【課題】変形可能ポリマーを用いて製造される、再使用可能な印刷版を提供する。
【解決手段】印刷版は、基板（１１）と、各セル（１２）が印刷画像の１つの素子に対応する、基板上のセル・アレイ（１０）と、各セルを少なくとも部分的に形成するように、セル内に配置された変形可能ポリマー材料（１６）と、変形可能ポリマー材料が融解或いは軟化すると必要に応じて収集する、各セルに対応したリザーバと、変形可能ポリマー材料を融解或いは軟化させるヒータと、ポリマー材料を変形させる作動メカニズム（１４）とを備える。 （もっと読む）

【課題】パターンの寸法精度を保ちつつ、中抜けによるパターンの欠損を抑制することができる凸版反転オフセット印刷用印刷版及び該印刷版を用いた液晶表示装置の製造方法並びに液晶表示装置の提供。
【解決手段】基板に転写するパターンに対応する必要パターン部が凹部となり、基板に転写しないパターンに対応する不要パターン部が凸部となる凸版反転オフセット印刷用の印刷版６において、印刷版６の少なくとも一つの必要パターン部の内部に、少なくとも一つの凸型に形成された補助パターン９を備えるものであり、この補助パターン９により、大面積の必要パターン部の底部にブラケット１のインキ５が接触して残留する中抜けと呼ばれるパターンの欠損を抑制することができ、高精細なパターンと大面積パターンとが両方存在する場合であっても、印刷版６を用いてパターンを形成することができる。 （もっと読む）

【課題】有機発光層に電流を流すことにより有機発光層を発光させる有機ＥＬディスプレイパネルにおいて、基板上にあるパターニングされた画素電極上のみに正孔輸送層を形成し、隔壁と画素電極が接する縁部の印刷抜けによる発光ムラの少ない、表示品位のすぐれた有機ＥＬ素子及び有機ＥＬディスプレイを提供する。
【解決手段】基板上のパターニングされた画素電極２の間に絶縁層３を形成し、凸版印刷法により正孔輸送材料を溶媒に溶解または安定に分散させた正孔輸送インキを凸版３０の凸部３２から絶縁層３の間にある画素電極２に印刷する場合、凸版３０の凸部３２を中凸形状にする。これにより、インキが隔壁で囲まれた画素内を横方向に強く押し広げられることで、隔壁と画素電極２が接する縁部においては印刷抜けがなくなり、発光ムラの少ない、表示品位のすぐれた有機ＥＬ素子及び有機ＥＬディスプレイを作製できた。 （もっと読む）

【課題】一定のレリーフ深度を確保し、レリーフ凸部のエッジのシャープ性を維持しながら、レリーフ強度も低下することのない、高精細印刷用の樹脂凸版を提供すること、或いは、この樹脂凸版を用いて、有機ＥＬ素子の発光層の高精細なパターンを均一に安定して形成できる有機ＥＬディスプレイ用素子パネルの製造方法を提供すること。
【解決手段】基材（１）の上に積層された感光性樹脂層（３０）を露光して現像することでレリーフを形成した樹脂凸版であって、前記感光性樹脂層（３０）が光散乱性の異なる２層（３１、３２）から成り、基材に近い側の層（３２）が表層に近い側の層（３１）よりも光散乱性の高い層であることを特徴とする樹脂凸版。 （もっと読む）

【課題】有機電子デバイスの有機パターン層を凸版印刷により高い位置精度で形成可能とする。
【解決手段】本発明の凸版１３は、有機電子デバイスが含む有機パターン層を凸版印刷によって形成するために使用する凸版であって、金属基材１３１と、前記金属基材１３１に支持されると共に前記有機パターン層に対応した凸パターンが表面に設けられた樹脂層１３５とを具備したことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】凸版反転オフセット印刷法における除去版として用いる凸版であって、版深を深くしなくてもパターンが疎である部分のインキ転移抜けが起こらない凸版を提供するためになされたものであり、特に、パターンが疎である部分と密である部分が混在していても高精細かつパターン抜けの起こらない凸版と、その製造方法、及びこれを用いた印刷物の製造方法を提供することを課題とする。反転オフセット印刷による画像形成方法において、低解像度部と高解像度部が混在したパターンを形成することを可能にする除去版を提供することを課題とする。
【解決手段】凸版反転オフセット印刷法に使用する凸版の要部対応領域である凹部に撥インキ処理を施す。あるいは凸部頂部に親インキ性処理を施す。 （もっと読む）

