【課題】特に機械的摺動部を用いることなく、スペックルコントラストを効果的に低減することができるレーザ光源装置を提供すること。
【解決手段】レーザ光源装置（１００）は、レーザ光を出射するレーザ光源（１１０）と、レーザ光源（１１０）から出射されたレーザ光の偏光状態を制御する液晶変調素子（１２０）と、液晶変調素子（１２０）によって偏光状態が制御されたレーザ光を、Ｐ偏光（２３０）成分とＳ偏光（２４０）とに分岐させ、光路差を持たせて伝播させた後に合成する、偏光ビームスプリッタ（１３０）、第１の直角プリズム（１４０）、および第２の直角プリズム（１５０）とを有する。液晶変調素子（１２０）は、レーザ光源（１１０）から出射されたレーザ光の照射範囲を分割した複数のエリアごとに、レーザ光に対する複屈折性および旋光性のうち少なくとも一方を電気的に制御することで、レーザ光の偏光状態を制御する。 （もっと読む）

【課題】光通信の技術分野において利用される素子として十分な応答速度で、出力光の偏光状態に変動を与えない偏波無依存動作する。
【解決手段】位相シフタ20が組み込まれた遅延干渉計であり、分波器12、第1反射鏡14、第2反射鏡16、及び合波器18を具えて構成される。入力信号光11は、分波器に入力され第1分岐光13-1と第2分岐光13-2とに分岐される。第1分岐光は、第1反射鏡で反射されて合波器に入力される。一方、第2分岐光13-2は位相シフタに入力されて、位相調整のための時間遅延が与えられて第2分岐信号17に変換されて出力される。合波器で第1分岐光と第2分岐信号とが合波され光信号19-1及び19-2が出力される。 （もっと読む）

【課題】メンテナンスの手間が少なく、外部ノイズによる誤動作がなく、かつシステムコストが安価な監視システムに使用できる液晶光スイッチを提供する。
【解決手段】液晶光スイッチ６は、透明電極６０１，６０２が両面に備えられた液晶セル６０と、第１のモジュール６１と第２のモジュール６２とからなる。透明電極６０１，６０２にはスイッチ（光信号開閉器駆動回路等）Ｓを介して、交流源（光電変換器等）ＡＣが接続され、スイッチＳの状態により光ファイバーを伝播する光信号を透過または遮断する。 （もっと読む）

本発明は、光学ディスプレイデバイス、および画像を表示することに用いる方法を提供する。光学ディスプレイデバイスは、光学活性媒体として動作可能なナノ構造の少なくとも1つの領域であって、それによって、前記ナノ構造は、入力電磁放射に応答して出力電磁放射を放出する、ナノ構造の少なくとも1つの領域と、ナノ構造の前記少なくとも1つの領域に対する外部電場を生成するために、選択的にアドレス可能であるように構成され、動作可能である電極の配列であって、ナノ構造の前記領域および電極の前記配列は、前記ディスプレイデバイスの画素配列をともに規定する、電極の配列とを備え、前記外部電場は、前記出力電磁放射の放出を選択的に変調するために、ナノ構造の前記少なくとも1つの領域に影響を与え、前記出力電磁放射は、ディスプレイデバイスの少なくとも1つの画素素子の出力である、光学ディスプレイデバイスを備える。
（もっと読む）

【課題】光通信で要求される環境試験において透過率ピークの波長変動が抑制され、
広い波長帯域の入射光から所望の波長の光を選択的かつ可変に取り出すことができる液晶エタロン型の波長可変フィルタを提供する。
【解決手段】波長可変フィルタにおいて、第１の透明電極および所定の波長の光を反射する第１の反射ミラーが表面に形成された第１の透明基板と、第２の透明電極および所定の波長の光を反射する第２の反射ミラーが表面に形成された第２の透明基板と、前記第１の透明基板と前記第２の透明基板に挟持された液晶層と、前記第１の透明基板と前記第２の透明基板との間に設けられ前記液晶層を包囲するシールと、前記第１の透明基板と前記第２透明基板とを固定する接着剤からなる固定部材とを有し、前記第１および第２の透明電極間に印加される電圧に対応する波長の光を透過させるよう構成する。 （もっと読む）

