【課題】小型化を実現できるとともに、被検査基板に対し精度の高い欠陥検査を効率よく行なうこと。
【解決手段】矩形状の被検査基板を保持する基板ホルダを水平な状態から目視観察する所定の角度に立ち上げ、この状態で被検査基板の上方からマクロ照明光を被検査基板上面に照射し、かつレーザー光源から出射されたレーザー光を光路分割手段によりＸ方向とＹ方向とに分割し、これら分割された各レーザー光をそれぞれＸ方向とＹ方向との各ガイド部材にそれぞれ移動可能に設けられた２つの反射体により被検査基板側に反射し、２つの反射体をそれぞれＸ方向とＹ方向とに移動させ、これら反射体でそれぞれ反射して被検査基板上の欠陥部に各レーザー光を一致させたときの各反射体のＸ方向とＹ方向への各変位量から位置座標検出部によって欠陥部の位置座標を検出する。 （もっと読む）

【課題】 ＲＧＢの３色の蛍光体が塗布された試料を検査する場合には、Ｒ、Ｇ、Ｂそれぞれの単色を検査するための光学系を使用する必要がある。しかし、単色毎に検査すると検査に時間が多くかかった。また３色を同時に検査するためには、３つの光学系が必要となり、検査装置が大きくなる要因となり、製作コストも高かった。本発明は、検査時間の短く、かつ小型の蛍光体検査装置を提供する。
【解決手段】 分散プリズムを通し、分光した光をラインセンサに取込み処理することにより、１つの光学系で、かつ、一度に、Ｒ、Ｇ、Ｂ３色の蛍光体のミクロ検査とマクロ検査を行う。 （もっと読む）

【課題】 フラットディスプレイパネルの従来の検査装置は撮像カメラ、画像処理装置、ＸＹステージなど、または、ポインターを投影する装置などが必要なため大がかりで高価である。またフラットディスプレイパネルが大型になるほどＸＹステージが大型化して高価になるうえ、機械的精度を維持するのが難しくなる。
【解決手段】 検査すべきフラットディスプレイパネル１２にデジタルドットパターンシート１４を重ねて載せ、フラットディスプレイパネル１２の点灯時または消灯時に見られる欠陥４１をデジタルドットパターンシート１４を通して目視で検出し、フラットディスプレイパネル１２の欠陥４１または欠陥４１の周囲に対応するデジタルドットパターンシート１４上の位置をデジタルペン４２で押圧して欠陥４１の位置情報、形状情報を入力し、入力した情報を制御コンピューター４３に送信し記憶させる。 （もっと読む）

【課題】大型のフォトマスクやガラス基板を高速で欠陥検査できる欠陥検査装置を提供する。
【解決手段】断面がほぼ楕円形をした走査ビームを発生する走査ビーム発生装置１０，１１，１２と、入射する走査ビームの楕円形断面の長軸と平行な回転軸線及び当該回転軸線のまわりで回転する１個又は複数個の反射面を有し、入射する走査ビームを周期的に偏向するビーム偏向装置１５と、ビーム偏向装置から出射した走査ビームを集束して検査すべき試料に向けて投射する対物レンズ２０と、走査ビーム発生装置とビーム偏向装置との間の光路中に配置した微分干渉光学系１４と、複数の受光素子を有し、 前記試料表面で反射し、前記対物レンズ、ビーム偏向装置及び微分干渉光学系を介して入射する試料表面からの反射光を受光する光検出手段２２〜２７と、光検出手段からの出力信号に基づいて欠陥検出信号を発生する信号処理回路とを具える。 （もっと読む）

【課題】 前工程の検査結果を有効に利用して、後工程の検査精度を向上させることのできる自動検査システムを提供する。
【解決手段】 本発明の自動検査システムは、デバイス基板の製造工程の異なる工程中の２箇所以上に配置した自動検査手段と、前記自動検査手段が検出した、デバイス基板の欠陥情報とその位置情報とを、デバイス基板に付された識別コードに対応させて記録する記録手段と、後工程に配置された自動検査手段において検出したデバイス基板の欠陥と、先の工程に配置された自動検査手段における検出情報とを照合する検出情報照合手段とを備える検査システムであって、前記検出情報照合手段が、同一のデバイス基板における同一の欠損であると判断した欠損については、先の自動検査手段の検出情報を参酌する。 （もっと読む）

