【課題】照明光を短波長化しなくても、確実に繰り返しピッチの微細化に対応できる表面検査装置および表面検査方法を提供する。
【解決手段】被検基板２０の表面に形成された繰り返しパターンを直線偏光Ｌ１により照明する手段１３と、表面における直線偏光Ｌ１の振動面の方向と繰り返しパターンの繰り返し方向との成す角度を斜めに設定する手段１１,１２と、繰り返しパターンから正反射方向に発生した光Ｌ２のうち、直線偏光Ｌ１の振動面に垂直な偏光成分Ｌ４を抽出する手段３８と、偏光成分Ｌ４の光強度に基づいて、繰り返しパターンの欠陥を検出する手段３９,１５とを備える。 （もっと読む）

【課題】検査プロセスの前段階で生じた裏面欠陥なのか、もしくは検査時に生じた裏面欠陥なのかを検出することができる基板検査方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る基板検査方法は、表面に複数のパターンが形成されるウエハの裏面および裏面以外の面における欠陥を検査する基板検査方法であって、ウエハの裏面における欠陥の存在およびその位置を検出する第１裏面欠陥検出ステップＳ２０１と、ウエハの裏面以外の面における欠陥の存在およびその位置を検出する他面欠陥検出ステップＳ２０２〜２０４と、ウエハの裏面における欠陥の存在およびその位置を再度検出する第２裏面欠陥検出ステップＳ２０５とを備える。 （もっと読む）

【課題】試料に付着した異物の存否のみならず、異物の種類をも簡易に識別できる異物の識別方法を提供する。
【解決手段】既知の物質に異なる励起波長の紫外線を照射し、各励起波長における試料からの蛍光強度と波長を分析して、蛍光強度がピークとなるときの励起波長を基準励起波長とし、蛍光強度がピークとなった蛍光波長を基準蛍光波長とするとき、次の過程を含む。（Ａ）試料に前記基準励起波長の紫外線を照射して、試料からの蛍光波長を分析する過程。（Ｂ）その試料からの蛍光波長が前記基準蛍光波長と合致すれば、試料に前記既知の物質が異物として存在すると判定し、合致しなければ試料に既知の物質がないと判定する過程。 （もっと読む）

【課題】めっき層表面に生じるめっき未着等の欠陥を安定的に検出することが可能な外観検査装置を提供する。
【解決手段】外観検査装置２０は、パッド部と、パッド部と異なる色彩をもつめっき層とを有する被検査基材１０の外観を検査するものである。外観検査装置２０は、被検査基材１０に対して光を照射する照明装置と、被検査基材１０を撮像してカラー画像を取得するカラーセンサカメラ２２と、カラーセンサカメラ２２に接続された画像処理装置３０とを備えている。画像処理装置３０は、カラー画像のうちパッド部からの反射率が低く、めっき層からの反射率が高くなる特定波長成分のみを含む画像成分を抽出する成分抽出部３２と、特定波長成分を含む画像成分の画像を処理する画像処理部３３と、めっき層の欠けを判定する判定部３４とを有している。 （もっと読む）

本発明は、たばこの製造及び／又は包装の際に検査すべき対象（２４）（検査対象）を検査する方法であって、特に、たばこパッケージ又はたばこパッケージのブランク上の、又はこれらに対する印刷及び／又は印刷用紙を検査する方法であり、少なくとも一つの検査対象（２４）が、適当な光センサー（３１）、特にカメラのような光電子検査機器によって、光学的検査を行われる方法と装置に関する。検査対象（２４）及び／又は検査対象背景（１１）は、波長変更可能な照明装置（３４）の光を照射され、その際、検査対象（２４）と検査対象背景（１１）の間のコントラストを改善するために、照射装置（３４）から発せられる光の波長は、好ましくは自動的に調整され、より好ましくはこれが、生産されるべきパッケージタイプ（１０）及び／又は検査対象（２４）の少なくとも一つの特徴及び／又は検査対象背景（１１）の少なくとも一つの特徴に応じて行われる。
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【課題】高いコントラストで検査を行うことができる検査装置及び検査方法並びにそれを用いたパターン基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】
本発明にかかる検査装置は、光を透過するガラス基板２１の透過率に基づいて欠陥を検出して、ガラス基板２１と、反射面を有する第１の膜２９とを備える試料を検査する検査装置であって、ガラス基板２１の一方の面である入射面から試料に光を入射させる光源１１と、開口数が０．００２以上０．２以下で、光源１１からの光を反射面上に集光する対物レンズ１７と、ガラス基板２１に斜めに入射した入射光が反射面で正反射されることによって、ガラス基板２１において入射光が通過した位置と近い位置を斜めに通過して入射面から出射された光を検出する光検出器３２とを備えるものである （もっと読む）

