【課題】目視観察用のモニター装置を用いて、大型基板上の欠陥部位を観察するに当たり、当該部位が該モニター画面上のどこにあるのか容易に認識できる手段及びこの手段を備える目視検査システムを提供する。
【解決手段】自動欠陥検査装置で取得したパターンの欠陥に関する情報を欠陥情報データベースに蓄積する手段と、目視検査装置で取得したパターンの欠陥に関する情報を欠陥情報データベースに蓄積する手段と、蓄積された前記パターンの欠陥に関する情報を目視検査支援システムに備わるモニター装置で閲覧する手段と、被検査基板上に形成されたパターンの撮像映像を目視検査装置に備わるモニター装置に表示する手段と、被検査基板上に形成されたパターンの欠陥部位を、前記欠陥情報データベースに蓄積された情報に基づいて、レーザポインタにより照射する手段と、を備えることを特徴とする目視検査システム。 （もっと読む）

【課題】精度よく色ムラを測定する色ムラ測定方法、および色ムラ測定装置を提供する。
【解決手段】色ムラ測定方法は、プロジェクタ２の表示領域に測位用画像を表示させる測位用画像表示工程と、測位用画像を撮像装置３により撮像させる測位用画像撮像工程と、測位用撮像画像データに基づいて測定点の座標位置を設定する測定座標設定工程と、プロジェクタ２の表示領域に色ムラ測定用画像を表示させる色ムラ測定用画像表示工程と、色ムラ測定用画像の明るさに対する撮像装置３のホワイトバランスを設定する撮像設定工程と、色ムラ測定用画像表示工程により表示される色ムラ測定用画像を撮像する色ムラ測定用画像撮像工程と、色ムラ測定用撮像画像データ内の測定座標の色度を測定する色度測定工程と、測定された色度に基づいて、色ムラを測定する色ムラ測定工程と、を具備した。 （もっと読む）

【課題】精度よく色ムラを測定する色ムラ測定方法、および色ムラ測定装置を提供する。
【解決手段】色ムラ測定方法は、プロジェクタ２にカラーパターン画像を表示させ、このカラーパターン画像を撮像装置３により撮像させ、このカラーパターン画像の画像中心の基準色度を基準色度測定器４により測定し、撮像により得られるカラーパターン撮像画像データの画像中心の測定色度を測定し、基準色度および測定色度に基づいて色度変換補正係数を算出し、プロジェクタ２に色ムラ測定用画像を表示させ、表示された色ムラ測定用画像を撮像し、色ムラ測定用撮像画像データ内の測定位置の色度を測定し、測定された色度を色度変換補正係数により補正し、補正された色度に基づいて、色ムラを測定する。 （もっと読む）

【課題】ノッチ部を精度良く検査できる周部検査装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る周部検査装置は、周部にノッチ部１４が形成されたウェハ１０を保持する保持部と、ウェハ１０の周部を撮像可能な撮像部９０とを備え、撮像部９０により撮像されたウェハ１０の周部の画像を用いてウェハ１０の表面検査を行うように構成され、保持部に保持されたウェハ１０と撮像部９０とを撮像部９０の光軸方向に沿って相対移動させる駆動部と、撮像部９０の光軸上にノッチ部１４を位置させた状態で、駆動部により相対移動させながら撮像部９０により撮像したノッチ部１４を含んだ複数の画像について、それぞれの画像の画素毎に信号強度を求めるとともに複数の画像における同じ画素同士の信号強度を比較して、信号強度が最大となる画素を抽出し、抽出された複数の画素の画像を対応する画素位置に並べて合成しノッチ部１４の検査用画像を生成する画像処理部とを有する。 （もっと読む）

