【課題】ガラス基板を移動させながら欠陥の検査を行う要請にも簡易な装置構成で応じつつ、ガラス基板の辺に過度な応力集中を生じさせることなく、ガラス基板の撓みを矯正して欠陥の検出精度を向上させる。
【解決手段】縦姿勢のガラス基板Ｇを欠陥検知手段３に対してガラス基板Ｇの幅方向に相対移動させることにより、ガラス基板Ｇに対して欠陥検知手段３を走査してガラス基板Ｇに含まれる欠陥の有無を検査するガラス基板検査装置１であって、ガラス基板Ｇの上辺を把持する上部把持手段４と、ガラス基板Ｇの下辺を把持する下部把持手段５とを備え、上部把持手段４と下部把持手段５による把持のみでガラス基板Ｇを保持するとともに、上部把持手段４と下部把持手段５とを離反させて、ガラス基板Ｇに対して上下方向に張力を付与した状態で、ガラス基板Ｇを欠陥検知手段３に向けて幅方向に移動させる。 （もっと読む）

【課題】ライン状の検査領域上にて薄板状の基板を平らに保持し、高精度な検査を行う。
【解決手段】基板Ａのライン状の検査領域Ｂを検査する検査ヘッド２と、検査領域Ｂを挟んで隣接する２箇所の直線状の領域において、基板Ａの表裏両面に対向する加圧流体Ｃを同時に吹き付ける基板支持部３とを備える基板検査装置１を提供する。 （もっと読む）

【課題】表示デバイスの線状欠陥評価を精度良く行うことができる表示欠陥評価方法を提供すること。
【解決手段】線状欠陥検出方法は、表示デバイスの撮像画像を取得する撮像画像取得処理工程Ｓ１と、撮像画像に検査対象領域を設定する検査領域設定処理工程Ｓ２と、撮像画像から高周波成分と線状欠陥成分を除去した差分画像を作成して撮像画像から差分する差分処理工程Ｓ３と、差分処理画像から高周波成分を除去する平滑化処理工程Ｓ４と、平滑化処理画像で各ピクセルの輝度データを縦方向および横方向に積算し、各方向のプロファイルデータを作成する１次元積算処理工程Ｓ５と、各プロファイルデータに対して移動平均処理を行う移動平均処理工程Ｓ６と、移動平均処理後のプロファイルデータから隣接する各ピクセルのデータの差分値を求め、差分値と閾値とを比較して変化が大きい箇所を抽出して線状欠陥として検出する欠陥検出処理工程Ｓ７とを有する。 （もっと読む）

【課題】基板浮上機構の組み付け工数を減らし、精密な加工を含めた装置全体の価格を削減することができる基板浮上機構の取り付けおよび高さ調整機構を提供すること。
【解決手段】空気の吹き出し及び吸引によって基板２を一定の高さに浮上維持する基盤浮上機構３と、前記基板浮上機構３の高さを個別に調整する高さ位置調整機構４と、前記基板浮上機構４の一側面からはみ出した前記基板５の片端部を固定する基板把持機構５と前記基板浮上機構３の一側面と隣接して設けられ、前記基板把持機構５を介して前記基板２を搬送方向Ｘに沿った方向に搬送する基板搬送機構６と、前記基板浮上機構３へ空気の供給および前記基板浮上機構３からの空気の吸引を行う浮上制御部Ａと、前記基板２の表面検査を行う検査部Ｂを備える。 （もっと読む）

【課題】外乱を防止する画像採取装置、及び試料検査装置を提供することにある。特に、宇宙線などの放射線を遮断する画像採取装置、及び試料検査装置を提供すること。
【解決手段】パターンを有する試料に照射する光源と、光源から試料に照射した光を受光して、パターン画像を採取するセンサと、センサ前方に配置され、光路を曲げる光路変更体と、光路を包囲し、センサに入射する放射線を遮蔽する遮蔽体と、を備える、画像採取装置、及び試料検査装置。 （もっと読む）

【目的】参照画像生成モデルの精度をより向上させることが可能なパターン検査方法を提供することを目的とする。
【構成】本発明の一態様のパターン検査方法は、サンプル光学画像データと設計画像データを入力し、参照画像作成モデル関数の複数の係数を取得する工程（Ｓ１０２）と、複数の係数の１つを用いて作成された参照画像データと被検査試料の実光学画像データとを比較して、欠陥候補パターンを検出する工程（Ｓ１０８）と、欠陥候補パターンを含む参照画像データについて、残りの係数を用いて、作成された残りの係数分の参照画像データと欠陥候補パターンを含む実光学画像データとを比較する工程（Ｓ１１２）と、複数の係数分の各参照画像データと欠陥候補パターンを含む実光学画像データとの複数の比較結果のうち、所定の条件に沿った比較結果を出力する工程（Ｓ１２０）と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】大型サイズのガラス板のような透明板状体であっても、安定しかつ正確に、気泡や異物等の欠陥を検出する。
【解決手段】欠陥検出装置は、透明板状体の内部を照明する照明光源ユニットと、透明板状体の対向する上面及び下面の少なくとも一方の面の側に設けられ、透明板状体を撮影する、直列状に配列した複数の撮影カメラを有する撮影カメラユニットと、撮影カメラから出力された受光信号を用いて透明板状体の欠陥を検出する検出器と、を有する。直列状に配列した複数の撮影カメラの、少なくとも両側に位置する撮影カメラには、光強度を減らす減光フィルタが設けられている。透明板状体と撮影カメラとを相対的に移動させて透明板状体を撮影する。 （もっと読む）

