【課題】カラーフィルタの着色層を製造するに際して、乾燥工程でのモヤムラやピンムラの発生が抑制され、均一な硬化性組成物層を効率よく形成しうるカラーフィルタ用着色硬化性組成物層の形成方法、該方法により得られた着色層を有するカラーフィルタ、及び、液晶表示装置を提供する。
【解決手段】顔料、アルカリ可溶性樹脂、重合性化合物、光重合開始剤、および溶剤を含み、固形分比率が１２質量％以上１６質量％以下である硬化性組成物を、基板上にスリットコーターを用いて、乾燥後の膜厚が２．４μｍ以上３．５μｍ以下となるように塗設して硬化性組成物塗布層を形成する塗布工程、及び、塗布後の硬化性組成物塗布層を備えた基板を、真空乾燥装置を用いて、真空乾燥開始から２０秒後の到達真空度が１０００Ｐａ以下となる条件で乾燥して硬化性組成物層を形成する乾燥工程を有するカラーフィルタ用着色硬化性組成物層の形成方法。 （もっと読む）

【課題】長期間保管した後においても、表面張力が増加せず、ストリエーションの発生等の問題を生じることのない塗布膜形成用組成物及びこれを用いたレジストパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】レジスト膜に直接接する被膜を形成するための塗布膜形成用組成物であって、少なくとも（ａ）膜形成成分、（ｂ）酸性成分、及び（ｃ）界面活性剤を含有し、且つ前記塗布膜形成用組成物の調製直後からの表面張力の経時変化量が６０℃において、０．２０ｍＮ／ｍ・ｄａｙ以下である塗布膜形成用組成物。 （もっと読む）

【課題】レジスト膜との良好なマッチング特性を有するレジスト下層膜を形成することが可能なレジスト下層膜形成用組成物を提供する。
【解決手段】本発明に係るレジスト下層膜形成用組成物は、下記一般式（１）で示される繰返し単位を有するシロキサンポリマー成分を含有することを特徴とする。
（式（１）中、Ｒ^１は、水素原子又は１価の有機基であり、Ｒ^２は、電子吸引性基を有する１価の有機基である。繰返しにおける複数のＲ^１同士又はＲ^２同士は互いに異なっていてもよい。ａは、０又は１である。） （もっと読む）

【課題】顔料を含有する硬化性組成物の除去性能に優れた硬化性組成物除去液を提供する。
【解決手段】顔料を含有する硬化性組成物の除去液であって、（Ａ）脂環式ケトン類および（Ｂ）一般式（１）で示されるグリコールジアルキルエーテル類を含有し、化合物（Ａ）の含有量が除去液全体に対して３０質量％以上であることを特徴とする硬化性組成物除去液。
Ｒ^１−Ｏ−［Ｃ_ｎＨ_２ｎ−Ｏ］_２−Ｒ^２ （１）
（式中、Ｒ^１およびＲ^２は、それぞれ独立に、アルキル基を表し、ｎは正の整数である) （もっと読む）

【課題】ＭＥＭＳの作製に好適な被膜形成方法を提供する。
【解決手段】第１の塗布工程ではホットプレート４によって塗布液を加熱してリフローする。この加熱処理によって、塗布液は下方に下がり、少なくとも凹部の底部から壁部の中間深さ位置に至るまで被膜７を形成することができる。そして、第２の塗布工程では、スプレーノズルから噴霧された塗布液９は、凹部の底部までは届きにくいため凹部の中間深さ位置から凸部３の上面に至るまでの領域に被膜１０が形成され、この被膜１０をベークする。この被膜１０と前記被膜７によって、凹部の全面に均一な厚さの被膜１１が形成される。 （もっと読む）

【課題】レジスト膜との密着性に優れ、レジストパターンの再現性を向上させるとともに、現像等に用いられるアルカリ液及びレジスト除去時の酸素アッシングに対して耐性を有し、レジスト材料の染み込み量が少ないレジスト下層膜を形成することができ、且つ保存安定性に優れるレジスト下層膜用組成物を提供する。
【解決手段】本レジスト下層膜用組成物は、下記一般式（１）で表される構成単位を含有するポリシロキサンと、溶剤と、を含む。


