【課題】 180°の方位角にわたる半導体ウェハの端縁全体の像をモニタ上に同時に表示できる撮像システムを提供する。
【解決手段】 本発明では、ライン状光ビームを発生する光源装置(1，2，3)、ライン状光ビームを集束して試料に投射する対物レンズ(10)、及びリニァイメージセンサ(13)を有する撮像ヘッドを用い、ウェハ端縁を３次元的に走査し、複数の角度方向からウェハ端縁を撮像する。信号処理回路(16)において、複数の角度から撮像した複数の画像を合成して画像表示装置(16)上に表示する。さらに、本発明では、ウェハ端縁を３次元的に走査しているので、奥行方向の高さ情報を利用してウェハ端縁の画像を３次元的に表示することができる。 （もっと読む）

【課題】 検査対象物を撮影するための光路内の一部にその光路を遮るように介在物を挿入しても、その介在物が画像に与える影響を抑えて検査を正確に実施することが可能な検査装置を提供する。
【解決手段】 検査対象物としてのボトル２を照明装置３からの赤外光を含む照明光で照明しつつボトル２の赤外波長域の画像をカメラ１１にて撮影し、得られた画像に基づいてボトル２を検査する検査装置１において、照明装置３からボトル２を経てカメラ１１に至る光路内に、該光路を部分的に遮るようにネックホールド５０を挿入し、そのネックホールド５０をボトル２のネック部２ｄと噛み合わせてボトル２の落下を防止する。ネックホールド５０は赤外光の波長域に対して透過性を有する材料にて形成する。 （もっと読む）

【課題】
照明の光源にレーザを用いることによって発生する時間的・空間的コヒーレンスの問題、を解決して、光量の大きいレーザを用いて高速に高感度でパターンの欠陥を検査することを可能にする。
【解決手段】
上記した課題を解決するために、ＤＵＶからＶＵＶ領域の複数の波長のレーザ光を照明する構成とした。これにより、レーザ光の時間的・空間的コヒーレンスも低減させた。また、ＶＵＶ光とＤＵＶ光とを照明した場合に発生する、色収差を補正するために、それぞれの波長の光を同軸照明とし、補正しきれない色収差は、検出光路を波長に対応した２系統に分岐し、それぞれの波長の像面にイメージセンサを配置して検出するようにした。これにより、解像度が高く、欠陥検査上のノイズも低減した画像を検出することを可能にした。 （もっと読む）

【課題】被検物体の反射光の光量を撮像素子の検出範囲内に調整することのできる表面検査装置を提供することを目的とする。
【解決手段】光源からの光を色分解光学系で複数の色光に色分解し、複数の色光の光路にそれぞれ配置された調光手段で光強度を調整する。調光手段で調光された複数の色光は色合成光学系で色合成された後、被検物に照明される。被検物で反射された光の一部は、反射光検出器で複数の色光毎に光強度が検出され、残りの反射光は、撮像部で被検物の反射像が撮像される。反射光検出器で検出された複数の色光の各色光の強度が、所定の値になるように調光手段は制御部によって制御される。 （もっと読む）

【課題】乳剤傷により影響を受けている画素のみを速い処理速度で判定できる乳剤傷判定技術を提供する。
【解決手段】写真フィルムに記録されている画像から取得された多数の画素から構成される画像データから順次注目画素を指定し、注目画素が乳剤傷候補画素であるかどうかを判定し、乳剤傷候補画素判定ステップで判定された乳剤傷候補画素の周辺領域に位置する正常画素を探索し、この正常画素探索ステップで正常画素が検出された場合検出された正常画素の画素値に基づいて作成された乳剤傷判定条件を用いて乳剤傷候補画素が乳剤傷画素かどうかを判定するとともに、正常画素探索ステップで正常画素が検出されなかった場合前回の注目画素の判定結果に基づいて今回の注目画素の乳剤傷判定を行い、乳剤傷画素と判定された注目画素の画素位置を乳剤傷マップに書き込む。 （もっと読む）

組成の異なる物質（１２）の流れを自動的に検査するシステム（１０）であって、略一定の強さの電磁放射線を含む検出用媒質を流れの照射区域（Ｉ）へ放射する放射装置（１６）を包含し、この照射区域で媒質が物質（１２）の表面に透入し、照射区域（Ｉ）が流れの幅を実質的に横切って連続的に延び、表面に透入している媒質が、物質（１２）によって変化され、前記システムが、照射区域（Ｉ）から実質的に離れた検出区域（Ｄ）において物質（１２）から出る変化した媒質を受け入れる受け装置（３２）と、変化した媒質に依存して検出データを発生する検出装置（３４）とをさらに包含し、システム（１０）の使用において、受け装置（３２）で受け入れられる変化した媒質の少なくとも大部分がトランスフレクトした媒質である。
（もっと読む）

【課題】例えば欠陥を探しての試料の検査のあいだ、試料を照射する方法および装置を提供する。
【解決手段】ある局面において、照射装置は、それぞれ第１端および第２端を有する光ファイバの束を含む。照射装置は、１つ以上の入射ビームを、光ファイバの１つ以上の対応する第１端に選択的に伝達することによって、選択された１つ以上の入射ビームがファイバの１つ以上の対応する第２端から出力されるようにする照射セレクタをさらに含む。照射装置は、ファイバの対応する１つ以上の第２端から出力された選択された１つ以上の入射ビームを受け取り、選択された１つ以上の入射ビームを試料に向けて導くレンズ構成も含む。レンズ構成およびファイバは、ファイバの第２端において試料の画像化平面を画像化するよう互いに対して構成される。ある局面において、入射ビームはレーザビームである。本発明の具体的な応用例において、試料は、半導体デバイス、半導体ウェーハ、および半導体レチクルからなるグループから選択される。 （もっと読む）

【課題】 透明な層間絶縁膜上の微細パターンおよび同一層の欠陥を感度良く検出する一方、下層のパターンおよび同一層の欠陥をデフォーカスした状態で検出し、本来検査したい工程の欠陥のみを検出可能とすること。
【解決手段】 本来同一形状となるべきパターンが複数規則的に配置された被検査物の検査装置において、解像度０．１８μｍ以下、より好ましくは０．１３μｍ以下となる照明波長と対物レンズ開口数の関係を備えた撮像光学系と、撮像光学系の結像位置に配置された光電変換器と 撮像光学系とは別に設けられた光路からなり入射角度８５度以上、より好ましくは８８度以上で照明する自動焦点光学系と、自動焦点光学系の検出信号に基づき撮像光学系の焦点位置を調節する手段と、光電変換器の電気信号を処理する手段とを、具備した構成をとる。 （もっと読む）