【課題】適切に欠陥を検出することができるパターン検査装置及びパターン検査方法を提供する。
【解決手段】光源から光を出射する手段と、前記出射された出射光が被検査体において反射したことにより生じる反射光から第１〜第ｎ（ｎは２以上の整数）の波長の光を取得する波長選択手段と、第ｉ（ｉは１以上ｎ以下の整数であって少なくとも２つの整数）の波長の光を用いて前記被検査体の第ｉの光学像を取得する手段と、前記第ｉの光学像を用いて前記被検査体の対応する２箇所における信号の差分である第ｉの差分を算出する差分算出手段と、複数の前記第ｉの差分を用いて欠陥の有無を判定する手段と、を備えたことを特徴とするパターン検査装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】 バンドパスフィルタを用いて制限した光を被検物の表面に当てて、その反射光により被検物の表面を安定的に観察する。
【解決手段】 被検物を照射する光源と、該光源の光から所定の波長成分を抽出するフィルタと、前記所定の波長の光で前記被検物を照明する照明光学系と、前記フィルタの前記抽出に用いる位置を前記照明光学系の光路中に保持した状態で、該光路に対して前記フィルタを連続して変位させる変位部と、前記照明された前記被検物の検査を行う検査光学系とを用いる。 （もっと読む）

【課題】光反射体の反射光像による真贋判別を正確に、かつ、容易に実施することができる光反射体の真贋判別方法及びその真贋判別装置を提供する。
【解決手段】光反射体の真贋判別方法は、所定の入射角度で入射した光を特定の出射角度で反射する光反射体（１００）に対して、特定の波長の光を前記所定の入射角度で入射する波長入射ステップと、前記光反射体（１００）で反射する特定の波長の反射光を撮像する撮像ステップと、前記撮像ステップで撮像した前記反射光の反射光像と、前記光反射体の反射光像サンプルとを比較する比較ステップとを含む。 （もっと読む）

【課題】 バンドパスフィルタを用いて制限した光を被検物の表面に当てて、その反射光により被検物の表面を安定的に観察する。
【解決手段】 被検物を照射する光の光源と、該光源の光から所定の波長成分を選択する波長選択部と、前記波長選択部で選択される波長成分を連続的に調整する波長調整部と 前記選択された光で前記被検物を照明する照明光学系と、前記照明された前記被検物の検査を行う検査光学系を用いる。 （もっと読む）

【課題】広い間隔の波長または波長範囲を使用して測定することができるスキャトロメー
タ測定方法および装置を提供する。
【解決手段】スキャトロメータは、異なる第一および第二波長範囲の放射を放出すること
ができる放射源を有する。どちらの波長範囲を使用しているかに従って必要に応じて色補
正を実行するために、可変光学要素が設けられている。したがって、１つのスキャトロメ
ータが、広い間隔の波長を使用して測定を実行することができる。 （もっと読む）

【課題】
反射屈折型対物レンズを用いた垂直落射照明を行う場合、反射屈折型対物レンズ中心を通過する欠陥からの正反射光が結像されないため、検出面ではフレア成分となり低SNになる。
【解決手段】
光源と、前記光源から照射された照明光を反射させるハーフミラーと、前記ハーフミラーにより反射された照明光による試料からの反射光を集光させる反射屈折型対物レンズと、前記反射屈折型対物レンズを透過した前記反射光を結像させる結像レンズと、前記試料からの正反射光が前記結像レンズにより結像する位置に設けられた遮断部材を有するリレーレンズと、前記遮断部材により前記正反射光が遮断された反射光を検出する検出器とにより構成される検査光学系と、前記検出器で検出された信号に基づき前記試料の欠陥を検出する演算処理部とを有する欠陥検査装置。 （もっと読む）

【課題】狭い空間内に組み込むことができ、特定の波長域の検査光を選択的に出射させるコンパクトな構造の集光レンズ系及び照明装置を実現する。
【解決手段】本発明による集光レンズ系は、光源（２ａ）から出射した広帯域の波長光を集光すると共に所定の波長帯域の波長光を集束性光ビームとして選択的に出射させる集光レンズ系である。当該集光レンズ系は、第１の正レンズ（２０）と、特定の波長域の波長光を選択的に透過させる波長選択フィルタ（２１）と、負レンズ（２２）と、第２の正レンズ（２３）とを順次有する。或いは、第１の正レンズと第２の正レンズとの間に２つの負レンズ（３１，３３）を配置し、これら負レンズ間に波長選択フィルタ（３２）を配置する。光源から出射した照明光が波長選択フィルタに斜めに入射して収差が生じても、当該収差は後段の負レンズにより補正される。この結果、光路長の短い集光レンズ系が実現される。 （もっと読む）

