【課題】 光学素子の曇りを安価に回避できる光源装置および検査装置を提供する。
【解決手段】 放熱を伴って発光する光源１１と、光源からの光を集光する光学素子１３と、光源と光学素子との間に配置され、光源からの光を透過すると共に、光源の放熱を受けて高温化した光学素子を保温する保温部材１２とを備える。 （もっと読む）

【課題】光学条件や欠陥の検出条件等といった、外観検査装置及び外観検査方法に用いられる検査条件を、実際の検査対象の試料に応じて適切に設定する。
【解決手段】外観検査装置１を、所定の光学条件で試料２の表面を撮像した画像を検査することにより試料２の表面に存在する欠陥を検出するように構成し、かつ外観検査装置１に、画像に現れる欠陥を所定の検出条件で検出する欠陥検出部２４と、所定の光学条件及び所定の検出条件の少なくとも一方を検査対象である試料２の被検査面に予め設けられた既知の標準欠陥９を欠陥検出部２４にて検出しうる条件に定める検査条件決定部５０と、を設ける。 （もっと読む）

【課題】検査条件の設定変更回数を最小限に抑えて表示パネルの欠陥検査を効率良く行う。
【解決手段】テストパターン発生装置２は、テストパターン記憶部１８に６種類のテストパターンを、各テストパターンの検査条件に基づいて２組のパターン群に分類して記憶している。制御部１７は、システム制御部１０からのテストパターン表示指示を受けて、テストパターン記憶部１５から、同一のパターン群に含まれるテストパターンが連続するように読み出して、読み出したテストパターンを順次表示パネル駆動部１１に送信し、表示パネル駆動部１１は受信したテストパターンを表示パネルに表示する。同一のパターン群に含まれるテストパターンは検査条件も同一であるから、検査条件の設定変更回数を最小限に抑えながら、表示パネルに順次表示されるテストパターンを撮像することにより、表示パネルの欠陥検査を効率良く行うことができる。 （もっと読む）

【課題】製造工程のリードタイムを短縮することができる欠陥検査装置および欠陥検査方法を提供する。
【解決手段】制御部１４は、搬入された基板の検査時に、基板上の欠陥を識別する欠陥情報を生成する。検査が行われた後、制御部１４は、その検査時に生成された欠陥情報と、基板の下層レイヤーの検査時に生成された欠陥情報とを比較し、前記下層レイヤーが欠陥と重複する重複欠陥を除いて前記最上層レイヤー上に発生した欠陥を識別する注目欠陥情報を生成する。判断部１３は、データ演算部から出力された最上層レイヤーＮの注目欠陥情報を比較し、基板の搬出先を判断し、制御部１４に通知する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、干渉縞（モアレ）が発生しても、欠陥の正確な検出をすることができるパターンの検査方法、パターンの検査装置および電子デバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】検査対象物上のパターンを撮像することにより検査を行うパターンの検査方法であって、撮像された画像を分割して複数の検査画像を作成し、前記検査画像が有する周期情報に基づいて参照画像を作成し、前記参照画像の位相を前記検査画像の位相に合わせ、前記位相を合わせた参照画像の振幅を前記検査画像の振幅に合わせ、前記振幅を合わせた参照画像をサンプリングすることにより前記検査画像を復元させることを特徴とするパターンの検査方法が提供される。 （もっと読む）

【課題】カラーフィルタ検査装置の色検査の精度を向上させる。
【解決手段】カラーフィルタ検査装置１のデータ処理部１００は、ＲＧＢ毎の選択波長帯域を設定する選択波長帯域設定部１０６と、分光測光装置２５により測定された各画素の分光透過率データに基づいて、各画素の前記選択波長帯域内の分光透過率の代表値を算出する透過率代表値算出部１０３と、各画素の透過率代表値に基づいて、前記カラーフィルタの検査対象領域全体についてのＲＧＢ毎の透過率画像データを各々生成する透過率画像データ生成部１０４と、前記画像データ生成部によりＲＧＢ毎に各々生成された前記透過率画像データを外部に出力する画像データ出力部１０５と、を備える。 （もっと読む）

【課題】表面検査装置において、簡素な構成により色ムラや明るさの不均一性を低減して被検体の画像を良好に観察することができるようにする。
【解決手段】表面検査装置１を、光源ユニット２と、ウエハ７を照明するための光ファイバ３、照明レンズ４からなる照明手段と、ウエハ７の表面からの表面放射光１２を撮像するラインＣＣＤ１０と、表面放射光１２をラインＣＣＤ１０に導く観察光学系とを有し、観察光学系は、ウエハ７の表面を物体面として、物体面側から直交する２軸方向でパワーが異なる反射面を少なくとも１つ含むことにより物体面側をテレセントリック光学系とする補正光学系６と、補正光学系６により導かれた表面放射光１２をラインＣＣＤ１０に結像する撮像光学系９が配置された構成とする。 （もっと読む）

