【課題】本発明は、層間電気絶縁材料、光導波路、プリント配線板、特にフレキシブルプリント配線板用途でのフォトソルダーレジストまたはカバーレイフィルムとして要求される、ポリイミド、銅基盤への密着性、ファインパターンを実現できる現像性、ハンダ耐熱性、絶縁性、耐薬品性等の諸物性と、可撓性・耐折性を両立した感光性難燃樹脂組成物の提供を目的とする。
【解決手段】カルボキシル基とエチレン性不飽和基とを有するウレタン樹脂（Ａ）と、
体積平均粒子径が０．１〜１μｍの範囲であるホスフィン酸塩（Ｂ）をウレタン樹脂（Ａ）１００重量部に対して、５〜５０重量部含んでなることを特徴とする感光性難燃樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】レジスト組成物用の酸発生剤として有用な化合物、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有し、酸発生剤成分（Ｂ）は式（ｂ１−１）で表される化合物からなる酸発生剤（Ｂ１）を含有するレジスト組成物。［式中、Ｒ^１”〜Ｒ^３”はそれぞれ独立に置換基を有していてもよいアリール基又はアルキル基を表し、少なくとも１つは水素原子の一部が式（ｂ１−０−０１）で表される基で置換された置換アリール基であり、Ｗは炭素数２〜１０の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基である。］
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【課題】新規な化合物、当該化合物を用いた酸発生剤、当該酸発生剤を含有するレジスト組成物およびこれを用いたレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）と、式（ｂ１−１）で表される化合物を含む酸発生剤成分（Ｂ）とを含有するレジスト組成物；式中、Ｒ^１”〜Ｒ^３”はアリール基又はアルキル基を表し、その少なくとも１つは式（ｂ１−１−０）で表される基で置換された置換アリール基であり、いずれか２つが相互に結合して式中のイオウ原子と共に環を形成してもよい。Ｘ^１０は炭素数１〜３０の炭化水素基、Ｑ^３は単結合又は２価の連結基、Ｙ^１０は−Ｃ（＝Ｏ）−又は−ＳＯ_２−、Ｙ^１１は炭素数１〜１０のアルキル基又はフッ素化アルキル基である。Ｗは炭素数２〜１０のアルキレン基である。］
［化１］
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【課題】感光性組成物の粘度上昇、ゲル化の抑制をより簡便かつ汎用的な手段で可能とする感光性組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）酸性基を有する樹脂を有する感光性有機成分、（Ｂ）少なくともアルカリ金属またはアルカリ土類金属を有する無機粉末、（Ｃ）有機溶剤を混合して得られる感光性組成物、および（Ｄ）少なくとも１種の油溶性キレート形成化合物を含有することを特徴とする感光性組成物。 （もっと読む）

【課題】透明基板上に少なくとも赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、および青色（Ｂ）の３色の着色画素を備えたカラーフィルタの表面を平坦化させるために塗布される、熱硬化性オーバーコート層との密着性が良好で、剥離試験によっても全く剥がれの無い、カラーフィルタ着色層用感光性樹脂組成物およびカラーフィルタを提供することを課題としており、また、液晶配向乱れのない表示特性良好な液晶表示装置を提供する。
【解決手段】光重合性モノマーと非感光性樹脂および／又は感光性樹脂との含有質量比率（モノマー／樹脂）が、０．３５以上、１．２以下であり、光照射及び／又は焼成によって硬化した後の塗布膜の水との接触角が、８０度以上、１００度以下となる緑色感光性着色組成物を用いる。 （もっと読む）

【課題】レジスト組成物用酸発生剤として好適な化合物からなる酸発生剤を含有するレジスト組成物及び該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、及び一般式（ｂ１−１）で表される化合物からなる酸発生剤（Ｂ１）を含む露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物。
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【課題】ノンハロゲン組成で環境負荷が少ないと共に難燃性及び保存安定性が共に優れ、可撓性に富む硬化皮膜を形成できる難燃性光硬化性樹脂組成物、そのドライフィルム及び硬化物、並びにこれらによりソルダーレジスト等の難燃性硬化皮膜が形成されてなるプリント配線板を提供する。
【解決手段】難燃性光硬化性樹脂組成物は、（Ａ）カルボキシル基含有樹脂、（Ｂ）上記カルボキシル基含有樹脂（Ａ）又はそのワニスに５ｗｔ％以上可溶である可溶性ホスファゼン化合物、及び（Ｃ）光重合開始剤を含有する。好ましくは、上記カルボキシル基含有樹脂（Ｂ）はカルボキシル基含有ポリウレタン樹脂である。好適にはさらに（Ｄ）光重合性モノマーを含有し、あるいはさらに（Ｅ）熱硬化性樹脂を含有する。このような難燃性光硬化性樹脂組成物、特に熱硬化性樹脂（Ｅ）を含有する光硬化性・熱硬化性樹脂組成物は、ソルダーレジストとして好適に用いることができる。 （もっと読む）

