる走査機構を備え、さらに、照明部１１および撮像部１２と基板３との間の光路上に配置され、基板３のライン状の検査位置Ｍからの光を所定の偏向方向に向けて偏向する偏向素子１０と、照明部１１および撮像部１２をそれぞれの光路および検査位置Ｍのライン方向に直交する方向に相対移動する移動機構３０、３１を備えるようにする。 （もっと読む）

【課題】基板の欠陥を容易に検出することが可能な電気光学装置用基板の検査方法及び電気光学装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】電気光学装置に用いられる基板の欠陥を検出する電気光学装置用基板の検査方法であって、溶媒にガスを溶解させた溶液に基板１０を浸し、基板１０の表面から気泡１６の発生状態を観察することにより欠陥１５を検出することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】装置のコンパクト化を図ることができ、しかも比較的短時間で正確に色欠陥を判定することができる、カラー液晶パネルの色欠陥判定方法および装置を提供する。
【解決手段】本発明のカラー液晶パネルの欠陥検査方法は、カラー液晶パネルのバックライト光を光の三原色のそれぞれに切り換えた状態で、液晶パネルが黒画面を表示するように動作させることによって得られる黒表示画面をそれぞれモノクロ撮像機器で撮影し、この撮影で得られた３つの画像から前記液晶パネルのセル欠陥の有無を判定する。 （もっと読む）

【課題】 検査を受ける表示パネルと該表示パネルの画面を撮影する撮像機器との相対位置のずれの有無に拘わらず、正確かつ容易に欠陥画素のアドレスを特定する方法を提供する。
【解決手段】 欠陥が存在する表示パネルの画面上に、前記欠陥を表示させかつアドレスが既知の複数の画素を選択的に表示させた状態で、前記表示パネルの表示画面を撮影する。撮影によって得られた撮影画像上の選択表示された前記画素の画像およびそのアドレスから、前記撮影画像上の欠陥画素に対応する欠陥画像のアドレスを算出する。 （もっと読む）

【課題】液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ等のフラットパネル型ディスプレイに用いられるガラス基板上のＴＦＴ回路のパターンの欠陥が、基板に異物が付着した場合に、このパターンがショート欠陥かオープン欠陥かを識別する。
【解決手段】反射光源３３からの反射照明光３４をハーフミラー３２によってステージ３０上のパネル３１の表面に導き、このパネル３１の反射光を第１の撮像カメラ３８に取込む。またステージ３０の下側の透過光源４２からの透過光４３によって、パネル３１の透過観察像を取込み、この透過観察像をハーフミラー３２を通して第２の撮像カメラ３７に取込み、画像制御ユニット３９によって第１の撮像カメラ３８からの映像信号と第２の撮像カメラ３７からの映像信号とを処理して、基板３１に異物が付着していた場合に、パターンがショート欠陥かオープン欠陥かを識別する。 （もっと読む）

【課題】 撮像手段の傾きによる検査精度の低下の様子を把握できる検査装置を提供する。
【解決手段】 基板１０Ａ上のマークを撮像する撮像手段１７と、撮像手段の出力に基づいてマークの画像を取り込み、該画像から基板に対する撮像手段の傾きを求める画像処理手段１８とを備える。 （もっと読む）