【課題】物品の外観に生じた様々な欠陥を漏れなく、精度良く検査することができる外観検査装置を提供する。
【解決手段】外観検査装置１０には、透過型暗視野照明２６、反射型暗視野照明２７、透過型明視野照明２８、反射型明視野照明２９の４種の照明が、ＣＣＤエリアセンサ２３と検査するレンズ１６との位置関係を変えずに、それぞれ切り替え可能に設けられる。外観検査装置１０は、４種の照明を切り替えてレンズ１６を撮影し、各々画像を用いて、レンズ１６の表面や内部に生じた欠陥を漏れなく検出し、レンズ１６の良，不良，再検査の何れかに分類する。再検査に分類されたレンズ１６の４種類の画像は、容易に精度良く比較され、レンズ１６の欠陥の有無や程度が精度良く検査される。 （もっと読む）

【課題】自動式光学検査（AOI）の為の改良されたシステムおよび方法、更に、２次元センサを採用する改良された画像化技術および装置を提供する。
【解決手段】非連続の照明を提供する光源と、検査すべき対象物の複数の少なくとも部分的に重なり合う二次元画像フレームを、あるフレーム速度で取得するように動作する二次元の光センサアレイと、前記二次元画像フレームを受信し、検査すべき前記対象物の表現を生成するために重なり合った部分を結合するように、前記表現の検査に基づいて検査すべき前記対象物上の欠陥の報告を提供するよう動作する欠陥分析器と、を備える検査システムであって、前記非連続の照明と、前記フレーム速度とが、概ね同期している、検査システム。 （もっと読む）

【課題】撮像素子の不具合やバラツキ、または照明条件のズレやバラツキを容易に検出し評価できる点灯検査方法、及びこれを用いた液晶表示装置その他の平面表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】ＣＣＤカメラ２及び画像処理機構３を備えた点灯検査装置１０に、解像度チャート・シート１Ａその他のチャートシート１を、液晶表示パネルに代えてセットし、読み取りを行う。初期に得られた「基準データ」における各ＣＣＤ画素の輝度値を保存しておく。そして、定期的に同一のチャートシート１を用いて読み取りを行うことで「再読み取りデータ」を取得し、各ＣＣＤ画素の輝度値が、「基準データ」における対応する値を基準として１０％以内の増減である場合には、該ＣＣＤ画素が正常であると判定する。また、ほぼ同様にして、照明条件が均一であるかどうかの判定を行う。 （もっと読む）

【課題】検査対象の輝度に依存することなく当該検査対象の欠陥を強調することができる欠陥検出方法を提供すること。
【解決手段】本発明に係る欠陥検出方法は、検査対象８を撮像した撮像画像を２次元フーリエ変換して第１のフーリエスペクトルを算出するフーリエ変換ステップと、第１のフーリエスペクトルの直流成分以外の成分に重み付け処理を行って第２のフーリエスペクトルを算出するスペクトル算出ステップと、第２のフーリエスペクトルを２次元逆フーリエ変換し、検査対象８の欠陥を強調した強調画像を作成する逆フーリエ変換ステップと、強調画像を画像処理することにより特徴量を算出する特徴量算出ステップと、算出された特徴量と、予め設定された特徴量の閾値とを比較し、検査対象８が良品か否かを判断する判断ステップとを有する。 （もっと読む）

【課題】表示装置の形状に拘束されることなく、表示装置と撮像装置との相対位置を簡易に算出することができ、この結果、表示装置の表示方向と撮像装置の撮像方向とが一致するように両者の相対位置を調整する作業も簡易に実行することを課題とする。
【解決手段】撮像装置によって同一の撮像方向から焦点が異なる複数の態様で表示装置の表示面を撮像して得られた複数の画像から、表示面に設定された複数の領域に対して焦点が適合している画像を複数の領域ごとに検索し、検索された複数の画像を用いて、実空間における複数の領域それぞれの位置を算出し、当該位置から表示装置における表示方向と撮像装置における撮像方向との相対位置を算出し、算出された表示方向と撮像方向との相対位置を用いて、前記表示方向と撮像方向が一致するように表示装置と撮像装置との相対位置を調整する。 （もっと読む）

