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Fターム[2H025AA04]の内容

フォトレジストの材料 (104,520) | 目的 (13,098) | 現像性・画像再現性 (1,814)

Fターム[2H025AA04]に分類される特許

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【課題】ポジ型レジスト組成物の基材成分として利用できる新規な高分子化合物、該高分子化合物のモノマーとして有用な化合物、前記高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分(A)、および露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分(A)が、下記一般式(a0−1)で表される構成単位(a0)を有する高分子化合物(A1)を含有する。
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【課題】分子量分布が狭い重合体の製造方法を提供することを目的とし、レジスト組成物に用いた場合に重合体の現像液への溶解性並びにレジスト組成物の解像度および焦点深度に優れた性能を発揮できるようにする。
【解決手段】反応開始前の反応容器中の、ヒドロキシ基含有エステルのみからなる重合溶媒(A)に、ヒドロキシ基含有エステルの含有量が40質量%以下の重合溶媒(B)、単量体、および重合触媒を供給し、溶液ラジカル重合を行うレジスト用重合体の製造方法。 (もっと読む)


【課題】本発明は、高さの異なる付加構造体の一括形成に用いた際、微細加工精度良く形成することが可能な樹脂組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】上記課題を解決するために、本発明は、半透過膜またはi線波長での解像限界以下の遮光膜パターンを有するフォトマスクを介して露光され、少なくともバインダー樹脂、光重合性モノマー、光重合開始剤、および溶剤からなる液晶表示装置用感光性樹脂組成物において、該感光性樹脂組成物が、バインダー樹脂/光重合性モノマーの重量比が40/60以上80/20以下、バインダー樹脂の重量平均分子量が10000以上100000以下、かつバインダー樹脂の酸価が50mgKOH/g以上75mgKOH/g以下であることを特徴とする感光性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】露光及び現像により感光性組成物の硬化物からなるパターン膜を基板上に形成した場合に、得られたパターン膜の柔軟性を高めることができ、従ってパターン膜の耐久性を高めることができる感光性組成物を提供する。
【解決手段】下記式(1)で表される少なくとも1種のシラン化合物を重合させることにより得られたシロキサンポリマーと、光重合開始剤とを含有し、上記式(1)で表される少なくとも1種のシラン化合物に、下記式(1)で表され、かつ下記式(1)中のpが2であるシラン化合物が含まれており、上記シロキサンポリマーの重量平均分子量が500〜60000の範囲内にあり、上記シロキサンポリマーの固形分酸価が5〜800KOHmg/gの範囲内にある感光性組成物。
Si(X)(R)4−p ・・・式(1)
上記式(1)中、Xは加水分解性基を表し、Rは炭素数1〜30の非加水分解性の有機基を表し、pは1〜4の整数を表す。 (もっと読む)


【課題】重合性化合物が短時間で効率的に重合し得る高感度かつ現像性が良好な感光性組成物等の提供。
【解決手段】バインダーと、重合性化合物と、熱硬化性化合物と、光重合開始剤と、増感剤とを含有し、重合性化合物がメタクリレート化合物から選ばれる少なくとも1種含有し、光重合開始剤が一般式(A−1)で表される化合物、増感剤が一般式(B−1)で表される化合物である感光性組成物。


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【課題】液浸露光用として好適なレジスト組成物、当該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法、および当該レジスト組成物に用いる添加剤として有用な含フッ素化合物の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)と、アルカリ現像液に対して分解性を示す一般式(c−1)[式中、Rは有機基であって、重合性基を含んでいてもよい。ただし、当該重合性基は、炭素原子間の多重結合を有するものであって、その炭素原子のいずれもが、式(c−1)における−C(=O)−の炭素原子に直接結合しない基である。Rはフッ素原子を有する有機基である。]で表される含フッ素化合物(C)とを含有することを特徴とする液浸露光用レジスト組成物。
[化1]
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【課題】本発明の目的は、低pHの現像液での現像処理でも、感度、現像性(画像形成能力、現像開始時間)に優れた、従って、作業性、安全性、環境適性にも優れた、ポジ型平版印刷版材料およびポジ型平版印刷版の画像形成方法を提供することにある。
【解決手段】アルミニウム支持体上に、少なくとも(A)重量平均分子量1000以上のフェノール性水酸基を有する高分子結合材、(B)光熱変換材、及び(C)25℃の純水に1質量%以上溶解する水溶性化合物を含有してなる感光層を設けてなるポジ型平版印刷版材料であって、全感光層組成分中に該(C)の水溶性化合物を20質量%以上含有し、且つ(C)/(A)≧1であることを特徴とするポジ型平版印刷版材料。 (もっと読む)


