【課題】光学高分子構造体の内部にフェムト秒レーザを照射し、加熱により、レーザ照射部と非照射部との屈折率差を大きくする光学素子の製造方法を提供する。また、回折効率の高い光学素子および伝播損失の少ない光導波路を有する光学素子を提供する。
【解決手段】本発明の光学素子の製造方法は、パルス幅が１０^-15秒〜１０^-11秒のフェムト秒レーザを光学高分子構造体の内部に照射することにより、照射部の屈折率を変化させるレーザ照射工程と、加熱を行なう加熱工程とを含み、加熱工程は、加熱温度を絶対温度でＴとし、光学高分子構造体を構成する材料のガラス転移点の絶対温度をＴ_gとするとき
、０．８≦Ｔ／Ｔ_g≦１．１３の条件で加熱することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】光学素子を出射面に垂直な軸を中心として９０°回転させても、光の回折特性が変化しない光学素子及びその光学素子を備えた光源ユニットを提供する。
【解決手段】柱状突起３が平面視で４回回転対称の配列とされている。 （もっと読む）

【課題】 Ｘ線タルボ干渉計を構成する位相型回折格子及び振幅型回折格子を安定的に供給可能な製造方法を提供する。
【解決手段】基板６に形成されているネガ型のＸ線感光性樹脂３０に、Ｘ線透過部とＸ線吸収部とを備えるＸ線マスク３１を用いてＸ線を照射する。そして、前記Ｘ線透過部を通過したＸ線、及び、前記Ｘ線吸収部を通過することによって通過前の１／５０以上１／１０以下となるように強度が低下したＸ線によって、Ｘ線感光性樹脂３０を露光する（露光工程）。そして、非露光部分３４を除去することによって、基板上に樹脂壁３６を形成するとともに、隣り合う樹脂壁３６の先端同士を接続する膜状の架橋部３５を形成する（現像工程）。その後、前記架橋部３５を除去するとともに（除去工程）、電鋳法により、前記樹脂壁と樹脂壁との間にＸ線吸収金属部１１を形成する（電解メッキ工程）。 （もっと読む）

【課題】位置合わせなしに回折構造による絵柄と金属層による絵柄の位置が合った回折構造形成体を製造できる方法を提供する。
【解決手段】基材表面の一部に回折構造を形成する工程と、前記回折構造が形成された表面全面に金属層を形成し、前記金属層の全面にレーザー光を万線状または網点状に照射し、回折構造における吸収を利用して回折構造上の金属層の一部を選択的に破壊する工程と、前記回折構造が形成された表面全面にフォトレジストを形成し、露光光を金属層の一部が選択的に破壊された部分を通すことによって生じた回折光を前記フォトレジストに照射して前記回折構造上のフォトレジストを硬化させ、現像して前記回折構造を覆うレジストパターンを形成する工程と、前記レジストパターンをマスクとしてエッチングを行い、前記回折構造以外の部分の金属層を除去する工程とを有する回折構造形成体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】フォトセンサ素子によって得られる受光データのＳ／Ｎ比を向上する。
【解決手段】回折格子部ＫＫによって回折された回折光を、第１のフォトセンサ素子３２ａが受光し受光データを生成する。そして、そのフォトセンサ素子によって生成された受光データに基づいて、位置検出部４０２が被検知体の位置を検出する。 （もっと読む）

【課題】 高い回折効率が得られ、しかも透過率が良く、成形時及び成形後の形状安定性に優れた回折光学素子を得ること。
【解決手段】 基板上に中間層を介してベース部、回折格子が形成された素子部を少なくとも１つ有する回折光学素子であって、該ベース部と該回折格子は同じ材料より成り、該回折格子と該中間層の材料の消光係数を各々Ｋａ、Ｋｂを各々適切に設定すること。
なる条件を満たすこと。 （もっと読む）

