【課題】ＦＰＤガラス等の大型の試料表面の全範囲にわたり検査員が同一の条件で目視検査を効率的に行える外観検査装置及び外観検査方法において、マクロ観察とミクロ観察の切り替えを短時間で行なえ、また、最適な反射角度で観察できるように改善する。
【解決手段】多関節ロボットＲを用い、そのハンド部分３にマクロ撮像光学ユニット２とミクロ撮像光学ユニット１とを隣り合わせに並べて装着し、ハンド部分３を任意の３次元位置に移動させ、撮像光学ユニット１、２の位置（ｘ１、ｙ１、ｚ１）、（ｘ２、ｙ２、ｚ２）と光軸方向（χ１、ψ１）、（χ２、ψ２）を任意に設定できるようにして、検査するのに適切な撮像光学ユニット１、２の位置と光軸方向、その他の条件をティーチングさせて、マクロ外観検査及びミクロ外観検査ができるようにした。 （もっと読む）

【課題】 下地層の影響を受けずに最上層の欠陥を適切に検出可能な検査装置を提供する。
【解決手段】 被検物体１０Ａから発生した光から、検査用の画像を取り込む取込手段１５,１７と、検査用画像から被検物体の各部の欠陥を異なる感度で検出する処理手段１７とを備える。 （もっと読む）

【課題】 局所的な欠陥だけでなく大域的な欠陥も検出することができる外観検査方法を提供する
【解決手段】被検査物を撮影して得た検査画像を分割した各小領域の欠陥判定により、まず比較的小さい点キズや線キズ等の局所的な欠陥を検出する。そして前記各小領域の濃度平均値を用いて低解像度の新たな検査画像を作成し、この低解像度の新たな検査画像を分割した各小領域の欠陥判定により、比較的大きい染みや汚れ、色むら、柄感不良、色段差等の大域的な欠陥を検出する。 （もっと読む）

【課題】 マクロ検査とミクロ検査と連続して行える基板検査装置の大型化を防ぎ、検査効率を向上させることである。
【解決手段】 基板検査装置１は、ベース本体３上に基板Ｗをエアー浮上させる浮上ステージ４が敷設されている。さらに、ベース本体３の一端部から他端部に至る間に、自動マクロ検査部２１と、ミクロ検査部２２とが順番に配設されている。自動マクロ検査部２１は、ライン状の照明光を基板Ｗに照射する照明部２４を有し、照明光の反射光を反射部２５で折り返した後に、撮像部２６に入射するように構成されている。 （もっと読む）

【課題】不良製品発生後の後続工程の進行を遮断して、資材の損失を減すと同時に検査に必要な時間を減らして生産性を増加させることができる異方性導電フィルムの圧痕検査装置を提供する。
【解決手段】圧痕イメージを得る光学イメージ生成部１と、圧痕イメージをデジタル化するイメージ変換部２と、ビジョン制御部３の整列信号を受信して、部品素材を光学イメージ生成部１に移動させるＰＬＣ制御部４とから構成され、光学イメージ生成部１は、ＤＩＣフィルターと照明部がそれぞれ一側に結合された第１鏡筒の下部に対物レンズが設置され、第１鏡筒の上部には、第１カメラ１３１の結合された第２鏡筒がアナライザフィルターを持つ第３鏡筒を介して結合され、第２鏡筒の上部には視野調整用レンズを持つ第４鏡筒が結合され、第４鏡筒の上部に第２カメラ１６が結合される。
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【課題】遮光部と、透過部と、微細パターン部とを有するフォトマスクにおいて、短時間でかつ高精度な欠陥検査を行うことができるを提供する。
【解決手段】遮光部と、透過部と、微細パターン部とを有するフォトマスクの欠陥検査方法であって、
少なくとも遮光部及び透過部が形成されている領域については、マスク内のパターンを走査して得られる透過率信号を用い、パターンの比較に基づくパターン欠陥信号について予め設けたパターン欠陥の閾値を用いて欠陥を検出する比較検査手法によって欠陥を検出し、
少なくとも微細パターン部については、マスク内のパターンを走査して得られる透過率信号について予め設けた透過率欠陥抽出閾値を用いて欠陥を検出する手法によって欠陥を検出する。 （もっと読む）