（Ｘは、置換されていてもよいメチレン基、又は置換されていてもよい炭素数２〜５の直鎖状若しくは分岐状のアルキレン基を表す。） （もっと読む）

【課題】反射防止膜としての機能を有するとともに、パターン転写性能、エッチング選択性、及びインターミキシング防止効果が良好なレジスト下層膜を形成可能な下層膜形成用組成物を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表される繰り返し単位（Ｒ^１は水酸基等、ｎは０〜６の整数、Ｘは炭素数１〜２０の置換可能なアルキレン基等、ｍは１〜８の整数をそれぞれ示す）を必須の構成単位として有し、その他の特定の繰り返し単位を更に有する重合体（Ａ）を含有する下層膜形成用組成物である。
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【課題】装置の設備コスト及び設置スペースを削減し、スループットを向上させ、薬液の使用効率も向上させることが可能な薬液の塗布固化装置を提供する。
【解決手段】被処理体Ｗの表面に薬液を塗布して固化させる塗布固化装置２において、外部の搬送機構７０によって被処理体が搬出入される搬出入口１０を有する処理容器４と、処理容器内に設けられて被処理体を載置する載置台２４と、搬出入口を開閉する開閉シャッタ部１２と、搬出入口の外側に設けられて被処理体の表面に薬液を塗布する塗布機構４４と、処理容器に設けられて被処理体の表面に塗布された薬液を固化させて薄膜を形成する固化手段２６とを備える。これにより、薬液の塗布機能と塗布された薬液を固化する固化機能とを一体化した装置で行うようにし、この結果、装置の設備コスト及び設置スペースを削減する。 （もっと読む）

【課題】彫刻感度が高く、レーザー彫刻により直接製版が可能なレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版、及び該レリーフ印刷版原版を用いたレリーフ印刷版の製造方法、並びにそれにより得られたレリーフ印刷版を提供すること。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（Ｉ）で表される部分構造及び下記一般式（ＩＩ）で表される部分構造の少なくとも１種を有するバインダーポリマーを少なくとも含有するレーザー彫刻用樹脂組成物である。Ｑは、−Ｑ−Ｈとなったときの酸解離定数（ｐＫａ）が０以上２０以下である部分構造を表し、Ｒ^１〜Ｒ^３はそれぞれ独立に水素原子又は１価の有機基を表し、Ａ及びＢはそれぞれ独立に２価の有機連結基を表す。
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【課題】搬送時間を軽減することによって、基板処理のスループットを向上させることを目的とする。
【解決手段】（＋Ｘ）方向に直線状に伸びる第１の基板処理セクション１０１および第３の基板処理セクション１０３の両側に搬送ユニット１３ａ，１３ｂ、搬送ユニット１９ａ，１９ｂをそれぞれ配置する。また、搬送ユニット１３ａ，１３ｂの走行路である搬送用路１３１ａ，１３１ｂの端部に、一対の塗布処理ユニット１４ａ，１４ｂが設けられる。そして搬送ユニット１３ａ，１３ｂは、基板９０を塗布処理ユニット１４ａ，１４ｂにそれぞれ搬入する。当該搬入された基板９０は、搬送ユニット１５によって搬出される。また、搬送ユニット１３ｂは、搬送ユニット１３ａに対して、所定の動作数分遅れて、相同の搬送動作を行う。 （もっと読む）

【課題】彫刻感度が高く、レーザー彫刻により直接製版が可能なレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版、及び該レリーフ印刷版原版を用いたレリーフ印刷板の製造方法、並びにそれにより得られたレリーフ印刷板を提供すること。
【解決手段】（Ａ）アセチレン化合物、及び（Ｂ）バインダーポリマーを少なくとも含有するレーザー彫刻用樹脂組成物、それを用いたレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版、レリーフ印刷版及びレリーフ印刷版の製造方法。 （もっと読む）

【課題】
バリア性を示すレジスト下層膜を形成するための組成物、及びレジスト下層膜のバリア性を適当な数値に換算して評価する方法を提供する。
【解決手段】
バリア性を示すレジスト下層膜を形成するための組成物は、少なくとも１つのヒドロキシル基が結合した芳香族環を有する化合物と有機溶媒と架橋剤を含む。そして、所定の条件で第１のレジスト下層膜単層をベークする際に発生する昇華物の量、第２のレジスト下層膜単層を所定の条件でベークして形成する際に発生する昇華物の量、及び第１のレジスト下層膜上に第２のレジスト下層膜を所定の条件でベークして形成する際に発生する昇華物の量を定量した結果を用いて、第２のレジスト下層膜のバリア性を評価する。 （もっと読む）

【課題】フォトリソグラフィ工程において、感光硬化型樹脂組成物の溶液を基板に塗布すると基板周辺部の感光硬化型樹脂組成物の膜厚が基板内側部より厚くなる。このために、周辺部の該膜厚肥厚部を未露光にしても、基板内側部の硬化パターンの断面形状が好ましい順台形となる現像方法では、該肥厚部に現像残りが発生してしまう。
【解決手段】前記感光硬化型樹脂組成物として、予備加熱の温度を高くすると現像速度が低下するものを用い、また前記肥厚部よりも肥厚部以外の部分を温度の高い条件で予備加熱し、さらに前記肥厚部の現像残りがなく、また前記所定の硬化パターンの垂直横断面形状が所定の形状になるまで現像する。 （もっと読む）