【課題】耐光性を高め得ると共に回折効率を高速に変化させ得るようにする。
【解決手段】可変回折格子１０は、周期ｃの格子ｇ１１が形成された回折格子１１の格子面１１Ａと周期ｃの格子ｇ１２が形成された回折格子１２の格子面１２Ａとを対向させ、ｚ方向に関して格子ｇ１１及び格子ｇ１２の山状部分同士の位置を揃えた第１状態では、ｚ方向から入射する光ビームに対し（１）式により表される位相深さφ１の回折格子として作用する一方、回折格子１１が回折格子１２に対し周期ｃの半分である幅ｈだけｘ方向へ移動され格子ｇ１１及び格子ｇ１２の山状部分と谷状部分との位置を互いに対応させた第２状態では、（３）式により表される位相深さφ２の回折格子として作用することにより、それぞれ異なる回折効率の回折格子として作用することができる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、基材表面の一部領域にパターン状の微細な凹凸構造形成体表面の非金属反射領域と、この微細な凹凸構造形成体を除く基材表面の金属反射領域とを有し、高速で高精細な加工が可能とする、セキュリティ光学デバイスの製造方法およびそのセキュリティ光学デバイスを提供することを課題とする。
【解決手段】基材表面の一部領域に微細な凹凸構造形成体、もしくは、微細な凹凸構造形成体と回折構造形成体とを組み合わせて形成し、該基材表面の全面に金属反射層を形成した後、前記微細な凹凸構造形成体表面の金属反射層のみをレーザ光により選択的に除去することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】青色レーザ光に対する耐光性が良好であって、他の重合性液晶性化合物との相溶性にも優れた液晶性化合物を提供する。
【解決手段】下記一般式で表され、Ｐ^１およびＰ^２の少なくとも一方は、アクリル酸基またはメタクリル酸基を含み、また、これらの少なくとも一方は、トランス−１，４−シクロヘキシレン基を含むオクタフルオロビフェニレン環を有する液晶性化合物。この液晶性化合物は、ベンゼン環にフッ素を含まない比較化合物よりも、短波長側まで低いモル吸光係数を示す。また、他の重合性液晶性化合物との相溶性にも優れている。
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【課題】赤外、近赤外、および可視の領域だけでなく紫外領域でも使用でき、高い屈折率に起因して高い設計の自由度を有し、レリーフ面の凹部が他の材料で埋められても回折機能が失われず、さらにハイパワーレーザ用途でも安定して使用し得るレリーフ型回折光学素子を提供する。
【解決手段】 レリーフ型回折光学素子は、光回折を生じさせる凸部と凹部を含むレリーフ面を有し、回折される光が通過すべき領域の少なくとも部分的領域の材質がダイヤモンドであることを特徴としている。なお、そのダイヤモンドの消衰係数は、波長５２０ｎｍの光に関して０．０２１以下の値を有し、波長２５０ｎｍの光に関して０．０１０以下の値を有することが好ましい。 （もっと読む）

【課題】累進部の両側に設けられた中間部側方に集中して生じる非点収差を低減することができる眼鏡レンズを提供する。
【解決手段】遠用部１Ａ、近用部１Ｂ、これらの遠用部１Ａと近用部１Ｂとの間で屈折力が累進的に変化する累進部１Ｃ、及び累進部１Ｃの両側に設けられた中間部側方１Ｄを備える。中間部側方１Ｄには回折構造４が設けられ、この回折構造４の縦軸ｙと横軸ｘとで異なるピッチとした。つまり、回折構造４を、フィッティングポイントＦＴに法線が通過するとともに互いに平行に配置された複数の直線から構成する。 （もっと読む）