【課題】連続的にピッチが変化する繰り返しパターンを持つ電極に対して、従来方法でも検出できていた欠陥はもとより、従来方法では見逃していたあらゆる形態の欠陥についても、安定して確実に検出することができる電極検査方法を提供する。
【解決手段】連続的にピッチが変化する繰り返しパターンを持つ電極に対して、ピッチを規定する情報をピッチテーブルメモリに記憶し、ピッチテーブルメモリからピッチ情報を読み出し、そのピッチ情報を基に撮像画像における電極の繰り返しピッチだけ離れた画素の濃度をＦＩＦＯメモリに記憶し、ＦＩＦＯメモリから読み出された画素濃度をサブピクセル処理し、さらに繰り返しピッチの小数部分に対応する画素濃度を求めるサブピクセル処理をし、それらのサブピクセル処理により得られた画素濃度を基にして繰り返しピッチ離れた画素を比較処理し、その比較結果から欠陥部を抽出する。 （もっと読む）

【課題】検出したい欠陥を効率的に検出することのできる検査レシピを容易に特定することのできる技術を提供すること。
【解決手段】欠陥検査装置１１０は、複数の検査レシピで一の基板の欠陥検査を行い、検査レシピ毎に、基板における欠陥の位置、および、当該欠陥の特徴量、を対応させた欠陥情報を生成し、レビュー装置１２０は、欠陥情報に含まれている欠陥のうちから選択された欠陥について、選択された欠陥の種別を特定するレビュー結果情報を生成し、解析装置１３０は、欠陥情報と、レビュー結果情報と、を取得し、解析を行う欠陥の種別に対応する欠陥が有する特徴量に類似する特徴量を備える欠陥の個数を検査レシピ毎に集計する。 （もっと読む）

【課題】簡単な構成で、透明な被検査物の表面と内部の両方を同時に検査することができる透明物の検査装置及び検査方法を提供する。
【解決手段】（ａ）透明な被検査物２の表面２ａに斜め方向から光束１５ａを照射し、照射位置１５ｓを線状に移動させる発光部１４と、（ｂ）被検査物２に関して発光部１４と同じ側において照射位置１５ｓに対向して線状に延在する受光窓１６ｓを有し、受光窓１６ｓを通った光束成分の強度を検出する受光部と、（ｃ）受光部が検出した光束成分の強度に基づいて被検査物の良否判定を行う判定部と、を備える。受光窓１６ｓは、光束成分として、光束１５ａが照射位置１５ｓにおいて被検査物２の表面２ａで正反射された正反射光成分１５ｂと、光束１５ａが照射位置１５ｓで被検査物２の内部に入射し、裏面２ｂで反射した後、表面２ａから出射した内部反射成分１５ｅとの両方が同時に通るように、広げて形成されている。 （もっと読む）

【課題】ウェハの良否を的確に判断するための検査方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る検査方法は、加工工程の途中でウェハに対して行う検査方法であって、ウェハの周縁部近傍で異物の材質を分析する分析工程（ステップＳ１０１）と、分析工程における分析の結果に基づいて、異物が分析工程以降の加工工程に影響を与えるか否かを判断する判断工程（ステップＳ１０２）とを有している。 （もっと読む）

【課題】作業効率を向上し、検査の高速化を図ることができる蛍光体検査装置を提供する。
【解決手段】従来の蛍光体検査装置と蛍光体印刷ずれ検査装置を一体化し、前段の蛍光体検査の検出結果を後段の蛍光体印刷ずれ検査において共有する。そして、検出された欠陥位置にカラーカメラを移動させ、自動的に欠陥位置の画像を撮像しモニタに表示する。このようにすることで、従来人手でガラス基板をラインから取り出し、欠陥を目視確認して最終判断を行っていた工程を省き、インラインでの最終判定を可能とする。 （もっと読む）

