【課題】施工が容易で且つコストの低減を図ることが可能な放射性薬剤製造システムを提供する。
【解決手段】放射性薬剤製造システム１０は、粒子加速器２２を第１の放射線遮蔽体２４により被覆した自己シールド型粒子加速器２０と、自己シールド型粒子加速器２０に隣接して設けられており、第２の放射線遮蔽体３２により被覆され、粒子加速器２２で製造された放射性同位元素を用いて放射性薬剤を合成する合成装置３０と、第１の放射線遮蔽体２４と第２の放射線遮蔽体３２とが対面する範囲内で第１の放射線遮蔽体２４内と第２の放射線遮蔽体３２内とを接続し、粒子加速器２２から合成装置３０へ放射性同位元素を移送する原料移送管６０と、を備える。 （もっと読む）

【課題】簡単な構成でダンプターゲットを効率よく冷却することのできるビームダンプ装置の冷却構造を提供する。
【解決手段】ビームダンプ装置３０を設置する建屋１０の床１１及び壁１２の主筋１１ａ同士及び主筋１２ａ同士をそれぞれ結合用鋼線１１ｂ，１２ｂにより互いに結合し、更に、床１１のコンクリート内に、冷却フィン１３を埋設するとともに、上記主筋１１ａと上記冷却フィン１３とに、一端が床１１から建屋１０内に突出する連結用鉄筋１１ｊ，１３ｊの他端側が溶接等により取付けられ、この連結用鉄筋１１ｊ，１３ｊと、ダンプターゲット３１を支持する純鉄の板３２Ｐを積層した冷却部材３２とをフレキシブル部材３３に連結して、荷電粒子の衝突によりダンプターゲット３１に発生する熱を放熱するようにした。 （もっと読む）

【課題】ＢＮＣＴを行うにあたり、中性子を照射する自由度を向上させること。
【解決手段】この中性子発生装置は、高エネルギーの陽子が通過する陽子通路と、高エネルギーの陽子が照射されて中性子を発生するターゲット１とを備える。そして、ターゲット１の周囲には、陽子の照射によってターゲット１から発生した中性子を減速する中性子減速部３が複数配置される。また、中性子減速部３の外側には、ターゲット１から発生した中性子を反射させるとともに増倍させて、中性子減速部３へ導く反射体５が設けられる。 （もっと読む）

【課題】ＢＮＣＴを行うにあたり、中性子を照射する自由度を向上させること。
【解決手段】この中性子発生装置１０２は、高エネルギーの陽子が照射されて中性子を発生するターゲット１を備える。ターゲット１の周囲には、陽子の照射によってターゲットから発生した中性子を減速する中性子減速部３Ｂが配置される。また、中性子減速部３Ｂの外側には、ターゲット１から発生した中性子を反射させるとともに増倍させて中性子減速部３Ｂへ導く反射体５Ｂが設けられる。そして、中性子減速部３Ｂは、陽子の進行方向と平行なＹ軸の周りを回転する。 （もっと読む）

【課題】構造が簡単で管の接続／分離作業が迅速にできるベローズ伸縮装置を提供すること。
【解決手段】ベローズ伸縮装置は、伸縮する円筒形状のベローズ１３、ベローズの一端に気密に接続されたフランジ１１付きの第１の管１２、ベローズの他端に気密に接続されたフランジ１５付きの第２の管１４、第１の管と第２の管とを所定の軸方向距離において固定するクランプ装置２３〜２８、ベローズが伸縮しても第１の管と第２の管との軸が一致するように第１の管と第２の管との相対位置を規制するガイド装置２２、３１とを備える。レバー２６を回動するのみの操作によってベローズ伸縮装置を伸張した位置で固定できるので、チェーンクランプ装置１７の装着／分離が容易にでき、管の接続／分離作業が短時間でできる。 （もっと読む）