【課題】起伏を有する被検査物における、前記起伏の端部付近の傾斜角である端部傾斜角を求める方法および端部傾斜角に基づいて、各起伏間の起伏厚の差を精度よく検査する方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る端部傾斜角測定方法は、上記課題を解決するために、起伏を有する被検査物における、端部傾斜角測定方法であって、上記被検査物に光を照射するステップＡと、上記被検査物の反射光分布を検知するステップＢと、上記反射光分布の検知結果から上記反射光分布の特徴点を求めるステップＣと、上記特徴点に対応する被検査物上の位置に対する、ステップＡにおける光の照射角度および上記特徴点に対応する被検査物上の位置による、ステップＢにおける反射光の検知角度とに基づいて、上記起伏の端部付近の傾斜角である端部傾斜角を求めるステップＤと、を含む （もっと読む）

【課題】 回路パターンの電気的な短絡と断線の位置を短時間で特定可能な検査装置及び検査方法を提供する。
【解決手段】 本発明の回路パターン検査装置は、ガラス基板３上に列状に配設された導電パターン２に検査信号を供給する給電部１２と、その信号を検出するためのセンサ１３と、導電パターン２を含むガラス基板３上の短絡、突起、断線、欠落等を検出するカメラ５０とから概略構成されており、カメラ５０で撮像した測定画像データ上の不良箇所の座標データと、センサ１３で検出されたセンサ出力信号が正常ではない導電パターンの位置情報とを比較して、特定の導電パターン上の不良位置を特定する。 （もっと読む）

【課題】表面欠陥検査装置において、被検体の検査レシピを効率よく作成することができ、検査効率を向上することができるようにする。
【解決手段】パターンを撮像して表面欠陥を抽出する検査部と、制御パラメータに基づいて検査部の動作を制御する制御部１Ｂとを備える基板検査装置において、制御パラメータをパターンの形成条件を表す設計データから算出する制御パラメータ算出手段３２を備え、レシピファイル編成部３６によりそれら制御パラメータをレシピファイルに編成する。レシピファイルは、調光結果に基づき、レシピファイル修正部３５によって修正可能とされる。 （もっと読む）

【課題】エッジを明瞭に写し出した画像取得を可能にし、高精度の検査を可能にした基板検査方法を提供する。
【解決手段】顕微鏡と顕微鏡に搭載したカメラとによって撮像した基板の画像を用いて、基板の検査を行う方法であって、表面に凸状体を形成した基板の撮像領域内に凸状体のエッジを含む指定領域を設定し（Ｓ４０９）、顕微鏡を基板に対して相対的に移動しつつ予め設定した撮像間隔毎に、基板の表面の画像を撮像して（Ｓ４０３）、撮像した複数の画像毎に指定領域のコントラスト値を求め（Ｓ４１０）、エッジのコントラスト値が最も高い画像を抽出し（Ｓ４１７）、このコントラスト値が最も高い画像を用いて検査を行う。 （もっと読む）

【課題】シミ欠陥を誤検出しないで高精度に検出できるシミ欠陥検出方法及び装置の提供。
【解決手段】本発明のシミ欠陥強調フィルタは、点対称位置でセットとされた２つの輝度比較画素の対象画素Ｏに対する輝度差の平均値などに基いて、輝度比較画素Ｓ１〜Ｓ３２で囲まれたシミ欠陥を強調する。ここで、パネル画像領域Ｒｐの内部および外部に当該フィルタが跨る場合を第２条件および第３条件により判断し、このような場合、セットの輝度比較画素のうち対象画素Ｏと同じ領域にある方の対象画素Ｏとの輝度差をシミ欠陥強調のための強調算出値とする。これにより、パネル画像領域Ｒｐ内外の輝度差に起因してシミ欠陥有りと誤検出することを防止できる。そして、このような複数の条件付けにより、パネル画像領域Ｒｐのみを撮像画像から抽出する処理などを不要にできるので、処理の簡略化、検査時間の短縮化が図られる。 （もっと読む）

【課題】個々の基板の様態や検査者の個人的な差異に対応可能な処理レシピを備える外観検査装置を提供する。
【解決手段】薄板状の基板に光を照射する照明部と、基板を保持した状態で揺動可能とされた基板支持部とを備える外観検査装置において、基板を外観検査装置で検査する事前に、他の検査装置によって取得された基板の検査データを取得し（Ｓ４０６）、検査データを予め作成したテーブルに入れることによって検査者が目視観察しやすい検査条件を自動で算出して（Ｓ４０８）処理レシピを作成する（Ｓ４０９）処理レシピ作成手段を備えるとともに、処理レシピ作成手段によって作成された処理レシピに従い外観検査装置を動作させる（Ｓ４１１）実行手段を備える。 （もっと読む）

