【課題】二次元画像の欠陥強度を高精度かつ安定に算出することのできる画質検査装置および画質検査方法を提供する。
【解決手段】 ＣＣＤカメラ１から出力されるＲＧＢ撮像画像データは、画質検査装置２に入力される。画質検査装置２は、検査対象となる二次元画像の検査領域に対して後述する補正を行う補正手段２１と、補正手段２１により補正された後の上記二次元画像の反対色成分を取得する反対色成分取得手段２２と、反対色成分取得手段２２により取得された反対色成分を用いて、欠陥候補を抽出する欠陥候補抽出手段２３と、欠陥候補抽出手段２３で抽出された領域について欠陥強度を算出する欠陥強度算出手段２４と、欠陥強度算出手段２４により算出された欠陥強度に基づいて欠陥の有無を判定する判定手段２５と、を備える。 （もっと読む）

【課題】速度にムラのある搬送機構とラインカメラを用いて、周期パターンの欠陥を検出する。
【解決手段】赤、緑、青の蛍光体が塗布されているガラス基板に所定の波長の光源から光を照射する手段と、照射された光にてガラス基板に塗布された赤、緑、青の蛍光体が発光する光に応じた波長帯域の干渉フィルタを具備したラインセンサカメラにより蛍光体からの発光を取り込む手段と、ガラス基板を搬送する機構の搬送スピードに同期して上記ラインセンサカメラの露光時間を自動制御する手段と、搬送速度を変更しても一定の蛍光体発光を取り込んでデータをブロック化する手段と、検出したエッジ位置から差分処理する範囲及びピッチを自動変更する手段とを備えて、輝度ムラや位置ずれに応じた差分検出を行う。。 （もっと読む）

【課題】欠陥を正確に検出し、かつ検査時間の増大を防ぐことが可能な太陽電池セルの外観検査装置を提供する。
【解決手段】太陽電池セルの外観検査装置１０１は、太陽電池セルの電極が形成された基板Ｂを複数の位置に移動する搬送部４と、一列に配列された画素を含み、複数の位置における基板Ｂをそれぞれ撮影する撮影部１と、発光素子１１と、発光素子１１が照射した光を基板Ｂにおける撮影部１の撮影領域に集光する集光レンズ１２と、撮影部１によって撮影された複数の位置における基板Ｂの画像に基づいて太陽電池セルの電極における金属突起を検出する画像処理部３とを備える。 （もっと読む）

【課題】 例えば、測定されたスペクトルが計算されたスペクトルと比較され、スペクトルの計算が、精度の対応する低下を伴わずにより効率的の実行されるリソグラフィプロセスの少なくとも１つのプロセスパラメータを決定する方法を提供することである。
【解決手段】 リソグラフィプロセスでターゲットパターンの構造パラメータを決定する方法で、一連の較正スペクトルが基準パターンから計算される。計算された各スペクトルでスペクトル分析が行われ、スペクトル成分と関連する重みが導出され、ライブラリに記憶され、または反復探索法のベースとして使用される。スペクトルはターゲットパターンから測定され、測定されたスペクトルのスペクトル分析が行われる。構造パラメータを決定するために、主成分の導出された重み係数が測定されたスペクトルの重み係数と比較される。 （もっと読む）

【課題】検査精度を悪化させることなく、作業効率を飛躍的に向上させることができる検査装置を提供する。
【解決手段】ＬＤバーを分離して構成された複数のＬＤチップ１について、その劈開端面の良否を順次検査する検査装置である。複数のＬＤチップを保持する粘着シート３と、粘着シート３と共に移動する載置台２と、ＬＤチップ１を撮影する捕捉カメラ４と、ＬＤチップ１の劈開端面からの反射光を受ける検査カメラ５と、装置各部の動作を制御する制御部とを有する。捕捉カメラ４からの画像に基づいて、載置台２を移動させてＬＤチップ１を最適位置に位置決めし、最適位置のＬＤチップについて、粘着シート３を通過して劈開端面で反射される反射光に基づいて、劈開端面の良否を判定する。 （もっと読む）

【課題】基板表面付近の大気が不安定な雰囲気である場合であっても、精度よく異物の検出を行うことができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板を保持するステージと、ステージに載置されたに塗布液を塗布する塗布ユニットと、発光部と受光部とを有し受光部における受光変化量から異物を検出する異物検出手段と、この異物検出手段とは別に、発光部と受光部とを有し受光部における受光変化量から前記異物検出手段の受光変化量の基準となる基準変化量を計測する基準変化量計測手段とが備えられており、前記異物検出手段の受光変化量と前記基準変化量計測手段の基準変化量との差分から異物の有無を判断するように構成する。 （もっと読む）

【目的】カードの全面を検査可能にする。
【構成】同一の絵柄が複数印刷されたシートを打抜くことによって得られるカードの画像が読み取られる。被検査カード画像と基準画像とが比較されることによって，カード検査が行われる。カード検査に用いられるカード基準画像は，上記カードよりも大きく，許容される打抜きずれの幅を超える余裕幅分，適正な打抜き範囲から外方に拡張している。カードの打抜き時に打抜き位置のずれが生じても，カードの全面を検査することができる。 （もっと読む）