【課題】液体金属を貯蔵するターゲット容器高温部を低温にする作用ばかりではなく、ターゲット容器における低温部分を温度上昇させることにより、高温となる陽子ビーム入射窓部と容器の低温部分との温度差を是正し熱応力を低減し、構造における強度健全性を確保する。
【解決手段】陽子ビームをターゲット容器内に貯蔵された液体金属に照射して核破砕反応により中性子を発生させると共に、液体金属を循環流動させる中性子発生装置用液体金属ターゲットにおいて、ターゲット容器内の陽子ビームの照射部分を挟んで液体金属の流入側と流出側とに開口部が設けられ、核破砕反応により発生した熱エネルギを液体金属の流動により前記陽子ビームの入射部近傍の容器側壁低温部へ導き熱伝達し、容器低温部温度を上昇させることで、高温状態である入射窓部との温度差を低下させる液体金属の流れを調整する調整手段を設ける。 （もっと読む）

【課題】 中性粒子ビームのビーム径を広げ、基板上のより広い面積に粒子の堆積を行う
。
【解決手段】 中性粒子生成源として不活性ガスを満たしたクラスター生成容器５内で、
間欠的なレーザビームを材料の固体ターゲットに照射し、発生した材料蒸気の分子又は原
子同士の結合によりクラスター群を形成せしめ、形成されたクラスター群を、該クラスタ
ー生成容器５の容器窓７から中性粒子ビームとして流出せしめ、該中性粒子ビームの途中
において該中性粒子に対してビーム中央から外周に向かう力を作用させるガイド１１ａお
よびガス噴射口１２ａを設け、中性粒子の流れを変化させる。 （もっと読む）

【課題】被処理物に均一な密度の中性粒子ビームを照射することができる中性粒子ビーム処理装置を提供する。
【解決手段】中性粒子ビーム処理装置は、複数の孔４０が形成された構造体４２と複数の中性粒子ビーム生成機構５０とを有する中性粒子ビーム源を備えている。各中性粒子ビーム生成機構５０は、孔４０の内部のプラズマ領域Ｐにマイクロプラズマを発生させるマイクロプラズマ生成部５１と、マイクロプラズマ中のイオン１０２を中性化領域Ｎに引き出すイオン引出部５２と、引き出されたイオン１０２を中性化して中性粒子ビーム１０４を生成する中性化部５３とを有している。マイクロプラズマ生成部５１とイオン引出部５２と中性化部５３とは構造体４２に一体に形成されている。 （もっと読む）

【課題】間隔（ギャップ）を大きくしても高い磁場を発生することを可能にして、発生する磁場の強度の向上を図る。
【解決手段】複数の同寸法かつ同形状の超伝導体を一列に並べた一対の超伝導体配列１１０,１２０を所定の間隔を開けて対向して配置し、対向して配置した一対の超伝導体配列の間の間隙に周期的磁場を発生する磁場発生方法であって、一対の超伝導体配列の温度を超伝導転移温度より高い温度に保持した状態において、一対の超伝導体配列に同一の極性の一様な外部磁場を印加する第１のステップ（ａ）と、一対の超伝導体配列を冷却して、一対の超伝導体配列１１０,１２０の温度を超伝導転移温度より低くする第２のステップ（ｂ）と、一対の超伝導体配列に磁場を印加することを停止して、一対の超伝導体配列を着磁させる第３のステップ（ｃ）と、一対の超伝導体配列に極性とは逆の極性に磁場を印加する第４のステップ（ｄ）とを有する。 （もっと読む）

【課題】 高密度の中性粒子ビームを被処理物に照射することができ、被処理物の加工速度を向上させることができる中性粒子ビーム処理装置を提供する。
【解決手段】 中性粒子ビーム処理装置１０は、イオン生成室１４の内部にイオンを生成するイオン生成手段と、イオン生成室１４の内部のイオンを中性化室１６に引き出す引出手段と、引き出されたイオンを中性化して中性粒子ビームを生成する中性化手段とを備える。中性粒子ビーム処理装置１０は、中性粒子ビーム中に残留する荷電粒子を除去する荷電粒子除去手段と、中性粒子ビームが照射される被処理物１８を保持する保持台４８とを備えている。荷電粒子除去手段は、ビームの進行方向に垂直な方向に磁界を形成して荷電粒子の軌道を曲げる磁界形成手段と、軌道が曲げられた荷電粒子を捕捉する捕捉板６６とを有している。 （もっと読む）