【課題】 偏光素子の劣化による欠陥検出精度の低下を把握できる表面検査装置を提供すること。
【解決手段】 直線偏光を生成する第１の偏光素子３４を有し、直線偏光Ｌ１によって被検基板２０の表面を照明する照明手段１３と、直線偏光の振動面に交差する偏光成分を抽出する第２の偏光素子３７を有し、表面から発生した光のうち偏光成分Ｌ４を受光する受光手段１４と、第１の偏光素子および第２の偏光素子のうち少なくとも一方の劣化の度合いをモニタするモニタ手段１５,１６とを備える。 （もっと読む）

【課題】本発明は、検査対象の寸法が検査光の波長以下となっても、高解像度の検査をすることができるパターンの検査装置、パターンの検査方法および半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】透過光による検査を行うための第１の投光系、反射光による検査を行うための第２の投光系、の少なくとも一方と、検査対象物上のパターンの画像を撮像するための検査光学系と、前記検査対象物を載置移動させるためのステージと、前記パターンにより回折される光を強めるための回折光制御手段と、を備えたことを特徴とするパターンの検査装置が提供される。 （もっと読む）

【課題】表示デバイスの表示欠陥検出工程においてシェーディング除去の精度を高め、表示欠陥を高精度に検出できるシェーディング補正方法、欠陥検出方法、欠陥検出装置、その制御方法プログラムを提供すること。
【解決手段】欠陥検出装置は、撮像画像中の部分画像が中間部画像であるか周辺部画像であるかのエリア情報を判定し（ＳＴ２１）、部分画像中の各画素ごとの輝度値が所定輝度範囲内にある適用画素か否かを判定し（ＳＴ２２）、中間部画像に対応した中間部画像用平滑フィルタと周辺部画像に対応した周辺部画像用平滑フィルタとからエリア情報に基づいて選択した平滑フィルタを部分画像の適用画素に適用する（ＳＴ２３）ことで、部分画像中の着目画素の背景輝度値を算出して背景画像を生成する。この背景画像と撮像画像との差分をとることで、撮像画像からシェーディングを適切に除去することができる。 （もっと読む）

【課題】半導体ウエハなどの表面に現れるパターンを形成した製造プロセスが適切であるか否かを、このウエハ表面に現れる欠陥の外観検査と同時に確認することが可能な外観検査装置及び外観検査方法を提供する。
【解決手段】試料２に既知の標準欠陥９を設けて、試料２の表面に現れる欠陥を検出し、所定の製造プロセスで使用された処理レシピの相違に応じて変化する所定の処理レシピ評価情報を、標準欠陥９の検出結果に基づいて取得する。 （もっと読む）

【課題】塗布液の付与および基板の回転により形成された基板の膜上において回転軸を中心とする遠心方向に伸びる筋ムラの存在を精度よくかつ容易に確認する。
【解決手段】基板上の膜は、外部のスピンコータにおいて主面上にレジスト液を塗布するとともに基板を主面に垂直な回転軸を中心として回転することにより形成されており、ムラ検査装置では、基板の膜から得られる対象画像７１中において、基板の上面上にて回転軸を中心として設定される複数の遠心方向のそれぞれに対応する動径方向に並ぶ画素の値を積算することにより、複数の遠心方向に対応する複数の評価値が取得される。その結果、評価値を参照することにより、基板の膜上において回転軸を中心とする遠心方向に沿って伸びる筋ムラの存在を精度よくかつ容易に確認することができる。 （もっと読む）

【課題】ＬＥＤを光源として、十分な明るさを確保すると共に、十分に均一なライン照明を行うことができるようにしたライン型照明装置を提供する。
【解決手段】このライン型照明装置は、光源として面発光ＬＥＤ３２を用い、この発光面を囲むように、内面を光反射率の高い材料で形成された筒状ミラー４０を配置し、光ファイバー束５０の基端部を筒状ミラー４０に挿入し、光ファイバー束５０の先端部は線状に配列して保持させ、この先端部に導光板７０の一側面を配置し、導光板７０の他側面からライン光を出射させるように構成されている。 （もっと読む）

【課題】微細な特徴を有する対象物を検査するための照明装置と照明方法を提供する。
【解決手段】照明装置は、照明角度を定める角度により特定される照明の立体角を与える照明部を備え、この照明角度は使用者により実行可能な連続する範囲から選択される。この照明装置は更に照明部により照明が行われる対象物を検査する対象物検査部を備える。この照明部は照明光源と、光収束部と、照明角度選択部とを備えてもよく、これらは照明光源と対象物検査部の間の光路に沿って配置される。照明角度選択部には第１と第２の位置があってよく、第１の位置では直接反射光は対物面に向かって伝播し、第２の位置では照明角度選択部により選択された光も対物面から直接反射する光も集光レンズに入射しない。むしろ、第２の位置では、対物面から散乱する光だけが集光レンズに入射する。 （もっと読む）