【課題】エッチング耐性に優れた下層膜を形成することができるレジスト下層膜形成用組成物を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表わされる繰り返し単位を有する化合物及び有機溶媒を含有するレジスト下層膜形成用組成物。但し、下記一般式（１）中、Ｘは所定の基、ｎは０または１である。
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【課題】反射防止膜を使用したレジストパターニング工程におけるパターニング性に優れる半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の半導体装置の製造方法は、半導体ウェーハ１０上に第１の反射防止膜１１を形成する工程と、第１の反射防止膜１１上に第２の反射防止膜１２を形成する工程と、第２の反射防止膜１２上にレジスト膜１３を形成する工程と、レジスト膜１３を選択的に露光する工程と、この露光後にレジスト膜１３及び反射防止膜１１、１２を現像する工程と、この現像により得られたレジスト膜１３のパターンをマスクに半導体ウェーハ１０に対する処理を行う工程とを備え、第１の反射防止膜１１の感光剤濃度は第２の反射防止膜１２の感光剤濃度よりも高い。 （もっと読む）

【課題】本発明は、多層レジスト法（特には２層レジスト法及び３層レジスト法）において、レジスト上層膜であるフォトレジスト層より下層を形成するために用いられ、該下層形成後はアルカリ現像液に不溶又は難溶となるレジスト下層膜材料であって、耐ポイゾニング効果が高く、環境への負荷の少ないレジスト下層膜を提供する。
【解決手段】リソグラフィーで用いられる多層レジスト法において、レジスト上層膜であるフォトレジスト層より下層を形成するために用いられ、該下層の形成後はアルカリ現像液に不溶又は難溶となるレジスト下層材料であって、該レジスト下層材料は、少なくとも、熱酸発生剤を含み、該熱酸発生剤は、１００℃以上の加熱により下記一般式（１）で示される酸を発生するものであることを特徴とするレジスト下層材料。
ＲＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＦ_２ＳＯ_３⁻Ｈ^＋ （１） （もっと読む）

【課題】組成物中において経時変化により発生する異物が増加することがなく保存安定性に優れており、且つ、レジスト膜との密着性及びレジストパターンの再現性に優れると共に、現像液及びレジスト除去時の酸素アッシングに対して十分な耐性を有するシリコン含有膜を形成可能な多層レジストプロセス用シリコン含有膜形成用組成物を提供する。
【解決手段】本シリコン含有膜形成用組成物は、ポリシロキサン（Ａ）並びに有機溶媒（Ｂ）を含有しており、有機溶媒（Ｂ）として、アルコール系有機溶媒（Ｂ１）を１〜５０質量％、及び式（２）で表される有機溶媒（Ｂ２）を１〜３０質量％〔但し、有機溶媒（Ｂ）全体を１００質量％とする〕含むことを特徴とする多層レジストプロセス用シリコン含有膜形成用組成物。


〔式（２）において、ｍは１〜３の整数を示す。〕 （もっと読む）

【課題】パターン転写性（特に、ＲＩＥでのレジスト曲がり耐性）に優れた下層膜を形成する可能なレジスト下層膜形成用組成物を提供する。
【解決手段】２つ以上のフェノール性水酸基、及び、アルキルチエニル基を有する芳香族環を繰り返し構造単位として含むノボラック樹脂（Ａ）と、有機溶剤（Ｂ）と、を含有するレジスト下層膜形成用組成物。 （もっと読む）

【課題】液晶パネルによりパターン形状の明暗分布を指定して、それをレチクルやマスクの代替として露光するとき、波長２００〜４１０ｎｍの遠紫外光〜短波長可視光の範囲に主たる感光波長帯を有するレジストは感光させることができなかった。
【解決手段】波長２００〜４１０ｎｍの遠紫外光〜短波長可視光の範囲に主たる感光波長帯を有する下層レジスト上にアルカリに溶解する金属膜、その上に液晶パネルを透過して明暗差が大きくとれる波長４２０ｎｍ〜５３０ｎｍの青色可視光を用いて感光させることができる上層レジストを積層する。上層レジストを液晶パネルに指定したパターン形状に感光させてアルカリ現像すると、金属膜もパターン化され、波長２００〜４１０ｎｍの遠紫外光〜短波長可視光を当てると、該金属膜パターンが遮光マスクとして働き、下層レジストに該パターンを転写できる。 （もっと読む）

【課題】
薄膜でありながら高い遮光性と耐傷性を有する感熱マスク層を持つ感光性フレキソ印刷原版を提供する。
【解決手段】
少なくとも（Ａ）支持体、（Ｂ）感光性樹脂層、（Ｃ）保護層、（Ｄ）感熱マスク層が順次積層されてなる感光性フレキソ印刷原版であって、（Ｄ）感熱マスク層が、カーボンブラックと、その分散バインダーとしてブチラール樹脂及び極性基含有ポリアミドとを含有することを特徴とする感光性フレキソ印刷原版。 （もっと読む）