【課題】ワーク外周面又は内周面に対して、ワーク表面に周期構造体の最適パターン模様を形成する方法と装置を提供する。
【解決手段】フェムト秒レーザＬＯをシャッタＳＴを介してレーザ加工ヘッド２０へ導き、レーザ加工ヘッドに回転可能に備えた第一回転筒体の筒内のλ/ ２板により直線偏光させ、第一回転筒体４１に対して軸芯Ｏ１を合わせて回転可能に設けられた第二回転筒体内の集光レンズＲ３と反射ミラーとによりフェムト秒レーザを集光しつつ外径方向に進ませ、反射ミラーの外周囲にワーク回転駆動部のチャック手段に把持された円筒ワークＷの加工面Ｗ１を対面させてフェムト秒レーザを照射させ、旋回駆動手段により上記λ/ ２板Ｐを備えた第一回転筒体を反射ミラーを備えた第二回転筒体の１／２の回転量で両筒体を回転させるとともに、円筒ワークを反射ミラーの外周囲に公転させて円筒ワークの加工面に周期構造体を間欠的に整列加工する。 （もっと読む）

【課題】照度ムラ及び光量損失を抑えると共に、所望の形状及び偏光状態の光強度分布（再生像）を形成することができる計算機ホログラムを提供する。
【解決手段】入射光の波面に位相分布を与えて所定面に光強度分布を形成する計算機ホログラムであって、第１の方向の直線偏光に対する屈折率と前記第１の方向の直線偏光に直交する第２の方向の直線偏光に対する屈折率とが異なる異方性層と、前記第１の方向の直線偏光に対する屈折率と前記第２の方向の直線偏光に対する屈折率とが等しい等方性層とを有し、前記入射光の前記第１の方向の直線偏光成分の波面及び前記入射光の前記第２の方向の直線偏光成分の波面に互いに異なる位相分布を与えることによって、前記入射光の前記第１の方向の直線偏光成分が前記所定面に形成する第１の光強度分布と前記入射光の前記第２の方向の直線偏光成分が前記所定面に形成する第２の光強度分布とを異ならせていることを特徴とする計算機ホログラムを提供する。 （もっと読む）

【課題】高次回折光の発生を抑制することができ且つ安価で小型の光学的ローパスフィルタ、その製造方法、または、該光学的ローパスフィルタを用いた画像コントラストの良好な光学系を提供すること。
【解決手段】本発明の光学的ローパスフィルタの製造方法は、光重合性組成物１８を成形型１６に塗布及び／または注入するステップと、複数の光通過領域が光不通過領域内に規則的に配列されたフォトマスク２４を成形型と光源２２との間に配置するステップと、平行光をフォトマスクを通して光重合性組成物が不完全な硬化状態となるまで照射する第１の照射ステップと、フォトマスクを取り除くステップと、平行光を光重合性組成物が完全に硬化するまで更に照射する第２の照射ステップと、を含み、フォトマスクの光通過領域の幅に対する光重合性組成物の厚さの比が１０以上である、ことを特徴としている。 （もっと読む）

【課題】小型、かつ製造が容易であり、光学系に対して容易に位置決めすることができる光学的ローパスフィルタ等を提供すること。
【解決手段】本発明の光学的ローパスフィルタ１は、ガラス基板１０と、マトリックス１４と、マトリックスと異なる屈折率を有し厚さ方向に延びるようにマトリックス内で格子状に配列された複数の柱状構造体１６とを有するシート状の屈折率変調型位相格子１２と、を備え、ガラス基板と屈折率変調型位相格子とは、ガラス基板が、屈折率変調型位相格子の複数の柱状構造体の一端面と接するように接合されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】大きな面積に波長と同程度の微細な干渉縞パターンを精度良く容易に形成することが可能な干渉縞パターン形成方法、及び干渉縞パターン形成装置を提供する。
【解決手段】２つの光束を用いた干渉露光方式により基板の表面に干渉縞パターンを露光し、基板に干渉縞パターンを形成する方法において、干渉縞パターンが周期を有する方向に対して垂直な方向の光強度の分布形状が非対称になるように光源からの光束の光軸に垂直な方向の断面形状を規制する工程と、断面形状が規制された光束をその光軸に垂直な方向の光束幅が互いに異なる帯状光束を形成する工程と、帯状光束を２つに分岐させると同時に分岐された２つの光束を重ね合わせて干渉縞パターンを形成する工程と、基板に干渉縞パターンを露光する際に、干渉縞パターンが周期を有する方向に対して垂直の方向に基板と干渉縞パターンとを相対的に移動させながら露光する工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】周縁部分の厚みが外周に沿って変化がなく外観が良好な眼鏡レンズを提供する。
【解決手段】乱視軸Xと、乱視軸Xと直交する交差軸Yとでピッチが異なる回折構造４を眼鏡レンズ１に設けた。この回折構造４を同心上に形成された複数の楕円形から構成した。眼鏡レンズ１の乱視合成面における乱視軸Xの方向と乱視軸Xに直交する交差軸Yの方向との曲率半径の差異を、回折構造４により付与された非点収差分小さくすることができる。そのため、乱視補正のために、眼鏡レンズ１に大きな非点収差を付与する場合でも眼鏡レンズ１の周縁部の厚みの差を減少させることができる。 （もっと読む）