【課題】波長選択性に優れた光透過特性を有する光透過金属薄膜複合体およびその製造方法の提供。
【解決手段】本発明によれば、基板と、前記基板表面上に形成された第一および第二の金属薄膜を具備する光透過性金属薄膜複合体と、その製造法が提供される。ここで、前記第一の金属薄膜は前記金属薄膜を貫通する複数の開口部を有し、前記開口部の開口径が透過光の最大ピーク波長以下であり、かつ前記第二の金属薄膜は、前記開口部内側に、前記第一の金属薄膜と空間的に離れて形成されている。 （もっと読む）

【課題】画素の階調表示の可能な、磁気光学式の空間光変調器を提供する。
【解決手段】２次元配列された画素４に、平面視における面積が異なる複数の光変調素子５ａ，５ｂ，５ｃ，５ｄと、一対の電極２，３とを備える多素子空間光変調器であって、画素４に供給された電流が増大するにしたがい、面積の小さい光変調素子５ａから面積の大きい光変調素子５ｄへと磁化反転する光変調素子が増えることにより、明暗の表示を切り換えたり明暗の中間表示を行う。 （もっと読む）

【課題】観察光の解像度および光量を保ちつつ対象部位を観察できる光変調装置を提供する。
【解決手段】光変調装置１Ａは、互いに波長が異なるレーザ光Ｌｒ及び照明光Ｌｉを同一の光路上に出射する光源部と、プリズム４３上に形成され、レーザ光Ｌｒを反射させて照明光Ｌｉを透過させる誘電体多層膜鏡４４ａと、誘電体多層膜鏡４４ａからレーザ光Ｌｒを斜め前方より受け、該レーザ光Ｌｒを反射させつつ変調する反射型ＳＬＭ５１と、プリズム４３上に形成され、反射型ＳＬＭ５１から受けたレーザ光Ｌｒを反射させるとともに、誘電体多層膜鏡４４ａから受けた照明光Ｌｉを反射後のレーザ光Ｌｒと同一の光路上へ透過させる誘電体多層膜鏡４４ｂと、誘電体多層膜鏡４４ｂから照明光Ｌｉ及びレーザ光Ｌｒを受けて集光する集光レンズ６１とを備える。 （もっと読む）

【課題】加工対象物の内部に集光されるレーザ光の収差を抑制できるレーザ加工装置を提供する。
【解決手段】レーザ加工装置２００は、レーザ光Ｌを出射するレーザ光源２０２と、レーザ光源２０２で出射されたレーザ光Ｌを変調する反射型空間光変調器２０３と、を備え、レーザ光Ｌの光路においてレーザ光源２０２と反射型空間光変調器２０３との間には、レーザ光Ｌを反射する第１ミラー２０５ａ，２０５ｂが配置されており、第１ミラー２０５ａ，２０５ｂは、レーザ光Ｌの反射方向を調整可能に構成されている。よって、レーザ加工装置２００では、ミラー２０５ａ，２０５ｂのそれぞれにてレーザ光Ｌの反射方向を調整することで、反射型空間光変調器２０３に入射するレーザ光Ｌの位置及び入射角度を所望に調整することができる。従って、反射型空間光変調器２０３にレーザ光Ｌを精度よく入射させることができる。 （もっと読む）

【課題】観察光の解像度および光量を保ちつつ対象部位を観察できる光変調装置およびレーザ加工装置を提供する。
【解決手段】光変調装置１Ａは、第１の方向に延びる第１の光路に沿って入射したレーザ光Ｌｒを変調する反射型ＳＬＭ７と、照明光Ｌｉを透過させる透光性部材５上に形成され、反射型ＳＬＭ７から前面に入射したレーザ光Ｌｒを、第１の方向と交差する第２の方向に延びる第２の光路上へ反射させるとともに、背面に入射した照明光Ｌｉを第２の光路上へ透過させる誘電体多層膜鏡６と、誘電体多層膜鏡６から照明光Ｌｉ及びレーザ光Ｌｒを受け、照明光Ｌｉ及びレーザ光Ｌｒを集光する集光レンズ９とを備える。 （もっと読む）