【課題】インクジェット方式により製造されたカラーフィルタの欠陥検査方法において、インクジェットの不吐出に起因するハーフ白抜けを検出するのに最適な方法を提供する。
【解決手段】着色画素表面で反射される光の強弱を画素内インク量の大小と関連付ける。不吐出ヘッドに対応するハーフ白抜け欠陥を有するセルが正常部のセルより高輝度となり、出現箇所がインクジェットの塗布方向に複数個共通な位置座標である場合に、不吐出欠陥として判定する。 （もっと読む）

【課題】
繰り返しパターンと非繰り返しパターンとが混在する被検査対象基板に対して、
微小な異物または欠陥を高速で、しかも高精度に検査できる欠陥検査装置を実現する。
【解決手段】
異物付着防止手段１８０は、透明基板１８７が枠１８５を介して載置台３４の上に設置される。異物付着防止手段１８０はベース１８６上に固定された２本の支柱１８４に回転可能に支持されたシャフト１８１がカップリング１８３でモータ１８２に連結されている。そして、２本に支柱１８４の間で、枠１８５の一部にシャフト１８１が挿入され、枠１８５及び透明基板１８７がシャフト１８１を中心として回動できるように構成されている。つまり、枠１８５全体がシャフト１８１を軸としてＺ方向に開閉する構造になっており、枠１８５及び透明基板１８７により、載置台３４上のウェハ１を覆うことができる。 （もっと読む）

本発明は、例えば、半導体産業用のウェーハ、太陽電池、ガラス、ＦＰＤ基板またはバイオセンサー用の生物活性基板のような、接触に対して敏感な平面状の材料もしくは加工品の検査装置に関し、さらに、接触に対して敏感な曲面表面の材料の検査装置にも関する。この場合、この検査装置は、材料（３）をその上面上に担持する支持体（１）と、その支持体（１）に接続される少なくとも１つの振動発生器であって、その振動発生器の振動の周波数および振幅は、材料（３）を支持体（１）の上で浮揚させ続けうるように選択される少なくとも１つの振動発生器と、少なくとも１つの光学センサー（４）とを含み、さらに、支持体は透明な材料から構成され、かつ、光学センサー（４）は支持体（１）の下部に配置される。 （もっと読む）

【課題】周期性のあるパターン、特にハーフトーンマスクのように可視光による検査が困難とされるような被検査体に対しても、ムラを高精度に撮像、検出可能な周期性パターンのムラ検査装置、および方法を提供する。
【解決手段】透過照明部１０と、反射照明部２０と、透過照明および反射照明が可能なＸＹステージ部３０と、光源部４０と、被検査基板７０の画像を撮像するための撮像部５０と、撮像部５０からの出力をディジタル化した画像情報として画像入力を行い、画像強調処理等の演算処理を行い、さらに画像を表示する機能を有する処理部６０から構成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】面内位相差をＲｅ、厚さ方向の位相差をＲｔｈとしたとき、Ｒｅ≦２０ｎｍかつ｜Ｒｔｈ｜≧２０ｎｍを満たす液晶フィルムを含む光学フィルムの欠陥の検査を的確に行うことができる光学フィルムの検査方法を提供する。
【解決手段】下記式を満たす第１液晶フィルムを含む光学フィルムの検査方法であって、前記光学フィルムに対し、光源から第１偏光板を通して光を照射し、前記光学フィルムに対して、前記光源と反対側に１軸延伸フィルムからなる第１位相差フィルムと第２偏光板とを積層した欠陥検査用素子を、前記第１位相差フィルムを前記光学フィルム側に隣接するように配置し、前記光学フィルムを検査することを特徴とする光学フィルムの検査方法。
Ｒｅ≦２０［ｎｍ］
｜Ｒｔｈ｜≧２０［ｎｍ］
（ここで、Ｒｅは前記第１液晶フィルムの面内の位相差値、Ｒｔｈは前記第１液晶フィルムの厚さ方向の位相差を意味する。） （もっと読む）

【課題】複数の撮像画素を配列した撮像素子によって反復パターンが形成された試料の表面を撮像して取得した撮像画像に、反復パターンに対応して繰り返し現れる単位パターンのうちの２つの、一方の単位パターン内の画素とこの画素に対応する他の単位パターン内の画素との間のグレイレベル差を検出し、グレイレベル差が検出閾値を超えるときこのグレイレベル差を検出した画素を欠陥であると検出する欠陥検出において、撮像画素のそれぞれのＳ／Ｎ比に応じて、これら撮像画素からそれぞれ得られた画像信号を用いて行う欠陥検出の検出感度を調整する。
【解決手段】グレイレベル差を、このグレイレベル差が検出されたグレイレベル値をそれぞれ生成した撮像画素の出力信号のＳ／Ｎ比に応じて補正する。またはグレイレベル差と比較される検出閾値を、このグレイレベル差が検出されたグレイレベル値をそれぞれ生成した撮像画素の出力信号のＳ／Ｎ比に応じて補正する。 （もっと読む）

