【課題】 対象基材上に、絶縁樹脂組成物の塗膜による被覆層が、テープ基材の剥離によっても接着性および電気絶縁性が劣化せず、その特性が維持された状態で形成される被覆層形成方法の提供。
【解決手段】 被覆層形成方法は、テープ基材上に粘着膜が形成された保護テープを用い、対象基材の一面上に、その粘着膜が前記対象基材の一面上に接触する状態に保護テープを貼り合わせる工程と、粘着膜に熱または光を与えて気体を発生させた後、テープ基材を粘着膜から剥離する工程とを、この順に行って粘着膜による被覆層を対象基材の一面上に形成する方法であって、粘着膜が、熱または光を受けることにより気体を発生する気体発生剤を含有する絶縁樹脂組成物の塗膜よりなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】透明性、耐熱性、耐熱変色性、基板への密着性及び電気特性に優れ、現像性、保存安定性の良好な感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】下記の［Ａ］、［Ｂ］及び［Ｃ］を含む感性樹脂組成物である。［Ａ］（ａ１）ヒドロキシフェニル（メタ）アクリレート、（ａ２）不飽和エポキシ化合物を共重合成分として含む共重合体、［Ｂ］ジメチルフェノール、トリメチルフェノール、メチルプロピルフェノール、ジプロピルフェノール、ブチルフェノール、メチルブチルフェノール、ジブチルフェノール、４，４'−ジヒドロキシ−２，２'−ジフェニルプロパンから選ばれる１種または２種以上のフェノール類を含むノボラック樹脂、［Ｃ］キノンジアジド基含有化合物。 （もっと読む）

【課題】
高耐熱性・高解像度・高感度・高残膜率を両立したフォトレジスト用クレゾール樹脂および、それから得られるレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】
ビフェニレン基及びキシリレン基から選ばれる少なくとも１つの２価のアリーレン基を架橋基に持つクレゾール型重合体単位（ｎモル）と、クレゾール・ホルムアルデヒド重合体単位（ｍモル）を共に有し、両者の重合度のモル比（ｍ／ｎ）を９７／３−７０／３０としたクレゾール樹脂および該樹脂を含有する組成物により解決される。 （もっと読む）

【課題】露光されて水と反応することで可溶化される光反応成分を含有するフォトレジストを用いて、フォトレジスト層や各種の基材に微細な凹凸形状を安定して精度よく形成することが可能な凹凸形状の形成方法を提供する。
【解決手段】露光されて水と反応することで可溶化される光反応成分を含有するフォトレジストを基材１１上で固化して、厚さ５μｍ以上のフォトレジスト層１３を形成し（Ｓ２０）、フォトレジスト層１３を露光及び現像することで凹凸形状２０、３０を形成する方法であり、フォトレジスト層１３を形成後、フォトレジスト層１３を所定温度及び所定湿度に保たれた調湿環境内に、所定時間保持した後、露光する。 （もっと読む）

【課題】より高感度でマスク忠実性の高い厚膜用化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物と、当該フォトレジスト組成物を用いた厚膜レジストパターンの製造方法を提供する。
【解決手段】支持体上に、厚膜フォトレジスト層を形成するために用いられる厚膜用化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物であって、電磁波または粒子線を含む放射線照射により酸を発生する酸発生剤（Ａ）と、酸の作用によりアルカリに対する溶解性が増大する樹脂（Ｂ）と、を含有する。酸発生剤（Ａ）は、カチオン成分としてジフェニル［４−（フェニルチオ）フェニル］スルホニウムカチオンと、アニオン成分としてテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートアニオンとを含む。 （もっと読む）

【課題】スリット塗布を行った後減圧乾燥または真空乾燥による方法を用いることなく自然乾燥した場合にも、短時間の乾燥で、塗布ムラがなく、塗布膜厚が均一で、露光、現像後のレジストパターンの形状が良好な感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】感光性樹脂組成物として、アルカリ可溶性ノボラック樹脂、キノンジアジド基を含んだ感光剤およびプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（Ａ）と沸点が１４５℃以下かつ酢酸ｎ−ブチル蒸発速度が５０以上の溶剤（Ｂ）との混合溶剤を含む感光性樹脂組成物を用い、これを基板上にスリットコーティングし、減圧乾燥または真空乾燥による方法を用いることなく乾燥し、その後露光、現像することによりレジストパターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】微細なレジストパターンを形成するためにレジスト膜と基板との密着性を良好に維持しつつも、レジスト膜の現像後の残渣の発生を少なく抑えることができるポジ型レジスト組成物、及びこれを用いたレジストパターンの形成方法を提供すること。
【解決手段】（Ａ）アルカリ可溶性ノボラック樹脂、（Ｂ）感光剤、及び所定の（Ｃ）ベンゾトリアゾール系化合物を含有するポジ型レジスト組成物は、所定のベンゾトリアゾール系化合物を含有するため、レジスト膜と基板との密着性が良好に維持され、微細なレジストパターンを形成可能であると共に、レジスト膜の現像後においても、残渣の発生を少なく抑えることができる。 （もっと読む）