【課題】耐環境性、信頼性及び長期安定性に優れた光学素子を安価に製造できるようにし、フィリングファクタも大きくできるようにする。
【解決手段】光学素子のサブ波長構造で無機材料からなるものを以下の工程（Ａ）から（Ｄ）を含んで製造する。
（Ａ）基板表面に形状転写可能な樹脂層を形成する工程、
（Ｂ）サブ波長構造と同じ構造をもつ金型を前記樹脂層に押し当てて金型のサブ波長構造を反転したサブ波長構造を前記樹脂層に転写する工程を含んで、基板表面に金型のサブ波長構造の凹部に対応する凸部からなる前記樹脂によるサブ波長構造を形成する工程、
（Ｃ）前記表面に粘度が２００ｍＰａ・ｓ以下の無機又は有機・無機複合のゾル−ゲル材料を塗布して前記樹脂によるサブ波長構造の凹部を埋め、その後、塗布されたゾル−ゲル材料を硬化させる工程、
（Ｄ）基板表面から前記樹脂を除去して硬化したゾル−ゲル材料によるサブ波長構造を前記基板表面に残す工程。 （もっと読む）

【課題】基板の表面に許容誤差範囲内で凹凸構造を再現性よく形成できるようにする。
【解決手段】石英基板２の表面上に、形成する凹凸の高低差よりも大きい高低差をもつ凹凸構造のレジストパターン４ａを形成し、レジストパターン４ａをマスクにして石英基板２の表面を、目標とする高低差よりも１０％程度大きいエッチング量をエッチング装置に設定してドライエッチングをする（第１エッチング処理工程）。１回目のドライエッチングにより石英基板２の表面に形成された凹凸の凸部２ａと凹部２ｂの高低差を測定し、目標高低差との差を算出する（計測工程）。石英基板２の表面の凹部２ｂの底面を被い凸部２ａが開口したレジスト層６を形成し、そのレジスト層６をマスクにして、前の計測工程で算出した現時点での凹凸の高低差と目標高低差との差をエッチング量の設定値として凸部２ａの頂面のみをドライエッチングする（第２エッチング処理工程）。 （もっと読む）

【課題】回折されないで透過する０次光成分を極力小さくして、転写した回折格子の回折光にノイズが発生しないようにする。
【解決手段】透明基板の１面に格子状の断面略矩形の凹溝２６と凸条２７の繰り返しパタ−ンが設けられ、その繰り返しパタ−ンによる露光光２３の回折光相互の干渉縞により光導波路２２のような感光性材料中に回折格子を形成する位相マスク２１において、凹溝２６の溝深さｄ、凹溝２６と凸条２７の繰り返し周期Λ、凸条２７のデューティ比ｆが式（１）〜（４）の関係を満足する。 （もっと読む）