【課題】有機電子デバイスの有機パターン層を凸版印刷により高い精度で形成可能とする。
【解決手段】本発明の方法は、有機電子デバイスが含む有機パターン層を凸版印刷によって形成するために使用する凸版１３を製造する方法であって、導電面を有する型基材の導電面上に有機パターン層に対応した形状を有する正規パターン層を形成し、導電面上であって正規パターン層の開口に対応した位置に正規パターン層と比較してより薄く且つ有機パターン層の開口に対応した形状を有する金属パターン層を鍍金法により形成し、型基材から正規パターン層を除去することにより、型基材と金属パターン層とを含んだ型を得る工程と、型とその金属パターン層側の主面を被覆した樹脂層１３５とを含んだ積層体を形成し、樹脂層から型を取り除くことにより、樹脂層を具備すると共に樹脂層の表面に有機パターン層に対応した形状を有する凸パターンが設けられた凸版を得る工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】有機電子デバイスの有機パターン層を凸版印刷により高い位置精度で形成可能とする。
【解決手段】本発明の凸版１３は、有機電子デバイスが含む有機パターン層を凸版印刷によって形成するために使用する凸版であって、前記有機パターン層に対応した凸パターンが一方の主面に設けられた金属層１３０を具備し、前記金属層１３０は、前記有機パターン層に対応した凹パターンが一主面に設けられた型の前記主面上に鍍金法により形成され、その後、前記型を取り除くことにより得られたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板上に無電解めっきを行って、これからフォトマスクを得、このフォトマスクのめっき金属層と基板との密着性が良好であり、このフォトマスクを使用して、例えばＰＤＰ用の大型スクリーン版を、安価に得ることができるスクリーン印刷用スクリーン版の製造方法を提供する。
【解決手段】ガラス基板の上に無電解めっきを行って金属膜を形成し、その上にフォトレジスト膜を形成し、パターンを露光・現像し、画像形成後にエッチングして、パターンを形成し、このパターンをフォトマスクとして使用してスクリーン印刷用スクリーン版を製造する。 （もっと読む）

【課題】電子回路又は光学部材の印刷に用いる版厚精度が高く、耐溶剤性の高い印刷基材を短時間に製造する方法の提供。
【解決手段】（ａ）円筒状支持体表面に樹脂硬化物層を形成する工程、（ｂ）得られた樹脂硬化物層の表面を調整する工程、(ｃ)形成された樹脂硬化物層表面の少なくとも１箇所に凹パターンを形成する工程を含み、前記工程（ｃ）の凹パターンを形成する方法が、切削、研削、研磨から選択される少なくとも１種類の方法であることを特徴とする印刷基材の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 基板に損傷や汚染を生ずることなく、基板の表面に膜厚の厚いパターンを正確に形成することが可能な印刷版の製造方法および印刷版を提供することを目的とする。
【解決手段】 印刷版は、ベースシート１０４と、ベースシート１０４上に形成され、撥液性を有するシリコン系またはフッ素系の樹脂からなる撥液性層１０２と、撥液性１０２層上ににおいてパターンに対応する形状に形成された親液性層１０１とを備える。親液性層１０１は、撥液性層１０２の表面を親液性に改質した後、その一部をレーザ光源１１０から出射されるレーザビームにより選択的に除去してパターンを形成したものである。 （もっと読む）

【課題】液晶表示パネル用のパネル基板の周囲に周辺シール剤を塗布するためのスクリーン印刷版であって、前記液晶表示パネル内に封止される液晶層表面を傷付けてしまうことのないスクリーン印刷版、およびそれを製造する製造方法を提供すること。
【解決手段】金属板２に周辺シール剤を形成すべき形状の孔８が設けられ、かつ、孔８に、金属板２よりも薄膜のメッシュ４が形成されてなり、その一方の面において、メッシュ４が金属板２と面一になるように配され、当該面がスキージ面を構成することを特徴とするスクリーン印刷版。および、本発明のスクリーン印刷版２０を製造するのに適した製造方法であって、２段階のメッキ処理の工程により１層目のメッキ層で金属板２の１部およびメッシュ４を形成し、２層目のメッキ層で金属板２を積層して完成させるメタルマスクスクリーン版の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】被充填基板に形成されたスルーホール導体の内側の貫通孔に樹脂ペーストを充填する際に、ピンホール等の不具合が発生することなく、その表面を平坦に形成することができる配線基板の製造方法と、それに用いられる印刷用マスクを提供する。
【解決手段】貫通孔１３を複数備える被充填基板２０について、貫通孔１３に樹脂ペーストを印刷充填する際に用いられる印刷用マスクであって、被充填基板２０において０．１ｍｍ以下の間隔で隣り合う貫通孔１３が貫通孔群１４を構成しており、被充填基板２０の主面上に配置された際に該主面で貫通孔群１４を取り囲む表面領域に対応する形状をなす開口部を備えている印刷用マスク。 （もっと読む）