【課題】レジスト残渣を低減し、加工精度を向上させたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】被加工膜１上に下層膜２を形成する工程と、下層膜２上に、酸により脱保護する保護基を含むシリコン含有中間膜３を形成する工程と、シリコン含有中間膜３上にレジスト膜４を形成する工程と、レジスト膜４の所定領域を露光する工程と、現像液を用いて前記レジスト膜を現像する工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】弾性回復率に優れる硬化物を形成可能な感光性樹脂組成物、弾性回復率に優れるフォトスペーサ及びその製造方法、並びに、表示ムラを抑制可能な表示装置用基板及びそれを用いた表示装置の提供。
【解決手段】光重合性モノマー、バインダー及び光重合開始剤を少なくとも含む感光性樹脂組成物において、前記光重合性モノマーの５０質量％以上が、二重結合基数が０．２ｘ１０^−３ｍｏｌ／ｇ以上４．５ｘ１０^−３ｍｏｌ／ｇ未満のウレタンアクリレートである感光性樹脂組成物、この感光性樹脂組成物を用いて形成されたフォトスペーサ及びその製造方法、並びに、このフォトスペーサを備えた表示装置用基板及び表示装置。 （もっと読む）

【課題】良好な形状を有する微細なパターンを得ることのできるダブルパターニングを用いたパターン形成方法を提供することにある。
【解決手段】基板１０１上に下層膜１０２、中間層膜１０３を形成した後、第１のレジスト膜１０４を用いた１回目のパターン露光、及び第２のレジスト膜１０７を用いた２回目のパターン露光で形成されたレジストパターンを中間層膜１０３に転写し、さらに中間層パターン１０３ｂをマスクに下層膜１０２をエッチングして下層膜パターン１０２ｂを形成する。ここで、下層膜１０２は、フッ素系の界面活性剤又は無機のナノパーティクルを添加物として含み、酸素系プラズマに対する耐性が付与されている。 （もっと読む）

【課題】原画フィルムを必要としないでシャープな凸状のレリーフ像を形成することが可能で、取扱い性に優れた感光性印刷版原版を提供すること。
【解決手段】少なくとも、順次、支持体、感光層、バリア層およびマスク層を有する感光性印刷版原版において、バリア層が波長３４０ｎｍ〜３８０ｎｍの光に対し実質透明であり、かつ波長２４０ｎｍ〜３００ｎｍの光に対して吸収を有することを特徴とする感光性印刷版原版。バリア層の波長３４０ｎｍ〜３８０ｎｍの光に対する吸光度が０．１０以下であり、かつバリア層の波長２４０ｎｍ〜３００ｎｍの光に対する吸光度が０．１５以上であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】圧着（ラミネート）時のエア（気泡）の巻き込みを防止し、現像後の欠け欠陥の発生を抑止する。
【解決手段】仮支持体上に、該仮支持体側から順に、少なくとも熱可塑性樹脂層と感光性樹脂層とを有しており、前記感光性樹脂層は、少なくとも色材、バインダーポリマー、モノマー、及び重合開始剤を含み、Ｔｇ（ｂ）×（Ｍｗ（ｂ）／１００００）≧２１５（数式（１））〔Ｔｇ（ｂ）：バインダーポリマーのガラス転移温度［℃］、Ｍｗ（ｂ）：バインダーポリマーの重量平均分子量〕を満たすと共に、前記モノマーの該感光性樹脂層中における含有量が該感光性樹脂層の全固形分の３５質量％以下である感光性転写材料である。 （もっと読む）

【課題】短波長の露光において、最適なｎ値、ｋ値を有し、かつ基板エッチング条件でのエッチング耐性と段差基板上での埋めこみ特性にも優れている、３層レジストプロセス用レジスト下層膜材料を提供する。
【解決手段】リソグラフィーで用いられる３層レジスト膜のレジスト下層膜材料であって、少なくとも、下記一般式（１）で示される繰り返し単位を有する高分子化合物と、有機溶剤を含み、酸発生剤及び架橋剤を含有しないことを特徴とするレジスト下層膜材料。
【化２６】
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【課題】形成したパターン画像上面の撥水性及び撥インク性を保持しつつ、該パターン画像と基板との密着性を良好に保つことができる樹脂組成物を提供する。
【解決手段】１）開始剤と２）バインダーと３）エチレン性不飽和化合物とを含む樹脂組成物であって、（ａ）フッ素原子を３つ以上有する繰り返し単位と（ｂ）下記一般式（Ｂ）で表される繰り返し単位とを有する含フッ素化合物とを更に含む樹脂組成物とする。