【課題】Ｗ，Ｒ，Ｇ，Ｂ，Ｃ，Ｍ，Ｙ，ＢＬの全色を表示可能な反射型の表示装置を提供する。
【解決手段】基板間に挟持され電場により屈折率が可変な媒質と、前記媒質に電場を印加して屈折率を変化させる電極と、前記媒質の屈折率の変化に応じてプラズモン共鳴波長が変化する金属ナノ構造とを含むセルを有し、互いにプラズモン共鳴波長域が異なる２種の金属ナノ構造を含むことを特徴とする表示装置。 （もっと読む）

【課題】画像の書き込み時における画像の白とびを防止すると共に、画像の書き込み時以外の画像を視認する場合に、容易に画像を視認する。
【解決手段】光書き込み型画像表示媒体１の光導電体層１０に、光導電体層１０側から書き込み光を照射することにより、表示層７に画像を書き込む書き込み手段としての照射部３２と、表示層７から反射された反射光及び表示層７に入射される入射光の光量を調整するように設けられた光量調整手段としてのプラテンカバー１６と、画像を書き込む際には表示層７に入射される入射光の光量が予め定められた光量Ｑ以下となり、書き込まれた画像を視認する場合には表示層７から反射された反射光により表示層７の画像が視認可能な光量となるように、光量調整手段としてのプラテンカバー１６を制御する制御手段としての制御部３０を備える。 （もっと読む）

【課題】非侵襲で生体内の薬剤濃度分布を正確かつ迅速に測定し、測定結果に基づいて投薬量を制御できる投薬装置を提供する。
【解決手段】本発明の投薬装置１は、薬剤投与装置２と、光を照射する光源３と、標識剤に光が照射された際に標識剤から生体外に放出される光が入射され、所定の波長域の光を透過するとともに、波長域が可変とされた液晶フィルタ４（波長可変フィルタ）と、液晶フィルタ４を通して入射された光の強度を検出して測定対象の複数位置から放出される光の強度分布を取得するエリアセンサ５（光検出手段）と、エリアセンサ５が取得した光強度分布に基づいて標識剤とともに投与された薬剤の濃度を算出し、その算出結果に基づいて投薬量を制御するＤＳＰ６（制御手段）と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】書き込み光が照射された画像を表示する箇所の反射率を高くする。
【解決手段】画像を書き込む際に、書き込み光を照射する時間間隔Ｔ_Ｗで光導電体層１０に照射されるように照射部３２を制御すると共に、表示層７及び光導電体層１０に時間間隔Ｔ_Ｗより長い間隔の第１のパルス電圧が印加され、第１のパルス電圧に続いて、第１のパルス電圧と極性が同一で、かつ電圧値の絶対値が第１のパルス電圧の電圧値より大きい第２のパルス電圧が印加されるように電圧印加部２６を制御する制御手段としての制御部３０を備える。 （もっと読む）

【課題】 可変構造色形成部材が外装材に組み込まれることにより、外装材の色を深みがあってメタリックな光沢のまま可変とされた電気機器を提供する。
【解決手段】本発明の電気機器は、基板と、基板上に積層され構造色を形成する構造色形成層と、該構造色形成層の外表面を封止する透明な保護膜と、を備えた可変構造色形成部材1が表面に組み込まれた筐体を有し、可変構造色形成部材1の構造色若しくは反射特性を電気的に可変制御する構造色形成層駆動手段と、入力手段と、入力手段により入力された情報に基づいて、可変構造色形成部材1の構造色若しくは反射特性の設定情報である表示色設定情報を決定する表示色設定手段と、表示色設定手段により決定された表示色設定情報に基づいて構造色形成層駆動手段に対応する駆動信号を出力する制御手段と、を備えるものである。 （もっと読む）