【課題】欠陥の検査時間を短縮する欠陥検査装置等を実現する。
【解決手段】本発明の検査装置１は、欠陥部位検出部４による欠陥部位候補の検出と、欠陥部位色特定部５による欠陥部位候補の色の特定とに用いられる検査パターンは、同一である。また、欠陥部位色特定部５により検出される輝度分布は、表示パネル７の異なる絵素が配列する方向に割当てられた撮像素子により撮像された画像データを用いたものである。このため、この輝度分布には、表示パネル７の複数色の絵素の輝度値が含まれる。このため、表示パネルの各色の絵素ごとに、輝度分布を検出する必要がない。従って、欠陥の検査時間を短縮することができる。 （もっと読む）

【課題】検出精度の低下を招くことなく検索時間の短縮を図る。
【解決手段】テンプレート画像記録用メモリ２４に記憶されたテンプレート画像データＶG に対しその水平走査ライン数（２５６本）より少数の８本の特徴ラインＬ１〜Ｌ８を設定する。そして、このテンプレート画像データに対し設定した特徴ラインＬ１〜Ｌ８ごとに、そのラインデータと１画面分のサーチ画像データＶF との差分相関値｜Ｆ−Ｇs｜を算出し、この特徴ラインＬ１〜Ｌ８ごとに得られた差分相関値｜Ｆ−Ｇs｜を位置座標を合わせて順次累積加算する。 （もっと読む）

【課題】被検査物の欠陥検出の感度を向上することができる欠陥検出方法を提供する。
【解決手段】欠陥検出方法は、被検査物の撮像画像に対して欠陥強調処理を行う欠陥強調処理工程と、その工程で得られた各画素の欠陥強調値に基づいて欠陥を検出する欠陥検出工程を有する。欠陥強調処理工程は、検査対象画素を順次選定する検査対象画素選定工程ＳＴ２１と、検査対象画素の周囲に所定距離離れて複数配置された比較対象画素を、複数の比較対象画素群に分けて設定する比較対象画素群設定工程ＳＴ２２と、比較対象画素群の各比較対象画素と検査対象画素の各輝度値の差である輝度差データを求め、その値が最小となる最小輝度差を比較対象画素群毎に求める最小輝度差算出工程ＳＴ２３と、比較対象画素群毎に算出された最小輝度差のうち、値が最大となる最小輝度差を前記検査対象画素の欠陥強調値とする欠陥強調値算出工程ＳＴ２４とを備える。 （もっと読む）

【課題】偏光素子の劣化を監視して検査精度の低下を把握することが出来る検査装置を提供すること。
【解決手段】光源から照射された光によって被検査物（半導体ウェハ１０）から生じる光を検出する検出部（撮像素子３５）と、前記光源から前記検出部に至る光路（照明光学系２０、受光光学系３０）中に配置された偏光素子２３，３３と、これら偏光素子２３，３３の基準となる基準偏光素子との比較に基づいて偏光素子２３，３３の劣化度を監視するモニター部５０とを備える。 （もっと読む）

【課題】 画像特徴量の数の増加に関係なく欠陥の分類性能が向上する欠陥分類装置および方法並びにプログラムを提供すること
【解決手段】 外観検査装置１５から取得した検査対象品の画像データから画像特徴量を抽出する画像処理部２６と、画像処理部で抽出された検査対象品の画像特徴量に対して主成分分析或や部分最小２乗法を行なって寄与率を求め、寄与率が高い画像特徴量を抽出し、抽出した画像特徴量から欠陥種別を決定する多変量解析処理部２８と、を備える。同種の欠陥の場合、寄与率が高くなる画像特徴量も同じになるため、抽出された画像特徴量の組み合わせから欠陥分類が行なえる。 （もっと読む）

【課題】大きな点検用基板を用いることなく、外観検査装置の機種による制約のない、欠陥を検出する機能の点検作業を簡便・容易な作業とするカラーフィルタ外観検査装置における欠陥検出機能の点検治具７０を提供する。
【解決手段】基板載置部３１に載置された点検用基板２５の検査開始位置ｈを外観検査装置の検査ラインＹ₁ に移動させる位置出し機構３０と、該位置出し機構を外観検査装置のパスラインＸ₁ と平行に移動し点検用基板を点検作業に供する搬送機構５０とで構成される。 （もっと読む）

【課題】カラーフィルタの異物がガラス基板裏面にあることを検査の段階で特定し、工程内では欠陥ではないと識別するカラーフィルタの外観検査方法。
【解決手段】予め、着色画素２２などの濃度範囲及び判定閾値の数を設定し、次に、不良欠陥Ｄ３の検査画素の濃度を求め、輪郭部Ｒ３を設定し、輪郭検査画素の各濃度を求め、次に、不良欠陥の濃度の平均値が該当内であり、最小値が該当内にない場合、不良欠陥を裏面異物の候補と判定し、次に、輪郭検査画素の各濃度を、各々の濃度範囲毎に集計し、ガラス基板の濃度範囲にある、輪郭検査画素の数が、判定閾値の数以上であれば不良欠陥はガラス基板にあると判定し、不良欠陥を裏面異物と確定判定し、不良欠陥を工程内欠陥の対象から外す。 （もっと読む）