【課題】無機物の微細パターンを安定に形成することを可能にするポジ型感光性ペーストを提供する。
【解決手段】有機成分と無機粉末を含むポジ型感光性ペーストであって、有機成分として少なくともアルカリ可溶性樹脂、光酸発生剤、およびヒンダードフェノール化合物を含むことを特徴とするポジ型感光性ペーストである。また、有機成分と無機粉末を含むポジ型感光性ペーストであって、アルカリ可溶基が酸で脱離する基で保護されている樹脂および光酸発生剤、またはアルカリ可溶基がアルカリで脱離する基で保護されている樹脂および光塩基発生剤を含み、さらにヒンダードフェノール化合物を含むことを特徴とするポジ型感光性ペーストである。 （もっと読む）

【課題】厚膜でも無機物の微細パターン形成が可能なポジ型感光性ペーストを提供する。
【解決手段】ノボラック樹脂、ウレタン化合物、光酸発生剤および無機粉末を含むポジ型感光性ペーストであって、該ノボラック樹脂と該ウレタン化合物の合計量に対し、該ノボラック樹脂を９０〜９９質量％、該ウレタン化合物を１〜１０質量％含有することを特徴とするポジ型感光性ペーストである。 （もっと読む）

【課題】 １０μｍ以上の厚膜でも均一性の高い感光性樹脂膜を形成でき、解像性、密着性、アルカリ現像液に対する充分な現像速度、メッキ液耐性に優れ、メッキ工程中の感光性樹脂膜のクラック発生や欠けも低減でき、剥離性に優れるバンプ形成用材料として好適な厚膜形成に適するポジ型感光性樹脂組成物及びこれらを用いたバンプの製造方法を提供する。
【解決手段】
（Ａ）アルカリ可溶性ノボラック樹脂、（Ｂ）炭素数４〜１００の不飽和炭化水素基を有する化合物で変性されたフェノール樹脂、（Ｃ）光により酸を生成する化合物を含有するポジ型感光性樹脂組成物であって、前記（Ｂ）成分の含有量が、前記（Ａ）成分と前記（Ｂ）成分の総量に対して５〜５０質量％であるポジ型感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】優れた形状のパターンを形成し得るポジ型感光性組成物を提供する。
【解決手段】バインダー樹脂、キノンジアジド化合物、硬化剤、光酸発生剤、色素及び溶剤を含有し、前記光酸発生剤が式（Ｉ）で表される化合物であることを特徴とするポジ型感光性組成物〔式（Ｉ）中、Ｒ¹はＣ_6-20アリール基を示す。Ｒ²は、直鎖状、分枝鎖状若しくは環状のＣ_1-20脂肪族炭化水素基、Ｃ_6-20アリール基、Ｃ_7-10アラルキル基、又はＣ_5-10複素環基を示す。〕。
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【課題】従来と同じプロセスで成膜可能で、その反射防止膜は効果的に露光光の反射を防止し、更に、高いドライエッチング速度を兼ね備え、微細パターン形成に有用である有機反射防止形成材料を提供する。
【解決手段】一般式(１)で示される繰り返し単位を１種以上有し、露光波長における消光係数(ｋ値)が０．０１〜０．４、屈折率(ｎ値)が１．４〜２．１の範囲の高分子化合物(Ａ)と、芳香環を有し、露光波長における消光係数(ｋ値)が０．３〜１．２の範囲の高分子化合物(Ｂ)とをそれぞれ１種以上含有する反射防止膜形成材料。
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【課題】厚膜でも無機物の微細パターン形成が可能なポジ型感光性ペーストを提供する。
【解決手段】アルカリ可溶性樹脂、光酸発生剤ならびに無機粉末を含むポジ型感光性ペーストであって、該アルカリ可溶性樹脂がアクリル樹脂を５〜４０質量％の範囲内、およびノボラック樹脂を６０〜９５質量％の範囲内で含有することを特徴とするポジ型感光性ペーストとする。 （もっと読む）