【課題】簡易かつ安価に比較的広い範囲にわたってシャー量を調節する。
【解決手段】試料３に照射する光を発する光源７と、光源７からの光を２つの光路に分岐して試料３の異なる場所に照射する照明光学系１０と、照明光学系１０により試料３に照射された光の反射光を合成して得られた干渉光を撮影する撮影光学系２０とを備え、照明光学系１０が、光源７からの光を２つの光路に分岐して第１の偏光光１５Ａを反射し第２の偏光光１５Ｂを透過する光路分岐部１６と、光路分岐部１６を透過した第２の偏光光１５Ｂを光路分岐部１６によって反射された第２の偏光光１５Ｂに対して平行な方向に反射する第１のミラー１７と、第１のミラー１７と光路分岐部１６との相対距離を調節する間隔調整機構とを備える微分干渉型検査装置１を提供する。 （もっと読む）

【課題】検査の所要時間を短縮して全数検査を可能とし、塗布装置１２〜露光装置１３間の搬送系に設けるカラーフィルタ表面検査機を提供する。
【解決手段】搬送コロ５３を用いた搬送路からカラーフィルタ表面検査機４０へのガラス基板１の受け入れ、カラーフィルタ表面検査機から搬送路へのガラス基板の受け渡しに、カラーフィルタ表面検査機内に設けられた搬送コロ３３を用いる。搬送コロはコロユニット３０に備え、検査の際は搬送路外に退避する。複数基の撮像カメラ４４を備え、ガラス基板の有効エリア１ａを分割して同時に撮像する。 （もっと読む）

【課題】一部の良品パターン情報のみで、検査基板のパターンずれの検出を可能とし、検査領域全面の予測位置情報も必要なく、必要最小限の情報量に抑えることが可能な欠陥検査装置および欠陥検査方法を提供すること。
【解決手段】被検査基板を撮像する手段と、撮像した基板画像を取り込む手段と、取り込んだ基板画像を検査画像として記憶する手段と、記憶された検査画像の一部を取り出し、パターンマッチング用の参照画像として設定し、検査条件を設定する手段と、設定された参照画像および設定条件を記憶する手段と、記憶された検査画像と参照画像とを用いてパターンマッチングを行う手段と、パターンマッチングの結果、検査画像と参照画像とのずれ量を算出する手段と、算出されたずれ量を示す情報を表示する手段とを備える。 （もっと読む）

【課題】パターンの形状を高精度で測定可能な検査方法を提供する。
【解決手段】この検査方法は、ホール径が既知の基準パターンを有する基準ウェハの表面に、三原色の波長を含む照明光を照射するステップ（ステップＳ１０２）と、照明光が照射された基準パターンからの光を受光するとともに、当該光を受光した光学系の瞳面の像を検出するステップ（ステップＳ１０３）と、前のステップで検出した瞳面の像における三原色のうち二色（ＲおよびＧ）に関する輝度情報および、基準パターンのホール径のデータから、二色（ＲおよびＧ）に関する輝度情報と基準パターンのホール径との相関を示す近似曲面の式を求めるステップ（ステップＳ１０６）と、求めた近似曲面の式を用いて検査対象ウェハの検査を行うステップ（ステップＳ１０７〜Ｓ１１０）とを有している。 （もっと読む）

【課題】検査対象を撮像して検査する場合の検査の高速化を図る。
【解決手段】ラインセンサカメラ６を、液晶パネル９に対して、矢符Ａ１に示すように正方向に移動させて液晶パネル９を撮像し、矢符Ｂ１に示すようにライン幅方向にずらし、矢符Ａ２に示すように逆方向に移動させて液晶パネル９を撮像し、以下同様にラインセンサカメラ６を、正方向および逆方向に移動させて液晶パネル９を１ライン分ずつ撮像する。正方向に移動させて撮像した画像３０と、逆方向に移動させて撮像した画像３１とは、上下が反転するので、正逆方向判別部１７でいずれの方向であるかを判別し、画像処理部１８では、テンプレート画像１９を、判別された方向に応じて、反転処理し、あるいは、反転処理することなく、マッチングを行い、更に、欠陥を検査する。 （もっと読む）