一般式（Ｂ）中、Ｒ^２１、Ｒ^２２はそれぞれ独立に水素原子又は炭素数１〜５のアルキル基を表し、Ｌ^２１は単結合又は２価の有機連結基を表し、Ｘは塩素原子、臭素原子又は沃素原子を表し、Ｙはアリーレン基、２価のヘテロ環残基又はカルボニル基を表す。 （もっと読む）

【課題】短波長の露光光に対する反射率が低く、酸素プラズマやフッ化炭素系ガス等に対するエッチング耐性にも優れた下層膜を形成するための下層膜用組成物、及びこの下層膜用組成物を用いた多層レジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】フォトレジスト膜の下層に下層膜を形成するために用いられる下層膜用組成物に、下記一般式（１）で表される構成単位（Ａ１）と、下記一般式（２）で表される構成単位（Ａ２）とを含む共重合体を含有させる。


［式中、Ｒ^１、Ｒ^３は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ^２はナフチレン基又はアントリレン基を表す。］ （もっと読む）

【課題】ソルダーレジスト材の露光を短時間で行うことが可能であり、また、従来と同じソルダーレジスト材を用いてレーザーにより露光を行うことが可能なレジストパターンの形成方法の提供。
【解決手段】プリント配線板３にカバーフィルム６に表面が覆われた紫外線感光性のソルダーレジスト膜７を形成し、ソルダーレジスト膜７の上方に紫外線を遮断し可視光感光性のレジスト膜８を形成し、可視光レーザー１０により露光し、レジスト膜８にレジストパターン１１を露光し、水で現像してレジスト膜８の硬化膜でレジストパターン１１によるマスクパターンを形成し、次いで、紫外線により、前記マスクパターンをマスクとして、ソルダーレジスト膜７にソルダーレジストパターン５を露光し、弱アルカリ現像液で現像し、プリント配線板３にソルダーレジスト膜７の硬化膜によるソルダーレジストパターン５を形成する。 （もっと読む）

【課題】短波長の露光において、最適なｎ値、ｋ値を有し、かつ基板エッチング条件でのエッチング耐性にも優れ、例えば、珪素含有２層レジストプロセス、あるいは珪素含有中間層による３層レジストプロセスといった多層レジストプロセス用レジスト下層膜として有望なレジスト下層膜材料を提供する。
【解決手段】リソグラフィーで用いられる多層レジスト膜のレジスト下層膜材料であって、少なくとも、下記一般式（１）で示される繰り返し単位を有する重合体を含むものであることを特徴とするレジスト下層膜材料。
【化３５】
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【課題】高速でラミネートしてもシワの発生が抑えられ、良好な画像を形成し得る感光性熱転写材料を提供する。
【解決手段】仮支持体の片面に少なくとも１層の感光性熱転写層を有する感光性熱転写材料であって、前記仮支持体の感光性熱転写層を有する側と反対側のバック面の表面粗さが０．００８μｍ〜０．０５μｍであることを特徴とする感光性熱転写材料である。バック面の表面粗さは０．０１〜０．０４５μｍとすることがより好ましく、０．０２５から０．０４０μｍとすることがより好ましい。 （もっと読む）

【課題】 凹凸追従性と高解像度とが両立され、かつ、欠陥のない高精細なパターンを効率よく形成可能なパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び前記パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】 支持体上にクッション層と感光層とをこの順に有し、該クッション層における全光線透過率が８６％以上、かつ、ヘイズ値が１０％以下であることを特徴とするパターン形成材料である。該パターン形成材料を備えたパターン形成装置である。該パターン形成材料を用いて露光するパターン形成方法である。 （もっと読む）

【課題】フォトレジスト膜の良好なパターン形成が可能である熱硬化性ケイ素含有膜形成用組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）無機酸及びスルホン酸誘導体から選ばれる化合物を酸触媒として用いて加水分解性ケイ素化合物を加水分解縮合することにより得られるケイ素含有化合物の反応混合物から上記酸触媒を実質的に除去する工程を経て得ることのできるケイ素含有化合物、（Ｂ）式（１）又は（２）の化合物、 Ｌ_aＨ_bＸ （１）（式中、ＬはＬｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｒｂ又はＣｓ、ＸはＯＨ、又は有機酸基であり、ａは１以上、ｂは０又は１以上で、ａ＋ｂは水酸基又は有機酸基の価数である。） ＭＡ （２）（式中、Ｍはスルホニウム、ヨードニウム又はアンモニウム、Ａは非求核性対向イオン。）（Ｃ）炭素数が１〜３０の有機酸、（Ｄ）有機溶剤、を含む熱硬化性ケイ素含有膜形成用組成物。 （もっと読む）