【課題】塗膜全体にわたって均一で、高品質な塗膜を形成することができる感光性樹脂組成物及びそれを用いた表示装置等を提供することを目的とする。
【解決手段】染料（Ａ）、バインダー樹脂（Ｂ）、感光剤（Ｃ）、硬化剤（Ｄ）及び溶剤（Ｅ）を含み、前記溶剤（Ｅ）が、乳酸エチル、プロピレングリコールモノメチルエーテル及びジアセトンアルコールからなる群から選ばれる少なくとも２種の溶剤を含む溶剤であるポジ型感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】エッチング耐性に優れ、ドライエッチングプロセスにおいて折れ曲がり難く、レジストパターンを忠実に再現性よく被加工基板に転写することが可能な下層膜を形成することができるレジスト下層膜形成用組成物を提供する。
【解決手段】アルデヒド基及び水酸基の少なくともいずれかを有するピレン骨格を含むノボラック樹脂と有機溶媒とを含有するレジスト下層膜形成用組成物。 （もっと読む）

【課題】パターン転写性（特に、ＲＩＥでのレジスト曲がり耐性）に優れた下層膜を形成する可能なレジスト下層膜形成用組成物を提供する。
【解決手段】２つ以上のフェノール性水酸基、及び、アルキルチエニル基を有する芳香族環を繰り返し構造単位として含むノボラック樹脂（Ａ）と、有機溶剤（Ｂ）と、を含有するレジスト下層膜形成用組成物。 （もっと読む）

【課題】 良好な感度・解像度を有し、高耐熱性で高残膜性をもち、その他特性についても汎用のものより劣ることのないフォトレジスト用樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 フェノール類とアルデヒド類とを酸触媒の存在下、１１０−２２０℃の温度下で反応して得られるハイオルソノボラック型フェノール樹脂とポリアミドフェノール樹脂、ナフトキノンジアジド誘導体、溶媒を含有することを特徴とするフォトレジスト用樹脂組成物であって、ハイオルソノボラック型フェノール樹脂とポリアミドフェノール樹脂の比率（ｗｔ）が９５：５から５０：５０であり、フェノール類がメタクレゾールとパラクレゾールの混合物であり、メタクレゾールとパラクレゾールの比率が６０：４０から３０：７０であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】赤外線レーザによる画像形成が可能であり、画像部の耐薬品性、耐傷性に優れた強固な被膜を形成しうるとともに、非画像部における現像性、現像ラチチュードが良好であり、さらに、現像後に高温で加熱処理した場合に、著しく耐刷性が向上する平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】支持体上に、（Ａ）側鎖にヒドロキシ基を有する（メタ）アクリルアミド構造単位を有する高分子化合物を含有する下層と、（Ｂ）側鎖にカルボキシル基を有するマレイミド構造単位を有する高分子化合物、及び（Ｃ）光を吸収して熱を発生する化合物を含有する記録層と、を順次備える平版印刷版原版。 （もっと読む）

【課題】画像部の耐薬品性、耐傷性に優れ、さらには、現像後に高温で加熱処理した場合、著しく耐刷性が向上する赤外線レーザ用感光性平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】親水性表面を有する支持体上に、下記一般式（Ｉ）で示される重合性モノマーに由来する単位を少なくとも有する共重合体及び赤外線吸収剤を含有する下層と、ホスホン酸基及び燐酸基から選ばれる少なくともいずれかの基を側鎖に有する高分子化合物を含有する上層と、をこの順に有することを特徴とする。


式中、Ｒ^１は水素原子またはメチル基を、Ｒ^２はメチレンまたはエチレンを、Ｒ^３は水素原子またはメチル基を、ＸはＯまたはＮＨを表わす。 （もっと読む）

【課題】高感度で、２００℃以下の低温焼成によって機械的強度と屈曲性に優れた硬化膜を得ることのできるポジ型感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（ａ）アルカリ可溶性ポリイミド樹脂、（ｂ）ノボラック樹脂、（ｃ）熱架橋性化合物、（ｄ）光酸発生剤、（ｅ）溶剤を含有するポジ型感光性樹脂組成物であって、（ｃ）熱架橋性化合物の含有量が、樹脂（ａ）および（ｂ）の総量１００重量部に対して１５〜８０重量部であり、（ｃ）熱架橋性化合物が少なくとも（ｃ１）一般式（１）で表される化合物またはその縮合体、および（ｃ２）下記一般式（２）で表される化合物またはその縮合体を含有し、（ｃ１）と（ｃ２）の含有量比（ｃ１）／（ｃ２）が５０／５０〜９０／１０（重量比）であるポジ型感光性樹脂組成物。
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