【課題】露光の際、効果的に反射を防止し、さらに段差基板上に塗布される際にも表面が平滑な膜を形成できるとともに、上層に塗布されるレジストとのインターミキシングが抑制され、さらに、露光部がアルカリ現像液により容易に除去可能な下層膜用重合体を提供する。
【解決手段】下層膜用重合体は、２以上のポリマー鎖が酸の作用により切断可能な官能基を含む連結基で結合されており、且つ吸光性基を有する繰り返し構造単位を少なくとも１種含有する架橋ポリマーからなる。この下層膜用重合体において、酸の作用により切断可能な官能基はアセタール構造を有しているのが好ましい。 （もっと読む）

【課題】レジスト材料の溶解性に優れた液浸露光用レジスト組成物、該液浸露光用レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法および当該液浸露光用レジスト組成物に用いる添加剤として有用な含フッ素化合物を提供すること。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）および含フッ素樹脂成分（Ｆ）を有機溶剤（Ｓ）に溶解してなり、含フッ素樹脂成分（Ｆ）は、フッ素原子を含む構成単位（ｆ１）と、親水性基含有脂肪族炭化水素基を含む構成単位（ｆ２）と、第３級アルキル基含有基又はアルコキシアルキル基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ｆ３）とを有することを特徴とする液浸露光用レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】本発明は、多層レジスト法（特には２層レジスト法及び３層レジスト法）において、レジスト上層膜であるフォトレジスト層より下層を形成するために用いられ、該下層形成後はアルカリ現像液に不溶又は難溶となるレジスト下層膜材料であって、耐ポイゾニング効果が高く、環境への負荷の少ないレジスト下層膜を提供する。
【解決手段】リソグラフィーで用いられる多層レジスト法において、レジスト上層膜であるフォトレジスト層より下層を形成するために用いられ、該下層の形成後はアルカリ現像液に不溶又は難溶となるレジスト下層材料であって、該レジスト下層材料は、少なくとも、熱酸発生剤を含み、該熱酸発生剤は、１００℃以上の加熱により下記一般式（１）で示される酸を発生するものであることを特徴とするレジスト下層材料。
ＲＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＦ_２ＳＯ_３⁻Ｈ^＋ （１） （もっと読む）

【課題】液浸露光フォトレジスト膜において、アルカリ可溶性樹脂と併用するＳｉ原子及び／又はＦ原子を有する化合物の働きを、更に高めたフォトレジスト膜用トップコート組成物、及び該レジスト膜用トップコート組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】成分（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、成分（Ｂ）Ｓｉ原子及び／又はＦ原子を有する化合物、成分（Ｃ）沸点１７５℃未満の溶剤、及び、成分（Ｄ）下記式（１）で表される添加剤を含有することを特徴とするレジスト膜用トップコート組成物、及びパターン形成方法。


（前記式（１）において、Ｒ₁及びＲ₂はそれぞれ独立に炭素数４〜６のアルキル基を表し、Ｘは炭素数１〜４のアルキレン基又は−（Ｃ＝Ｏ）−Ｙ−（Ｃ＝Ｏ）−基を表し、Ｙは炭素数１〜４のアルキレン基を表す。） （もっと読む）

【課題】ノンハロゲン化による環境面が考慮され、優れた難燃性を備え、絶縁信頼性が良好で、難燃成分の析出が抑制されたカバー絶縁層を形成することのできるフレキシブルプリント配線回路基板用の感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）（メタ）アクリル酸アリルの（メタ）アクリロイル基に９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナントレン−１０−オキサイドが付加した化合物の残基で表される構造単位とカルボキシル基を含有する線状重合体、（Ｂ）エチレン性不飽和基含有重合性化合物、（Ｃ）光重合開始剤、（Ｄ）熱硬化性化合物を含有する感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】水の後退角が大きいレジスト膜を与えることが可能な重合体、及び、これを配合したフォトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】１分子内に少なくとも２個のトリフルオロメチル基と、式（１）で表される１価の不飽和環状基と、水酸基とを有する単量体に由来する構造単位を含有する重合体。酸の作用によりアルカリ可溶性に変化するフォトレジスト樹脂、酸発生剤、及び、前記重合体を含有するフォトレジスト組成物。


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【課題】凹凸の大きい遮光性レリーフ層を有するフォトマスクに適用する場合であっても、表面平滑性に優れた透明保護膜を形成しうるフォトマスク用ハードコート組成物、該組成物を用いてなるハードコート層を有するフォトマスクを提供すること。
【解決手段】重合性化合物（Ａ）と、フッ素含有化合物及び／又はシリコン含有化合物（Ｂ）と、重合開始剤（Ｃ）と、を含有し、フッ素含有化合物及び／又はシリコン含有化合物（Ｂ）の含有量が組成物の総量に対して０．１質量％〜３．０質量％である、紫外線硬化型或いは熱硬化型のフォトマスク用ハードコート組成物、並びに、パターニングしてなる遮光性レリーフ層上に、前記フォトマスク用ハードコート組成物を塗設してなるハードコート層と、を有するフォトマスク。 （もっと読む）