【課題】反転オフセット印刷によるパターン形成おいて、低解像度部と高解像度部が混在したパターンを形成できる除去版を提供する。
【解決手段】反転オフセット印刷に用いられる除去版４４において、パターン形状に応じて深度が異なる複数の凹部領域Ｂ〜Ｇを有し、この凹部領域Ｂ〜Ｇの外接長方形の短辺長をＷ、この凹部領域Ｂ〜Ｇにおける深度をＤとしたときに、０．０３Ｗ≦Ｄ≦０．５Ｗの関係を満たすようにする。なお、凹部領域Ｂ〜Ｇはウェットエッチングにより形成する。さらに、このような除去版４４を用いてパターニングを行うことにより、反転オフセット印刷による低解像度部と高解像度部が混在したパターンを形成できる。 （もっと読む）

【課題】凸版反転オフセット印刷法による印刷物の製造時に、生産性が高く、欠陥の少ない印刷物が製造できる凸版反転オフセット印刷用除去版を提供する。
【解決手段】インキをインキ膜形成基材上に塗布してインキの膜を形成するインキ膜形成工程と、該インキ膜に対し所定形状の凸版１０を接触させて凸版１０の凸部１４に該インキ膜の不要部を転写してインキ膜形成基材から除去する除去工程と、該インキ膜形成基材上に残った該インキ膜の要部を被印刷基板に転写する転写工程とを備える凸版反転オフセット印刷法に使用する凸版１０であって、該凸版１０のインキ膜接触面にインキ剥離性処理がされている凸版反転オフセット印刷用凸版とする。 （もっと読む）

【課題】 凸部の傾斜角度の大きな感光性樹脂凸版を、短時間で形成する製造方法を提供すること。
【解決手段】 本発明の製造方法は、図１（Ａ）に示すように、基材１００上の感光性樹脂層１０１に所定パターンの凸部１０２を形成するフォトリソ工程図と、図１（Ｂ）に示すように、凸部１０２の側面１０４の傾斜角度αを、レーザー彫刻によって修正するレーザー彫刻工程の２つの工程を含んでいる。ここで凸部１０２の側面１０４の傾斜角度αとは、基材１００の上面１００Ａに対して側面１０４が起立する角度である。凸部１０２の側面１０４の傾斜角度αの調整はレーザー出力の調整で行うことができる。 （もっと読む）

【課題】薄膜化・微小化された電極を良好に作製することができるスクリーン印刷用版であって、かつ、簡易な製造工程により得られるスクリーン印刷用版を提供する。
【解決手段】メッシュを圧延加工又はプレス加工することによって縦糸４と横糸５の交点部の印刷面側及びスキージ面側の両面にメッシュの面と平行な印刷面側平坦部７Ａ及びスキージ面側平坦部を形成した後、印刷面側平坦部７Ａ及びスキージ面側平坦部のうち少なくとも印刷面側平坦部７Ａについて、印刷面側平坦部７Ａの幅ｗ₁を減じる加工を行い、ｗ₁が０＜ｗ₁≦０．８ｗ₂（ｗ₂は、前記交点部において印刷面側に位置する線材の線径であって、前記交点部において、前記線材の長手方向と直交し、かつ、前記メッシュの面と平行する方向の最大の線径）を満たすようにする。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬデバイスをはじめとする電子デバイスの製造などの用途に適した凸版印刷用凸版及びその製造方法を提供する。
【解決手段】互いに平行に延在する複数の線状パターンから構成されるストライプパターンを印刷するための凸版印刷用凸版を以下のようにして製造する。先ず、シート状の凸版基材１４を用意し、また、複数の線状パターンの各々に対応した複数の開口１８を有する押出成型用ダイ１２を用意する。凸版基材１４と押出成型用ダイ１２との少なくとも一方を駆動して、押出成型用ダイ１２を凸版基材１４の表面に沿わせて凸版基材１４に対して相対移動させつつ、押出成型用ダイ１２の複数の開口１８から凸版基板１４上へ樹脂を押出すことにより、凸版基材１４上にストライプパターンの樹脂層を押出成型し、もって凸版１０を形成する。 （もっと読む）

【課題】フォトリソグラフィー法により版材から凸部を形成する印刷用凸版の製造において、凸部に微細なゴミが無いことはもちろん、凹部においても微細なゴミが除去された、極めて高精度な印刷用凸版を提供する。
【解決手段】露光された版材に対し超音波を用いた現像により凸部を形成する現像工程、若しくは、該凸部が形成された印刷用凸版に対して超音波を用い洗浄をおこなう洗浄工程を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】多くの工程を必要とせず容易に表面に精度の良い凹凸パターンを有するブランケットを作製し、このパターンを有するブランケットを用い連続して良好な微細パターンを形成するとともにパターンの形成に係るコストの低減および時間の短縮を図ることを目的とする。
【解決手段】塗布ローラーをブランケットローラーに装着した所望のパターンのブランケットに接触し、ブランケットローラーの塗布液を転写する転写工程とを備えるパターン形成方法に用いるブランケットが、ブランケット表面の樹脂またはゴム系材料層のパターンを所望のパターンのネガパターンを有する反転印刷用転写除去版に樹脂またはゴム系材料を塗布して形成することを特徴とするブランケットの製造方法等を提供する。 （もっと読む）