【課題】基材成分として低分子材料を含有する新規なポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分(A)、および露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分(A)が、下記フェノール化合物(I)における−OHの水素原子の一部または全部が酸解離性溶解抑制基含有基で置換された化合物(A1)を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。フェノール化合物(I):4つのトリフェニルメタン構造と、該4つのトリフェニルメタン構造を連結する4価の連結部とを有し、前記4つのトリフェニルメタン構造のうちの少なくとも1つが、少なくとも1つのフェノール性水酸基を有するフェノール化合物。 (もっと読む)


【課題】高いpHを有するアルカリ性現像液を必要とせず現像が可能で、保存性に優れかつ耐刷性に優れる平版印刷版材料およびこれを用いた平版印刷版の作製方法を提供する。
【解決手段】支持体上に、(A)光重合開始剤、(B)結合材、(C)重合可能な、エチレン性二重結合含有化合物及び(D)増感色素を含有する感光層を有する平版印刷版材料において、該(A)光重合開始剤が、ボレート化合物であり、該(D)増感色素が下記一般式(1)で表される化合物であることを特徴とする平版印刷版材料。
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【課題】プロセスウィンドウの向上したレジスト組成物および該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)、および露光により塩基を発生する塩基発生剤成分(C)を含有し、前記塩基発生剤成分(C)が、下記一般式(c1)[式中、Wはカルボニル基またはヒドロキシメチレン基であり、Rは置換基を有していてもよい1価の芳香族基または1価の脂肪族基であり、RおよびRは、それぞれ独立に、水素原子、置換基を有していてもよい1価の芳香族基または1価の脂肪族基であり、RおよびRは共に1つの2価の基を形成していてもよい。]で表される化合物(C1)を含有することを特徴とするレジスト組成物。
[化1]
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【課題】経時安定性に優れ、高感度で硬化し、加熱経時による着色を抑制しうる硬化膜を形成可能な光重合性組成物、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、および液晶表示素子を提供すること
【解決手段】(A1)下記一般式(I)で示される増感色素と、(A2)α−アミノケトン類及びアシルフォスフィンオキシド類からなる群より選択される重合開始剤と、(B)エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物と、(C)着色剤と、を含有する光重合性組成物である。下記一般式(I)中、Xは、O、S、又はNRを表し、Rは、水素原子、アルキル基、又はアシル基を表す。nは、0又は1を表す。R〜Rは、それぞれ独立に、水素原子、又は1価の置換基を示す。
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【課題】化学増幅型レジストとして好適に使用できかつ保存安定性に優れた感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】(A)下記一般式(1−1)または一般式(1−2)で表される酸発生剤と、(B)下記一般式(2)で表される酸拡散抑制剤と、(C)共重合体と、を含む感放射線性樹脂組成物である。
〔一般式(1−1)および(1−2)において、Rはアルキル基等、Mは1価のカチオンを示す。R1aおよびR1bは相互に独立に有機基等Yは2価の有機基等を示す。一般式(2)において、R、R、Rはアルキル基等である。〕
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【課題】液浸露光用として好適なレジスト組成物、当該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)と、下記一般式(c−1)で表される含フッ素化合物(C)とを含有することを特徴とする液浸露光用レジスト組成物(式中、Rは有機基であって、重合性基を含んでいてもよく;Xは酸解離性部位を有する二価の有機基であり;Rはフッ素原子を有する有機基である。);かかる液浸露光用レジスト組成物を用いて支持体上にレジスト膜を形成する工程、前記レジスト膜を浸漬露光する工程、および前記レジスト膜をアルカリ現像してレジストパターンを形成する工程を含むレジストパターン形成方法。
[化1]
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【課題】露光時に疎水性を有し、かつ、現像の際にレジスト膜表面の親水性が高くなる特性を有し、良好なレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分(A)、および露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有し、前記基材成分(A)は、一般式(a0−1)で表される基を含む構成単位(a0)を有する樹脂成分(A1)を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。一般式(a0−1)中、Rはメチル基、エチル基又はフッ素原子を有する有機基であり;−O−Rはアルカリ現像液の作用により解離する基であり、−C(=O)−の炭素原子は前記樹脂成分(A1)の主鎖に直接結合していないものとする。
[化1]
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【課題】ArFエキシマレーザー光等に対して高感度で、発生する酸(光発生酸)の酸性度が十分高く、かつレジスト被膜中での拡散長が適度に短く、またマスクパターンの疎密度への依存性が小さい新規な酸発生剤、当該酸発生剤を構成する新規なスルホン酸塩、当該酸発生剤から発生するスルホン酸、当該酸発生剤を合成する原料ないし中間体として有用なスルホン酸誘導体、並びに当該スルホン酸塩を製造するための方法を提供する。
【解決手段】下記一般式(1)で表される構造を有する酸発生剤によって、前記課題は解決する。