【課題】 観察／検査装置における観察／検査条件の決定作業について、観察／検査条件の条件設定の指針となる情報を容易に得ることできるようにする。
【解決手段】 偏光板回転駆動手段９３を制御駆動して偏光板８９をその光軸を中心軸にして回転させている最中も、画像処理手段としてのコンピュータ１００が、イメージセンサ９１からＡ／Ｄ変換器９２を介して供給されるデジタル化された電気信号出力を逐次画像処理して試料表面の光学像の画像データを随時生成し、記録装置１０６に連続的に記憶管理していくことによって、偏光板回転方向の変化に応じて変化する試料表面の光学像の動画像データの取得を行う。 （もっと読む）

【目的】 適正な精度で試料検査を行う方法および装置を提供することを目的とする。
【構成】 パターン形成された被検査試料の光学画像データを取得する光学画像取得部１５０と、前記被検査試料のパターン形成の基となる設計パターンに基づいて設計画像データを生成する展開回路１１１と、前記光学画像データと前記設計画像データとの比較を行なう比較回路１０８と、を備え、比較回路１０８において、所定の領域を示す、前記設計パターンの情報と同一フォーマットに作成された領域パターンの情報に基づいて生成される領域画像データを入力し、前記光学画像データと前記設計画像データとの比較を行なう場合に、前記領域画像データに基づいて判定条件を変更することを特徴とする。 （もっと読む）

【目的】 擬似欠陥を低減させる試料検査を行う方法および装置を提供することを目的とする。
【構成】 パターン形成された被検査試料の測定データを取得する光学画像取得部１５０と、前記被検査試料のパターン形成の基となる第１の設計パターンに基づいて第１の設計画像データを生成する展開回路１１１と、測定データと前記第１の設計画像データとの比較を行なう比較回路１０８と、を備え、比較回路１０８において、さらに、第２の設計パターンに基づいて生成される第２の設計画像データを入力し、前記第１の設計画像データの代わりに前記第２の設計画像データと測定データとの比較を行なうことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 基板の外観検査を行う際に、種々の形態を有する欠陥を観察できる外観検査装置を提供する。
【解決手段】 外観検査装置は、被検査基板Ｗを支持するステージ４を有し、被検査基板Ｗと平行に移動し拡大画像を取得するミクロ画像取得ユニット１２を備えている。ミクロ画像取得ユニット１２は、顕微鏡１５と、固定ユニット１６を介して着脱されるデジタルカメラ１７とを有し、デジタルカメラ１７を固定ユニット１６から取り外したときには、任意の位置から被検査基板Ｗの画像を取得することが可能になる。 （もっと読む）

【課題】
従来の欠陥検査は、各ブロックについて、比較する各視野の画像同士が同一のパターンである必要がある。そのため、例えば、欠陥の位置が分かっていても、その位置へ移動し、より拡大した画像を取得して、自動的に欠陥を抽出することは困難であった。
【解決手段】
低倍のレンズで周囲画像と輝度比較し、そこからレンズの倍率を段々高倍率に設定しながら、画像処理を行って欠陥の検査していく。またこのとき、同一パターンとの比較をせず、本来のパターンと欠陥とは、輝度波形の傾斜の傾きで区別する。 （もっと読む）

【課題】赤外反射膜の被覆不良を的確に判定できる赤外反射膜コーティング部材の検査装置及び検査方法を提供する。
【解決手段】 赤外光照明51と、撮像装置（検査用カメラ53）と、輪郭データ抽出部と、第一判定部とを有する。赤外光照明51は、赤外反射膜の被覆部を有するコーティング部材（ウェハW）に赤外光を照射する。撮像装置は、コーティング部材から反射した赤外光を用いて同部材の正反射像を得る。輪郭データ抽出部は、正反射像に画像処理を施し、赤外反射膜の輪郭データを抽出する。第一判定部は、この輪郭データを用いて赤外反射膜の被覆不良を判定する。 （もっと読む）

【課題】基板検査装置内で人間が作業を行った場合に、検査を長時間停止しなければならなくなることを防止することができる基板検査装置を提供する。
【解決手段】基板検査装置１は、装置本体２内にフィルタファンユニット５からの清浄空気を通流させるようなミニエンバイロンメント方式を採用しており、清浄空気によって外部よりも清浄度の高い高清浄部３は、複数の仕切り板５１，５３，５４によって第一の領域６０と第二の領域６１とにさらに区分けされている。第一の領域６０には、顕微鏡４０の鏡筒などが配置され、第二の領域６１には基板Ｗが搬送されるようになっている。 （もっと読む）