【課題】検査時における照明光の光量を安定させた表面検査装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る表面検査装置１は、被検基板の表面に照明光を照射する照明部が、ランプハウス６１からの光のうち所定の波長領域の光を透過させるバンドパスフィルターが設けられた波長選択機構７０，７５を有し、当該バンドパスフィルターを透過して得られた所定の波長領域の光を照明光として被検基板の表面に照射するように構成されており、紫外光を遮断するＵＶカットフィルター６５がランプハウス６１と波長選択機構７０，７５との間の光路上に挿抜可能に設けられ、非検査時にＵＶカットフィルター６５が光路上に挿入されて、ＵＶカットフィルター６５を透過した光が波長選択機構７０，７５のバンドパスフィルターに照射されるようになっている。 （もっと読む）

【課題】 例えば、測定されたスペクトルが計算されたスペクトルと比較され、スペクトルの計算が、精度の対応する低下を伴わずにより効率的の実行されるリソグラフィプロセスの少なくとも１つのプロセスパラメータを決定する方法を提供することである。
【解決手段】 リソグラフィプロセスでターゲットパターンの構造パラメータを決定する方法で、一連の較正スペクトルが基準パターンから計算される。計算された各スペクトルでスペクトル分析が行われ、スペクトル成分と関連する重みが導出され、ライブラリに記憶され、または反復探索法のベースとして使用される。スペクトルはターゲットパターンから測定され、測定されたスペクトルのスペクトル分析が行われる。構造パラメータを決定するために、主成分の導出された重み係数が測定されたスペクトルの重み係数と比較される。 （もっと読む）

【課題】周期性のあるパターン、特にハーフトーンマスクのように可視光による検査が困難とされるような被検査体に対しても、ムラを高精度に撮像、検出可能な周期性パターンのムラ検査装置、および方法を提供する。
【解決手段】透過照明部１０と、反射照明部２０と、透過照明および反射照明が可能なＸＹステージ部３０と、光源部４０と、被検査基板７０の画像を撮像するための撮像部５０と、撮像部５０からの出力をディジタル化した画像情報として画像入力を行い、画像強調処理等の演算処理を行い、さらに画像を表示する機能を有する処理部６０から構成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】偏光素子の劣化を監視して検査精度の低下を把握することが出来る検査装置を提供すること。
【解決手段】光源から照射された光によって被検査物（半導体ウェハ１０）から生じる光を検出する検出部（撮像素子３５）と、前記光源から前記検出部に至る光路（照明光学系２０、受光光学系３０）中に配置された偏光素子２３，３３と、これら偏光素子２３，３３の基準となる基準偏光素子との比較に基づいて偏光素子２３，３３の劣化度を監視するモニター部５０とを備える。 （もっと読む）

本発明は、広帯域光源と選別デバイスとを備えるシステムに関し、より詳細にはレーザ式選別デバイスに関する。本発明の目的は、選別プロセスに対して全ての波長を提供する光源を有する選別デバイスを備えるシステムを提供することにある。このことは、全ファイバ・スーパコンティニューム光源を使用することにより解決される。
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【課題】
【解決手段】ウエハーを検査するように構成される装置を提供する。一つの装置は斜めの入射角でウエハーに光を向けることによりウエハー上の区域を照明するように構成される照明の下位組織を含む。その装置はまた照明される区域の中の異なる地点から散乱される光を同時に集めるようにそして異なる地点から集められる光を映像面の対応する位置に焦点を結ばせるように構成される集光の下位組織を含む。さらに、その装置は映像面の対応する位置に焦点を結ぶ光を別々に検出するようにそして映像面の対応する位置に焦点を結ぶ光に応答する出力を別々に生成するように構成される検出の下位組織を含む。 （もっと読む）

【課題】
【解決手段】本発明は、試料の特徴を監視するためのさまざまな方法、キャリア・ミディア、ならびにシステムに関する。試料の特徴を監視するコンピュータ実施方法は、検査システムを用いて、試料を検査することにより生成される出力を用いて、試料上の個々の画素の特性を決定することを含む。また本方法は、個々の領域内の個々の画素の特性を用いて、試料上の個々の領域の特徴を決定することを含む。更に本方法は、個々の領域の特徴に基づき試料の特徴を監視することを含む。 （もっと読む）