【課題】応答速度が速く、画素の微小化による精細な光変調を可能とする光変調素子、この光変調素子を用いて構成される光変調器、この光変調器を用いて構成される表示装置、ホログラフィ装置及びホログラム記録装置を提供する。
【解決手段】光変調素子１１は、固定磁化膜層２２と、非磁性中間膜層２３と、自由磁化膜層２４とがこの順序で積層されたスピン注入磁化反転素子構造を有し、固定磁化膜層２２と自由磁化膜層２４における磁気の方向が膜面に垂直な方向であり、自由磁化膜層２４における磁化状態を変化させることによって自由磁化膜層２４へ入射する光の偏光方向に対してその反射光または透過光の偏光方向を変化させる光変調素子１１であって、固定磁化膜層２２は、コバルト膜層と白金膜層とが交互に積層された構造を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高精細かつ高速応答を可能とし、光変調度を向上させた磁気光学式空間光変調器を提供する。
【解決手段】２次元配列された画素４に光変調素子５０を備える空間光変調器１であって、光変調素子５０は、２つのスピン注入光変調素子５，６を、それぞれの磁化反転層５３，６３の側を対向させて非磁性金属からなる接続層５５を挟んで備え、それぞれの磁化固定層５１，６１はその磁化方向が互いに反平行に固定される。上部電極２および下部電極３から供給される電流の向きに応じてスピン注入光変調素子５，６はスピン注入磁化反転するが、それぞれの磁化反転層５３，６３は同じ磁化方向を示すため、光変調素子５０に入射した光は、２層の磁化反転層５３，６３を透過することによりファラデー効果による旋光角（θ_Ｌｒ１，θ_Ｄｒ１）の変化が増大する。 （もっと読む）

【課題】スピン注入磁化反転素子構造を有し、大きな磁気光学効果を示す光変調素子、この光変調素子を用いて構成される光変調器を提供する。
【解決手段】光変調素子１１は、固定磁化膜層２２と、非磁性中間膜層２３と、自由磁化膜層２４とがこの順序で積層されたスピン注入磁化反転素子構造を有し、固定磁化膜層２２と自由磁化膜層２４における磁化の方向が膜面に垂直な方向であり、自由磁化膜層２４における磁化状態を変化させることによって自由磁化膜層２４へ入射する光の偏光軸に対してその透過光または反射光の偏光軸を回転させる。自由磁化膜層２４として、コバルト（Ｃｏ）膜層７５と白金（Ｐｔ）膜層７６とが交互に積層された構造とした。 （もっと読む）

【課題】スペックルノイズを生じにくい光を射出する光変調装置を提供する。
【解決手段】本発明の光変調装置１は、光源から入射した光を変調する光変調装置１であって、光の拡散角を入射前よりも大きくして射出する光拡散手段１３を有している。光拡散手段１３から射出後の光において広角成分の占める割合が、光拡散手段１３に入射前の光よりも高くなる。したがって、光拡散手段１３から射出された光が干渉しにくくなり、スペックルノイズが低減される。光変調装置１を用いてデバイスを構成すると、光変調装置１の外部にスペックルノイズを低減するための光学系が不要となり、デバイスの構成をシンプルにすることが可能になる。 （もっと読む）

液晶層を通り抜ける光の伝播を制御する可変液晶装置は、周波数依存性材料を利用して前記装置内に有効な電極構造を動的に再構築させる。前記装置内で電場を発生させる駆動信号の周波数は可変であり、周波数依存性材料は周波数毎に異なる電荷移動度を有する。周波数依存性材料は、電荷移動度が低いと、現行の電極構造にはほとんど影響を及ぼさないが、電荷移動度が高いと、固定電極を拡張させると考えられる。これを利用すれば、有効な電極構造や、ひいては電場の空間プロファイルを変更することも可能である。更にはこれにより液晶の光学特性が変化して、光学装置の周波数制御が可能となる。
（もっと読む）