【課題】配線間の底部のショートに対する検査感度を向上させ、微細化されたパターンであり、平行に並んだ複数の配線間の底部におけるパターンショートであっても検出可能な欠陥検査方法を実現する。
【解決手段】欠陥検出を行なう被対象物である試料に照射する光の偏光（アルファ）（ｓ偏光からの角度（アルファ））を、試料の回路パターンの条件、照射光の方位角及び入射角を所定の計算式に代入して算出する。偏光（アルファ）は、ｐ偏光とｓ偏光との間にある。算出した偏光（アルファ）の光を試料に照射して欠陥を検査する。これにより、配線間の底部のショートに対する検査感度を向上させ、微細化されたパターンであり、平行に並んだ複数の配線間の底部におけるパターンショートであっても検出可能な欠陥検査方法を実現することができる。 （もっと読む）

【課題】液晶パネル、プラズマディスプレイ、半導体ウェハ等などの繰返しパターンが形成されている検査対象物の欠陥検査を精度良く、しかも、非検査領域が存在しない検査方法を提供すること。
【解決手段】注目画素と代表的な繰返しピッチ分だけ離れた比較画素群の輝度を比較演算する比較演算処理と、注目画素と代表的な繰返しピッチから微小画素数分だけ離れた場所における輝度を比較演算する比較演算を並列で行う、繰返しパターンを有する基板の検査方法。 （もっと読む）

【課題】電子部品の微細な部分に対し、迅速かつ正確な検査を行うことのできる、優れた検査方法と、それに用いられる装置を提供する。
【解決手段】電子部品をステージ上に載置し、微分干渉顕微鏡４４とＣＣＤカメラ４５を組み合わせてなる撮像手段４０を、Ｘ方向移動手段４６によって移動させて位置決めし、初回に検査する電子部品に対しては、上記微分干渉顕微鏡４４の対物レンズを、Ｚ方向調整手段４７によって進退させて複数の画像を連続的に撮像し、その画像データから最適焦点距離を算出してピント合わせを行った後撮像し、次回以降の電子部品に対しては、前回以前に記憶された最適焦点距離から導出される予測最適焦点距離にしたがい自動的にピント合わせを行った後撮像し、得られた画像データから、その撮像部位の良否を検査するようにした。 （もっと読む）

【課題】基板の目視検査を簡単な構成により効果的に支援して目視検査の効率化を図る。
【解決手段】本発明の目視検査支援装置１は、基板Ｐ上の部品を撮像する撮像手段（５０）と、実装状態が良好な部品についてあらかじめ撮像された画像を良品画像Ｇ２として記憶する記憶手段（６７）と、上記撮像手段（５０）により撮像された複数の部品の画像Ｇ１を、各部品に対応した良品画像Ｇ２とそれぞれペアにして一画面にまとめて表示する表示手段（４）とを備える。 （もっと読む）

【課題】撮像条件、照明条件、周期性パターンの設計条件などの影響をできる限り排除した欠陥検査方法を提供する。
【解決手段】周期性パターンを有する被検査体のスジ状ムラを検出するための欠陥検査方法であって、被検査体に光源からの照射で生じる回折光の強度分布の取得を複数の照明角度で行い、各照明角度における回折光の強度分布を検査画像として取得された被検査体への照明角度が異なる複数枚の検査画像に対し、照明角度の異なる複数の検査画像を比較し、被検査体への照射角度に応じて位置が変化するスジ状ムラと変化しないスジ状ムラとを抽出し、変化するスジ状ムラを検査の際に欠陥としない擬似欠陥とし、変化しないスジ状ムラを検査の際に欠陥として選別されたスジ状ムラに対し、それぞれの最大輝度とパターンピッチ正規化面積に基づいて欠陥規模の評価を行う欠陥検査方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】同一の基本パターンが２次元方向に反復するように形成された試料上を、撮像ユニットで２次元走査して主走査方向に並んでいない複数の基本パターンを撮像し、これら基本パターンの１つを撮像した撮像画像である検査画像と、他の基本パターンを撮像した撮像画像から得られる参照画像との間を比較する際に、これら基本パターンを同じ方向に向かって走査するために生じる検査効率の低下を緩和する。
【解決手段】連続して行われる２回の主走査が互いに反対方向に行われるように試料と撮像ユニットとを相対移動させ、互いに反対方向に行われる主走査で得られる参照画像が異なる記憶領域に記憶されるように参照画像を所定の記憶回路（２１ａ、２１ｂ）に記憶し、ある主走査で得られる検査画像をその前に同じ方向に向かって行われた他の主走査によって得られた参照画像と比較する。 （もっと読む）