【課題】レジスト膜との密着性に優れ、レジストパターンの再現性を向上させるとともに、現像等に用いられるアルカリ液及びレジスト除去時の酸素アッシングに対して耐性を有するレジスト下層膜を形成することができ、且つ、保存安定性に優れたレジスト下層膜用組成物を提供する。
【解決手段】本レジスト下層膜用組成物は、下記式（１）で表される繰り返し単位、及び下記式（２）で表される繰り返し単位を含有する樹脂と、溶剤と、を含む。
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【課題】集積回路製造のための上塗りのフォトレジスト層と共に使用されるのに有用な反射防止コーティング組成物の提供。
【解決手段】第１の態様では、有機コーティング組成物が提供され、特にはスピンオン反射防止コーティング組成物であって、ポリエステル樹脂成分を有するものが提供される。さらなる態様においては、多ヒドロキシ化合物の重合により得られる樹脂成分を含むコーティング組成物が提供される。 （もっと読む）

【課題】液晶用カラーフィルタの製造効率を高め、歩留りを向上させる。
【解決手段】透明基板３にブラックマトリクス１０を形成し、その上に部分的に重なり合うようにマイクロカラーフィルタ１２を形成する。両者がオーバーラップする部分に大きな突起を生じさせず、かつブラックマトリクスの端縁で遮光性が劣化したり膜剥がれが生じないようにブラックマトリクス１０の断面形状を調節する。この調節のために、ポストベーク前の薄膜材料層に適切な奥行き長さをもったアンダーカット部分が形成されるように、プリベーク温度及び、パターン露光後の現像処理の条件を設定する。 （もっと読む）

【課題】多層フォトレジストプロセスのための熱可塑性ポリエステル抗反射コーティングを提供する。
【解決手段】高い光学密度、迅速なプラズマエッチ速度、好ましい溶媒における高い溶解性、優秀な像被覆面積、および改良された溶媒中安定性を示す、熱硬化性下層適用性ポリマー抗反射コーティングについて記載する。これらの新規反射コーティングの主成分は、二官能性脂肪族カルボン酸の一種もしくはそれ以上と二−および／または三官能性脂肪族第一アルコールの化学量論的過剰量との反応により製造されたポリエステル樹脂であって、ジカルボン酸の少なくとも一種が反応性メチレン基（−ＣＨ₂−）を含み得るものであ
る。該樹脂に存在する反応性メチレン基（存在する場合は）および／またはヒドロキシ基の幾つか、または全てに吸光基を結合させることにより、得られたポリエステル樹脂反応生成物を更に変性する。適当な溶媒系で、上記染料が結合したポリエステル樹脂をアミノプラスト架橋剤および酸触媒と組み合わせ、最終抗反射コーティングを形成させる。 （もっと読む）

【課題】短波長の露光において、最適なｎ値、ｋ値を有し、かつ基板エッチング条件でのエッチング耐性と段差基板上での埋めこみ特性にも優れている、３層レジストプロセス用レジスト下層膜材料を提供する。
【解決手段】リソグラフィーで用いられる３層レジスト膜のレジスト下層膜材料であって、少なくとも、下記一般式（１）で示される繰り返し単位を有する高分子化合物と、有機溶剤を含み、酸発生剤及び架橋剤を含有しないことを特徴とするレジスト下層膜材料。
【化２６】
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【課題】エッジフュージョン（端面融着）がなく、かつタック性及び経時での性能安定性に優れ、フィルム化が容易で、高精細な永久パターン（保護膜、層間絶縁膜、及びソルダーレジストパターンなど）を効率よく形成可能な感光性組成物、感光性フィルム、感光性積層体、前記感光性積層体を用いた永久パターン形成方法、及び前記永久パターン形成方法により永久パターンが形成されるプリント基板の提供。
【解決手段】バインダー、重合性化合物、光重合開始剤、エラストマー、及び熱架橋剤を含み、前記バインダーが、酸性基とエチレン性不飽和結合とを側鎖に有する高分子化合物を含む感光性組成物等である。前記バインダーが、酸性基と、ヘテロ環を含んでもよい芳香族基と、エチレン性不飽和結合とを側鎖に有する高分子化合物を含む態様、などが好ましい。 （もっと読む）

【課題】塗布・乾燥後において、表面荒れや乾燥ムラを防止することができ、溶解特性や蒸発特性に優れた着色感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）光重合性化合物、（Ｂ）光重合開始剤、（Ｃ）着色剤、及び（Ｓ）溶剤を含有する着色感光性樹脂組成物であって、前記（Ｓ）溶剤は、１００℃における重量変化率が１０ＴＧ％以下であり、大気圧下における沸点が２００℃以上２５０℃以下である少なくとも１種の（Ｒ）難揮発性溶剤を含有する着色感光性樹脂組成物。 （もっと読む）