【課題】繰り返しパターンの異常の原因を特定することが可能な評価装置を提供する。
【解決手段】評価装置１が、所定の繰り返しパターンを有するウェハ１０の表面に直線偏光Ｌ１を照射する照明系３０と、直線偏光Ｌ１が照射された繰り返しパターンからの正反射光である楕円偏光Ｌ２の偏光状態を検出する受光系４０と、受光系４０により検出された楕円偏光Ｌ２の偏光状態に基づいて、繰り返しパターンの形状を評価する画像処理部５０とを備えて構成される。 （もっと読む）

【課題】基板検査装置において、装置の大型化及び基板の破損を防ぐと共に、透過照明による検査を有効に行う。
【解決手段】基板（Ｇ）にエアを吐出する浮上ステージ２と、１軸方向（Ｘ軸方向）に移動する門型のガントリ３と、このガントリ３に沿って、このガントリ３の移動方向（Ｘ軸方向）と交差する方向（Ｙ軸方向）に移動する検査部（４）と、を備える基板検査装置１において、浮上ステージ２内に配置された複数の透過照明部５と、基板（Ｇ）の被検査部分が複数の透過照明部５のいずれかの上方に位置するように基板（Ｇ）を搬送する基板搬送部６と、を備える構成とする。 （もっと読む）

【課題】基板浮上装置、基板検査装置及び基板検査方法において、簡単な構成で確実にガラス基板の浮上状態を検知する。
【解決手段】基板（Ｇ）に対しエアを吐出するステージ部２と、基板（Ｇ）の浮上状態を、基板（Ｇ）に接触することで検知する検知部（３）と、を備える構成とする。好ましくは、検知部（３）は、ステージ部２の上部に配置される構成とする。 （もっと読む）

【課題】高い照度から低い照度まで連続的に広い範囲で照度を設定でき、かつ高精度で照度をＦＢ制御できる照明用の光源装置を提供すること。
【解決手段】ランプ１からの光は集光鏡２で集光され、開口の大きさを変化させて通過光量を変化させる調光フィルタ３に入射する。調光フィルタ３を通過した光の一部は石英板５により分岐され照度計の受光器６に入射する。石英板５の光出射側には光の透過率が一定の減光フィルタ７が挿入／退避可能に設けられる。制御部２０のＦＢ制御部２１は、受光器６からの信号に基づき調光フィルタ３を回転させて、被照射物１０表面での照度が設定された値になるように制御する。減光フィルタ制御部２２は、低い照度領域で照度を制御する場合、減光フィルタ７を光路に挿入する。これにより低い照度領域で照度を制御する際にも、Ｓ／Ｎ比を低下させることなく、高精度に照度の制御をすることができる。 （もっと読む）

【課題】
半導体デバイス等の製造工程中に発生する微小な異物やパターン欠陥を高解像検出するための深紫外光を光源とする装置において、短波長化による光学系へのダメージを検知して、ダメージ部分を退避する手段と、光学系配置の異常を製造時と比較検知して補正する手段とを備え、被検査対象基板上の欠陥を高速・高感度で安定検査できる装置および方法を提供すること。
【解決手段】
光学系の光路内に照明光の強度，収れん状態を検知する手段を設けて、光学系の異常を検知し、異常箇所が光軸と一致しないように退避する手段と、光学系を調整して製造時の光学条件となるように補正するように構成したことにより、検査装置内の光学系の長寿命化と微小欠陥の安定検出を図った。 （もっと読む）

【課題】
本発明の特徴の１つは、検査装置において測定を行う第１の制御部と、過去の測定データ情報またはマップデータを読み出してデータ処理を行い、マップ上の欠陥位置や測定レシピなどを視覚的に伝えることのできる画面制御表示を並行して行える、第２の制御部を有することである。
【解決手段】
本発明によりウエハ測定中でも過去に検査した測定結果情報の探索，ウエハ上の異物分布の状態，キャリア単位での異物個数確認等が上位ホスト側の不良解析システムを操作することなく検査装置側で容易に実現することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】過剰検出のない高感度検査を行うことの出来るカラーフィルタ検査装置を提供する。
【解決手段】カラーフィルタ基板を支持し移動させるカラーフィルタ基板移動手段と、前記カラーフィルタ基板に対し照明光を照射する照明光照射手段と、前記カラーフィルタ基板からの反射光／透過光を撮像する撮像手段と、前記撮像手段により得られた画像データに対して演算処理を行う画像処理手段とを有し、前記画像処理手段において、以下の［ａ］〜［ｃ］の処理を行うことを特徴とするカラーフィルタ検査装置。
［ａ］注目画素に対して比較画素Ａと比較画素Ｂの２つの比較画素を設定する。
［ｂ］注目画素をＢＭ画素もしくはＲＧＢ画素と判定する。
［ｃ］注目画素の良否を判定する。 （もっと読む）

