【課題】 簡単な組成で、しかも従来から慣用の光源のいずれも使用することができる、金属微粒子分散液からなるパターン形成用組成物、及びパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】 金属微粒子及びそれを分散状態に保つ分散剤を含む金属微粒子分散液からなる光感受性ネガ型パターン形成用組成物であって、前記分散剤が、それ自身が感光して金属微粒子から遊離し、分散状態の解除を引き起こすことができる光感受性分散剤であることを特徴とする、上記光感受性ネガ型パターン形成用組成物。 （もっと読む）

【課題】 高分子化合物自体として安定でありながら、光分解感度が優れ、しかも利用しやすい化合物を利用した光分解性高分子化合物の製造方法を提供すること。
【解決手段】 ニトロ置換ベンジル基が末端に導入された高分子化合物に、開環重合開始剤の存在下、環状モノマーを開環付加重合反応させることにより、環状モノマーとしては環状エーテル化合物、環状エステル化合物、環状チオエーテル化合物、環状アミド化合物、環状シロキサン化合物が挙げられる、光分解性高分子化合物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】より簡便に表面の改質を行うことができる方法、基板の製造方法および電子装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】基体１１に、電子供与体１２Ｄと電子受容体１２Ａとを結合させ、その後、基体１１に対して所定のパターンで光を照射して、光が照射された光照射領域１２１内において、電子供与体１２Ｄから電子受容体１２Ａへの電子移動を生じさせることにより、電子供与体１２Ｄおよび電子受容体１２Ａのうちのいずれか一方の構造の一部を切断・除去し、光照射領域１２１と光が照射されない光未照射領域１２２とにおいて、電子供与体１２Ｄと電子受容体１２Ａとの存在比率を変化させ、これにより、光照射領域１２１と光未照射領域１２２とで性質が異なる基板１を製造する。 （もっと読む）

本発明は、リソグラフィー・パターニング法を提供する。この方法は、パターニングされるべき表面に、ポリマー樹脂、化学線に露光されて触媒を発生させる光触媒発生剤、および失活剤を有するフォトレジストを塗布する工程と、該フォトレジストを、マスクパターンを通して化学線に露光する工程と、露光後焼き締め（ＰＥＢ）を行う工程と、その後、現像液内で溶解性になったフォトレジストの一部を除去するため、現像液を用いて前記フォトレジストを現像する工程とを有する。前記ポリマー樹脂は、前記化学線に露光される前では、前記現像液に実質的に不溶性であり、かつ、前記触媒の作用によって、また、前記露光後焼き締め中の前記失活剤の作用によって、前記現像液内で溶解性になるか、あるいは、前記ポリマー樹脂は、前記化学線に露光される前では、前記現像液内で溶解性であり、かつ、前記触媒の作用によって、また、前記露光後焼き締め中の前記失活剤の作用によって、前記現像液内で実質的に不溶性になるかのいずれかである。
（もっと読む）

【課題】インク流路壁となる被覆樹脂層を形成する際に、溶解力の強い溶媒を用いてもインク流路パターンの形崩れのおそれがない、高品位のインクジェットヘッドの製造方法、該製造方法で製造されたインクジェットヘッドを提供する。
【解決手段】エネルギー発生素子が設けられた基板面上に、第一の波長域の電離放射線の照射により分子間架橋反応が進行し、第一の波長域と異なる第二の波長域の電離放射線の照射により主鎖分解型の分子崩壊反応を生じる感光性樹脂組成物層を形成し、第一の波長域の電離放射線の照射及び現像処理によりインク流路パターンを形成する。そして、その上にインク流路壁となる被覆樹脂層を形成し、インク吐出口を形成後、第二の波長域の電離放射線を照射してインク流路パターンを形成している感光性樹脂組成物層を溶解除去する。 （もっと読む）