【解決手段】（Ａ）式（１）の繰り返し単位を有する高分子化合物、（Ｂ）酸の作用によりアルカリ現像液に可溶となる高分子化合物、（Ｃ）高エネルギー線の露光により酸を発生する化合物、（Ｄ）有機溶剤を含有するレジスト材料。


【効果】本発明により、環状アセタール構造を有する新規高分子添加剤を用いたレジスト材料が提供される。この高分子材料は撥水性、滑水性、脂溶性、酸分解性、加水分解性など各種性能の調整が可能である。 （もっと読む）

【解決手段】式（１）で表される繰り返し単位を有する高分子化合物。


（Ｒ¹は水素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基、Ｘは一般式（Ｘ−１）〜（Ｘ−３）で表されるいずれかの構造を表す。（Ｘ−１）の中でＲ^2a、Ｒ^2b、Ｒ^3a、Ｒ^3bは一価の有機基、Ｒ⁴はアルキル基、（Ｘ−２）の中でＲ^5a、Ｒ^5b、Ｒ^6a、Ｒ^6b、Ｒ^7a、Ｒ^7bは一価の有機基、（Ｘ−３）の中でＲ^8a、Ｒ^8b、Ｒ^9a、Ｒ^9bは一価の有機基で、繰り返し単位（１）の−（Ｃ＝Ｏ）−Ｏ−結合にＲ^2a〜Ｒ^3b、Ｒ^5a〜Ｒ^7b、Ｒ^8a〜Ｒ^9bのいずれかが連結する。）
【効果】この高分子材料は波長２００ｎｍ以下の放射線に対して優れた透明性を有し、樹脂の構造の選択により撥水性、滑水性、脂溶性、酸分解性、加水分解性など各種性能の調整が可能であり、かつ入手及び取り扱いが容易な原料からの製造が可能である。 （もっと読む）

【課題】絶縁膜を形成する際の基板の反りが抑えられ、且つ優れた解像性、電気絶縁性等を有するネガ型感光性絶縁樹脂組成物、及びこれが硬化されてなる硬化物を提供する。
【解決手段】（Ａ）ヒドロキシスチレン系構造単位（ａ１）と、アルキルビニルエーテル系構造単位（ａ２）とを有するブロック共重合体、（Ｂ）分子中に２個以上のアルキルエーテル化されたアミノ基を有する化合物（ｂ１）、オキシラン環含有化合物（ｂ２）及びオキセタニル環含有化合物（ｂ３）から選ばれる少なくとも１種の化合物、（Ｃ）光感応性酸発生剤、（Ｄ）溶剤、を含有するネガ型感光性絶縁樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】密着性の高い、品質の良好なブラックマトリクス（または遮光膜）を形成することができるブラックレジスト用感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（ａ）ウレイド基を含有するシランカップリング剤、（ｂ）黒色有機顔料、混色有機顔料及び遮光材からなる群から選ばれる１以上の遮光成分を含有する遮光性分散液、（ｃ）エポキシ基を２個以上有する化合物と、（メタ）アクリル酸との反応物を更に多塩基酸カルボン酸又はその無水物と反応させて得られた不飽和基含有樹脂、（ｄ）少なくとも１個以上のエチレン性不飽和結合を有する光重合性モノマー、及び（ｅ）光重合開始剤を含有することを特徴とするブラックレジスト用感光性樹脂組成物である。 （もっと読む）

【課題】ポジ型レジスト組成物の基材成分として有用な新規な高分子化合物、該高分子化合物のモノマーとして有用な化合物、前記高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）(メタ)アクリロイルオキシ有機酸とビシクロラクトン化合物から誘導される特定の構成単位（ａ０）、および該構成単位（ａ０）に該当しない、ラクトン含有環式基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ２）を有し、かつその構造中に酸解離性溶解抑制基を含む高分子化合物（Ａ１）を含有する。 （もっと読む）

【課題】レジスト組成物用の酸発生剤として有用である新規な化合物、該化合物の前駆体として有用である化合物、酸発生剤、レジスト組成物、およびレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】一般式（Ｉ）で表される化合物。一般式（ｂ１−１）で表される化合物。式中、Ｑ^１は二価の連結基又は単結合であり；Ｙ^１は置換基を有していてもよいアルキレン基又は置換基を有していてもよいフッ素化アルキレン基であり；Ｘは置換基を有していてもよい炭素数３〜３０の環式基を表し、該環構造中に−ＳＯ_２−結合を有する。Ｍ^＋はアルカリ金属イオンである。Ａ^＋は有機カチオンである。
［化１］
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