【課題】本発明は、サイクロトロンのイオン源の寿命及び性能を改善する。
【解決手段】イオン源管（３００）は、該イオン源管（３００）の側面に沿って設けられたスリット開口部（３１０）を含み、スリット開口部（３１０）は、０．２９ｍｍよりも小さい幅を有する。イオン源管（３００）はまた、該イオン源管（３００）の端部内に設けられた端部開口部（３１４）を含む。端部開口部（３１４）は、イオン源管（３００）の内径よりも小さくかつ該イオン源管（３００）の中心軸線（３１６）からスリット開口部（３１０）の方に０〜１．５ｍｍほど偏位している。イオン源管（３００）は、プラズマ放電を収容する空洞（３１２）を含む。本発明はまた、イオン源管（３００）を製作する方法にも関する。 （もっと読む）

【課題】ＢＮＣＴに適した中性子を効率的に発生させること。
【解決手段】この中性子発生装置１００は、２０ＭｅＶ以上のエネルギーを持つ陽子が照射されて中性子を発生するターゲット１と、前記陽子の照射によって前記ターゲット１から発生した中性子を減速する中性子減速部３と、鉛で構成され、前記ターゲットから発生した前記中性子を反射させるとともに増倍させて前記中性子減速部３へ導く反射体５と、を含んで構成される。陽子は、例えばサイクロトロン等の加速器により、ターゲット１へ照射される。 （もっと読む）

【課題】 荷電粒子ビームの輸送範囲及び照射範囲を自在に変化させる。
【解決手段】 複数のリング状の磁石２１を、それらの中心部における開口部２１２が互いに所定の軌道Ｏ１を描くように連結して配列する。各磁石２１はその中心部において多極磁場を形成し、所定の荷電粒子ビームを複数のリング状磁石２１の開口部２１２を通じて輸送するようにビームファイバ２０を構成する。 （もっと読む）

【課題】 加速電圧が高い電子線照射装置の場合、絶縁性が強く要求されるから、大地側にモータ、高圧側に発電機を設け、それらの間を絶縁棒によって直結しモータによって発電機を廻して発電し交流電力を得てそれをトランスに通して適当な電流、電圧にしてフィラメントに与えてフィラメントを加熱し熱電子が出るようにしている。モータ、発電機のように回転するものがあると振動、騒音の原因になり高圧架台の装置や部品を劣化させることもある。絶縁棒は長く細い絶縁体の棒であるが、６０Ｈｚ〜５０Ｈｚ程度の低い回転数で回転させるので偏心したりすると破損する。絶縁棒の加工は難しいし取り付けも時間がかかる作業となる。
【解決手段】大地側に光源、高圧電位側に光発電パネルを設ける事により光伝送によって電子源フィラメント加熱用の電力を供給し、フィラメント加熱を行うようにする。 （もっと読む）

【課題】 プラズマを閉じ込めることができ、且つ、イオン引出分布を均一にすることができるプラズマイオン源装置を提供する。
【解決手段】 プラズマイオン源装置１に備えたリング状のカスプ磁石３−１〜３−１３のうち、イオン引出方向の下流端部に位置するカスプ磁石３−１３を補整磁石とし、この補整磁石の内径を他のカスプ磁石よりも大きくすることにより、放電容器２に対して補整磁石を他のカスプ磁石よりもイオン引出方向と垂直な方向へ遠ざけるようにして、補整磁石の前記垂直方向における位置を調整し、更には補整磁石のイオン引出方向における位置も調整することにより、イオン引出面における前記垂直方向の磁束密度分布がゼロ近傍の略均一な分布となるように調整した構成とする。 （もっと読む）