本発明は、基板（２）の透明な、または鏡のような表面を分析するための分析装置（１）に関し、前記装置は、測定されるべき基板表面に対向して位置決めされるラスタ（１０）と、測定される基板によって変形されるラスタの少なくとも１つの画像を取得するためのビデオカメラ（３）と、ラスタの照明システム（４）と、ビデオカメラ（３）へ接続される画像処理およびデジタル分析手段（５）とを備える。本発明によれば、ビデオカメラ（３）はマトリクスアレイカメラであり、ラスタ（１０）は、矩形形状を有しかつ基板の第１の方向に沿って、かつ基板の最小の広がりに沿って延びる第１のパターン（１０ａ）を有することにおいて二方向性である基板（１１）上に設けられ、第１のパターンは最小の広がりに対して横断方向に周期的であり、かつ第２のパターン（１０ｂ）は第１のパターンに垂直な第２の方向に、かつ基板の最大の広がりに沿って延びる。
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【課題】回折光によるコントラストから正常部と変動部とを精度良く識別する為の画像を取得することによるムラ検査装置における、最適な検査条件設定方法を提供すること。
【解決手段】周期性パターンが形成された基板に照明光を複数の照射角度で斜め照射し、周期性パターンにより生じる回折光を用いて検査するムラ検査装置における検査条件設定方法である。周期性パターンの形状に関する情報を入力する検査対象基板情報入力工程と、位置決め工程と、回折格子方程式による回折光強度ピーク角度算出工程と、回折光の測定を行う際の測定角度範囲を決定する回折光測定角度範囲決定工程と、回折光強度プロファイルを得る回折光強度取得工程と、得られた回折光強度プロファイルと、回折光強度ピーク角度算出工程において得られた回折光角度と回折光次数、照明光波長とを元に、照明光の照射角度、撮像倍率および照明光波長を設定する検査条件設定工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】異物を感度よく検出することができる光学式の異物検出装置およびこれを搭載した処理液塗布装置を提供すること。
【解決手段】ステージ２上に水平状態に載置された被処理基板１と、前記基板１の幅方向に延びるスリット状吐出開口１１ｂを有する処理液供給ノズル１１とを相対的に移動させて処理液供給ノズル１１から帯状に吐出される処理液を、基板１の表面に塗布するように構成される。前記処理液供給ノズル１１の相対移動方向の前方に投光部５と受光部６からなる光透過形センサユニットが搭載されている。前記センサユニットの相対移動方向に沿って複数の検査エリアが設定され、異物の移動方向の履歴を追ってセンサユニットによる受光データを集計することで、異物に対する反応感度を向上させた光学式の異物検出装置が提供される。 （もっと読む）

【課題】基板の不良率を低減すること。
【解決手段】搬送されてきた基板のエッジに接触して基板を位置決めする複数のクランプ機構を備える複数の処理装置が配置された製造ライン上に設けられ、基板に対するクランプ機構ごとの接触位置を記憶する記憶部３３と、基板のエッジに生じた欠陥を検出してその位置を測定する欠陥位置測定部３７と、欠陥位置測定部３７によって測定された基板の欠陥位置と、記憶部３３に記憶されている基板に対する各クランプ機構の接触位置とを比較して、基板の欠陥位置に接触位置が対応するいずれかのクランプ機構を特定する制御部３９とを備えるエッジ検査装置１１を提供する。 （もっと読む）