【目的】回転位相板及び四分割ミラーを用いずにインコヒーレント化する照明装置を搭載したパターン欠陥検査装置を提供することを目的とする。
【構成】本発明の一態様のパターン欠陥検査装置１００は、基本波を発光する光源１４０と、基本波を、基本波の偏向状態を維持した第１と第２の分波に分岐し、第１の分波と第２の分波とを同一光路長で合成する光学系１４２と、第１の分波の光路上に配置され、第１の分波の偏向面と第２の分波の偏向面とが直交するように第１の分波を偏向するλ／２波長板３０と、光学系１４２により合成された合成波をパターンが形成された被検査対象に照射する光学系１４４と、被検査対象を載置するＸＹθテーブル１０２と、を備えたことを特徴とする。本発明によれば、回転位相板及び四分割ミラーを用いずにインコヒーレント化された照明光を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】液晶表示装置用の基板に付着した異物を、その大きさと導電性との２つの観点から検査する方法および装置を提供する。
【解決手段】液晶表示装置用の基板に付着した金属元素含有異物の有無を検査する方法であって、前記基板に付着した異物の大きさと位置とを検出する第１検査ステップと、第１検査ステップで検出された位置に位置合わせして、その異物が金属元素を含有するか否かについて検査する第２検査ステップとを備えることを特徴とする検査方法。 （もっと読む）

【課題】検査対象板の欠陥の検査において、検査時間の大幅な短縮化を図る。
【解決手段】複数の検査対象板を連続的に検査する検査部と、当該検査部を制御すると共に欠陥が見つかった場合に少なくともその欠陥の位置情報を蓄積する制御コンピュータと、前記欠陥情報をその欠陥を有する検査対象板の検査時に同時に表示する欠陥情報表示部とを備えて構成した。これにより、欠陥が見つかった場合に、少なくともその欠陥の位置情報をその欠陥を有する検査対象板の検査時に同時に表示して、その欠陥情報を基に次の検査対象板に対して同じ欠陥が発生すると予想し、そこに重点を置いて検査する。 （もっと読む）

【課題】
欠陥の種類に応じて散乱光分布が変化する。このため、検査対象欠陥の散乱光が強い領域を暗視野検出光学系にて捕捉することにより検出感度の高い欠陥検査方法とその装置を提供する。
【解決手段】
検査対象欠陥の散乱光が強い領域が暗視野検出系の開口部と重なるように照明光の方位を選択可能とし、且つ欠陥検出上のノイズとなるパターン正反射光と暗視野検出系の開口部が重ならないことを両立する欠陥検出技術である。 （もっと読む）

【課題】基板搬送時に振動が発生しても、基板の検査精度の低下を防止できる基板検査装置を提供する。
【解決手段】被検査基板を一方向に搬送する搬送部、搬送される被検査基板の１次元画像を取得する撮像部、被検査基板を一方向に搬送しながら撮像部により取得された複数の１次元画像を合成して２次元画像を生成する画像生成部と、生成された２次元画像のラインプロファイルから、被検査基板の振動の位相を抽出する位相抽出部と、欠陥のない基準基板を撮影して取得された振動の位相が異なる２次元画像を、振動の位相と関連付けて複数枚記憶する記憶部と、記憶された２次元画像の中から、位相抽出部により抽出された振動の位相に近い位相に関連付けられている画像を基準画像として選択する画像選択部と、画像選択部により選択された基準基板の基準画像と被検査基板の画像とを比較し、被検査基板の表面状態を検査する検査部とを備える基板検査装置を採用する。 （もっと読む）

本発明は、暗視野検査装置に関するものであって、本発明に係る暗視野検査装置は、ベース上の被検査体側に光を照射する照明部と、前記被検査体によって反射されて入射される光または前記ベースを透過して入射される光を前記被検査体側にさらに反射する反射部と、前記被検査体によって散乱された光を受光して、前記被検査体を撮像する撮像部とを備え、前記照明部から照射された光のうちの一部は、前記被検査体によって散乱されて前記撮像部に入射され、前記照明部から照射された光のうちの他の一部は、前記反射部に入射され、前記反射部によって前記被検査体側にさらに反射された光は、前記被検査体によって散乱されて前記撮像部に入射されるように、前記照明部、前記反射部、及び前記撮像部が配置されることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基板パターンの何れか一辺が搬送方向と平行となっている基板の回折光観察において、合焦不良欠陥などの観察方向によって欠陥検出感度が不安定である欠陥に対して、欠陥検出感度を向上させるための基板検査装置および基板検査プログラムを提供すること。
【解決手段】繰返しパターンが表面に形成された基板を搬送する手段と、搬送された基板に対して線状の照明光を照射する手段と、照明された基板の線状領域の画像を撮像する手段と、照射される照明光の照射方向を、搬送される基板の搬送方向と一致する第１の方向と、搬送方向に対して所定の角度を有する第２の方向とで切替える手段と、繰り返しパターンの縦横サイズが縦方向と横方向とで異なる長さである場合、照射方向を第２の方向に切替え、縦横サイズの短い方から発生する回折光が取り込めるように、照射する照明光の照明角度と撮像するための撮像角度とを調整する手段とを備える。 （もっと読む）