【課題】インクジェットカラーフィルタのインク吐出ヘッドノズルのインク吐出量調整用データを高速に取得することと、生産時、検査装置にて常時ムラ状態を監視すること。
【解決手段】ラインカメラを用いた、インクジェットカラーフィルタのインク吐出ヘッドノズルのインク吐出量調整用データの高速取得方法および、インライン計測検査システムであって、インライン検査時にインクジェットカラーフィルタに対し、画素内の測定対象平均輝度データを算出し、条件出し時には、このデータを基に塗工装置にフィードバックをかけ、通常生産時には通常検査と併用し同輝度データをサンプリングすることで、塗工装置ヘッドノズルの状態を監視、ムラ異常を検出する。 （もっと読む）

【課題】放射状に生じる直線状の欠陥を検出できる画像処理検査装置を提供する。
【解決手段】画像処理検査装置の演算部１４３は、検査領域に対応する画像データを取得する取得部２０３と、画像データを直交座標系から極座標系のデータに変換する極座標変換部２０４と、半径方向の直線を強調するフィルタ処理を実行するフィルタ処理部２０６と、半径方向に表示される直線の平滑化を行なう平滑化処理部２０８と、２値化基準に基づいて平滑化された画像データの２値化処理を行なう２値化処理部２１０と、２値化処理された画像データから、抽出基準を満足する画像データを欠陥の候補として抽出する抽出部２１２と、極座標系のデータを直交座標系に変換する直交座標変換部２１４と、直交座標系のデータに基づいて欠陥の候補の特徴量を算出する算出部２１６と、判定基準と特徴量とに基づいて欠陥の候補が欠陥であるか否かを判定する欠陥判定部２１８とを含む。 （もっと読む）

【課題】試料の表面の欠陥検査に加えて試料の裏面の欠陥検査も行なえること。
【解決手段】表面照明手段の基板に対する光照射角度及び表面撮像手段の基板に対する撮像角度の少なくとも一方を変更可能とした基板の表面を検査するための表面検査部と、基板の裏面を開放して保持し、一軸方向に基板を移動する基板の裏面検査用の移動手段を有し、裏面照明手段の基板に対する光照射角度及び裏面撮像手段の基板に対する撮像角度の少なくとも一方を変更可能とした基板の裏面を検査するための裏面検査部と、表面検査部及び裏面検査部で得られた基板の表面と裏面の画像データを処理する制御部とを備える。 （もっと読む）

【課題】欠陥修正工程の作業効率を向上させ、タクトタイムの短縮を実現する。
【解決手段】基板上に形成された多層構造の配線パターンにおける欠陥を検査し、検出された欠陥をレーザ光を用いて修正する際、検査対象箇所を撮影した欠陥画像と、欠陥のない参照画像とを照合して欠陥を検出し、入力部から入力される指示内容に基づいて、検出された欠陥に対してレーザ光が照射される加工位置及び加工範囲を指定する。そして、指定された加工位置及び加工範囲に基づいて、修正機構部により欠陥の修正を実行することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】周期性パターンのムラを安定的、高精度に撮像、検出可能な周期性パターンムラ検査装置を提供する。
【解決手段】検査対象基板が持つ周期性パターンのムラの検査装置であって、検査対象基板を載置しＸ軸方向及びＹ軸方向にそれぞれ移動させる移動機構とその移動量及び現在位置の検知機構を備えたＸＹステージと、検査対象基板の周期性パターンに略平行光かつ斜め透過光の照明を個別に行う複数光源と、検査対象基板に対して平行な二次元平面内で、前記光源の各々を個別に移動させる光源移動手段と、光源の各々の向きを個別に変えられる光源角度調整手段と、ＸＹステージを挟んで光源の反対側に配置され、斜め透過光照明された周期性パターンからの回折光を撮像するラインセンサカメラを用いた撮像手段と、前記ＸＹステージ、光源、光源移動手段、光源角度調整手段、撮像手段の動作の制御と、検査画像への画像処理を行う、処理手段を備える。 （もっと読む）