〔一般式(1)において、Rは置換もしくは非置換の炭素数1〜30の直鎖状もしくは分岐状の1価の炭化水素基、置換もしくは非置換の炭素数3〜30の環状もしくは環状の部分構造を有する1価の炭化水素基、置換もしくは非置換の炭素数6〜30のアリール基または置換もしくは非置換の炭素数4〜30の1価のヘテロ環状有機基を表す。〕 (もっと読む)


【課題】 ソルダーレジストインクから形成されたレジスト膜と同等以上に発光ダイオードの反射率を高めることができるとともに、表面平坦性やレジスト硬化・現像性に優れるレジストフィルムを提供すること。
【解決手段】下記(1)の処理を行った後の色差計反射モードでの測定において、波長430〜700nmの間で10nmおきに測定した分光反射率がすべて65%以上であるレジスト層を有することを特徴とするソルダーレジストフィルムである。
(1)全面に35μm厚の銅箔を有する1.6mm厚のFR−4銅張積層板をバフ研磨#600次いで#1000で1回ずつ整面した後、真空ラミネータでソルダーレジストフィルムをラミネートする。 (もっと読む)


【課題】支持体上に、ポジ型の第一の化学増幅型レジスト組成物を用いて1回目のパターニングを行い、第一のレジストパターンを形成した後、その上にさらに第二の化学増幅型レジスト組成物を用いて2回目のパターニングを行うダブルパターニングプロセスにおいて、第一のレジストパターンを損なうことなく2回目のパターニングを実施でき、微細なレジストパターンを形成できるレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】第一のパターニング工程で第一のレジストパターンが形成された支持体上に、第二の化学増幅型レジスト組成物を塗布して第二のレジスト膜を形成し、前記第二のレジスト膜を選択的に露光し、露光後ベーク処理を施し、現像してレジストパターンを形成する第二のパターニング工程における露光後ベーク処理を、前記第一のレジスト膜のアルカリ現像液に対する溶解性を増大させないベーク温度で行う。 (もっと読む)


【課題】レジスト用溶媒への溶解性に優れた重合体;ディフェクトが少なく、ラインエッジラフネスが小さいレジストパターンを形成できるレジスト組成物;および、欠陥の少ない高精度の微細なパターンが形成された基板を製造できる方法を提供する。
【解決手段】極性基を有する構成単位および酸脱離性基を有する構成単位を含むn種(n=2以上)の構成単位からなる重合体(P)であって、重合体(P)における各構成単位(Ui)(i=1〜n)の割合XUiと、サイズ排除クロマトグラフィー法によって重合体(P)に含まれる質量平均分子量以上の分子量の重合体(PH)をm個(m=4以上)に分画した各フラクションに含まれる重合体(PHj)(j=1〜m)における各構成単位(Ui)の割合XUijとが0.95≦XUij/XUi≦1.05を満足する。 (もっと読む)


【課題】 荷電粒子線によるレジストパターン形成において、PED、PCD等によって影響を受けることなく、微細で、かつ、正確なレジストパターンを形成するための方法を開発すること。
【解決手段】 基板に塗布されたレジスト上にスルホン酸基またはカルボキシル基を有する水溶性導電性ポリマー(A)および25℃における解離定数pKaが10以下である塩基性化合物(B)を含む導電性組成物を塗布して導電体を形成する導電性組成物塗布工程と、導電体を70〜140℃で加熱する加熱工程と、次いで導電体が形成された基板に荷電粒子線によりレジストパターンを形成する荷電粒子線照射工程を含むレジストパターン形成方法。 (もっと読む)


【課題】優れた感光特性を有し、アルカリ水溶液で現像可能であり、硬化に伴う収縮が十分に小さく、且つ、形成されるレジストパターンが優れた密着性及び耐熱衝撃性を有するポジ型感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】(A)ゴム状ポリマーによって変性されたフェノール樹脂と、(B)光により酸を発生する化合物と、(C)熱架橋剤と、(D)溶剤と、を含有するポジ型感光性樹脂組成物。 (もっと読む)


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