【課題】ＮＧとなった箇所のみ目視検査装置で不良箇所の画像を確認することで、迅速で確実性の高い目視検査支援システムを提供する。
【解決手段】第１の検査装置４７より被検査物体を検査した外観状態を示すデータをデータ処理する第１のコンピューター２１と、第１の検査装置４７の検査後の被検査物体を目視検査する目視検査装置４とを備え、目視検査装置４は、被検査物体を載置して該被検査物を固定しＸＹ方向のいずれか一方向にのみ移動可能なテーブルと、被検査物上方に位置し、ズーム機能及び自動絞り機能を有する被検査物を撮像するカメラ５と、テーブルの垂直な面に対して３０°〜６０°の角度で傾斜し且つ前記被検査物の回りを３６０°回転する当該カメラの動きと連動して前記被検査物を照明する少なくとも２個のランプを有する。 （もっと読む）

【課題】 単独で発生する異常と複数チップで同時に発生するパターン欠陥の両方を検出することを目的とする。
【解決手段】 像面傾斜によるレジストパターン異常のように、ウェハの同一行または列に同様のパターン異常が生じているような場合であっても、検査対象となるチップに対するウェハの同一行または列での画像比較検査に加えて、この方向に対して垂直方向に隣接するチップとも画像比較検査を行なうことにより、単独で発生する異常と複数チップで同時に発生するパターン欠陥の両方を検出することができる。 （もっと読む）

【課題】カラー情報と高い解像度構造情報を廉価に得ることができるウェハー検査のための装置と方法を開発する。
【解決手段】ウェハーの表面を照射するための照射手段と、結像範囲を備えた少なくとも一台のカメラを有しウェハーの表面を光学的に像形成するための結像手段と、結像範囲とウェハー表面の間の相対移動のための移動手段と、ウェハーを評価するための評価手段とを備えて構成される、ウェハーを検査するための装置で、結像手段が同じ結像範囲に焦点合わせされた二台のカメラを備えて構成される。またそのような装置を用いて、ウェハー表面を照射し、第一カメラでウェハーの結像範囲を像形成し、異なる解像度を有する第二カメラでウェハーの同じ結像範囲を像形成し、結像範囲によってカバーされたウェハーの表面を変更し、カメラ像を評価する。 （もっと読む）

【課題】 基板の外観検査を行う際に、種々の形態を有する欠陥を観察できる外観検査装置を提供する。
【解決手段】 外観検査装置は、任意の位置から被検査基板の画像を取得可能なデジタルカメラ１７と、デジタルカメラ１７の画像を処理して表示手段３２に出力する制御ユニット２０を有している。制御ユニット２０は、デジタルカメラ１７で取得した画像から被検査基板の輪郭線を抽出してこれを多数の四角形に分割することで形状補正を行う。表示手段３２に出力する際には、多数の四角形を矩形状に割り当てて、被検査基板の縦横比と一致するように縦横比を調整する。 （もっと読む）

【課題】大面積基板上に形成された複数の電子デバイスを検査するための方法及び装置が開示されている。
【解決手段】一実施例において、本装置は検査されるべき基板の大きさよりもちょっと幅広い少なくとも１つのチャンバ内で、一線形軸において前記基板上において検査を行なう。クリーンルームのスペース及びプロセスの時間は、システムのより小さいサイズ及び容量によって最小化される。 （もっと読む）

【課題】 表面に電気的パターンが形成される、又は形成された基板の外観に現れる欠陥を検出する際に、基準画像を生成することなく、繰り返しパターン領域以外の領域においても欠陥検出が可能な外観検査装置及び外観検査方法を提供する。
【解決手段】 外観検査装置３を、基板２３の表面を撮像する撮像手段３４と、複数の基板２３をそれぞれ撮像した各撮像画像の、各基板２３上の同じ箇所を撮像した画素同士を比較する画素比較手段３６と、複数の基板２３のうちの一の基板に係る上記画素の画素値が他の基板に係る上記画素の画素値と異なるときに、上記基板に係る画素を欠陥として検出する欠陥検出手段３８と、を備えて構成する。 （もっと読む）

【課題】 検査員による製品表面の外観検査を効率よく、かつ、確実に行うことのできる方法を提供する。
【解決手段】 製品タイヤ１０の外観を検査員Ｐが検査する際に、不良箇所の位置のみを検出する自動外観検査装置２０により上記製品タイヤ１０の不良箇所の位置を予め検出しておき、これを、検査員Ｐが製品タイヤ１０を外観検査する作業机３０の近傍に設置された指示手段４０のディスプレイ４１上に表示し、検査員Ｐが上記ディスプレイ４１上の当該製品タイヤ１０の不良箇所の場所を確認しながら検査を行うようにした。 （もっと読む）