【課題】イオン性不純物トラップ用の電極を設けなくても、イオン性不純物の凝集に起因する表示品位の低下が発生しにくい液晶装置、および電子機器を提供すること。
【解決手段】ＶＡ（Vertical Alignment）モードの液晶装置１００においては、フレーム反転駆動方式が採用されている。また、第１基板１０側の配向膜１６には、画素電極９ａの端部に平面視で重なる部分に、第２基板２０に向けて突出した突部１６ａが設けられており、液晶層５０の流動は突部１６ａによって阻害される。突部１６ａは、例えば、画素電極９ａの端部と配向膜１６との間に設けられた膜１７ａの形状が配向膜１６の表面に反映されてなる。 （もっと読む）

【課題】シリケートガラスによって、シール材と基板との界面からの水分の侵入や、シール材で囲まれた領域内に侵入した水分の影響を低減することのできる電気光学装置、および当該電気光学装置を備えた電子機器を提供すること。
【解決手段】電気光学装置１００では、素子基板１０および基板本体１０ｗ（第１基板）側においてシール材１０７と接するのは、ＢＳＧ膜からなるシリケートガラス層１８（第１シリケートガラス層）であり、対向基板２０および基板本体２０ｗ（第２基板）側においてシール材１０７と接するのは、ＢＳＧ膜からなるシリケートガラス層２８（第２シリケートガラス層）である。シール材１０７で囲まれた領域で、シリケートガラス層１８は、画素電極９ａおよびダミー画素電極９ｂの非形成領域９ｃで液晶層５０に表面を向けており、シリケートガラス層２８は、共通電極２１の非形成領域２１ｃで液晶層５０に表面を向けている。 （もっと読む）

【課題】光学特性に優れた透明複合基板および前記透明複合基板を備えた信頼性の高い表示素子基板を提供すること。
【解決手段】本発明の透明複合基板１は、ガラスクロス（ガラス布帛）２とガラスクロス２に含浸したアッベ数が４５以上である樹脂材料３とを有する複合層４と、複合層４上に設けられたガスバリア層５と、を有し、ガスバリア層５は、ＳｉＯｘＮｙで表され、ｘおよびｙが０．３＜ｘ／（ｘ＋ｙ）≦１の関係を満足するケイ素化合物で構成されている。また、ガスバリア層５を構成するケイ素化合物では、ｘが１≦ｘ≦２の関係を満足し、かつｙが０≦ｙ≦１の関係を満足することが好ましい。 （もっと読む）

【課題】イオン性不純物トラップ用の電極を設けなくても、イオン性不純物の凝集に起因する表示品位の低下が発生しにくい液晶装置、および電子機器を提供すること。
【解決手段】ＶＡ（Vertical Alignment）モードの液晶装置１００においては、フレーム反転駆動方式が採用されている。また、第１基板１０側の配向膜１６には、画素電極９ａの端部に平面視で重なる部分に、配向膜１６の膜厚を他の領域より薄くする凹部１６ａが設けられている。凹部１６ａが設けられている部分では、液晶層５０に印加される電界が他の領域と相違しているため、電界が加わった際の液晶分子５０ｂの姿勢が他の領域と相違している。この液晶層５０での流動が阻害されるので、イオン性不純物が移動しにくい。 （もっと読む）

【課題】垂直配向型の液晶表示装置における表示均一性の向上。
【解決手段】第１基板１１及び第２基板１２と、第１基板に設けられた第１電極１３ａ及び第２電極１３ｂと、第２基板に設けられた第３電極１４ａ及び第４電極１４ｂと、第１基板に設けられた第１垂直配向膜１５と、第２基板に設けられた第２垂直配向膜１６と、第１基板と第２基板の相互間に設けられた液晶層１９を含み、第１及び第２垂直配向膜の少なくとも一方は一軸配向処理されており、第１電極と第３電極は、互いに重畳した領域がドットマトリクス表示部１を構成し、第２電極と第４電極は、互いに重畳した領域がセグメント表示部２を構成し、液晶層は、例えば、誘電率異方性が負の液晶材料と、感光性樹脂モノマーを重合させた高分子体を有しており、ドットマトリクス表示部に対応する領域よりもセグメント表示部に対応する領域の方が高分子体によって付加されるプレティルト角が小さい。 （もっと読む）

【課題】製造性を損なうことなく電圧印加による電気光学物質の劣化を抑制可能とした電気光学装置を提供する。
【解決手段】本発明の電気光学装置は、電気光学物質層を挟持して対向配置された第１基板及び第２基板と、第１基板と第２基板とを貼り合わせるシール材と、複数の画素が配列された画素領域と、画素領域とシール材との間に電極が備えられたイオントラップ部と、第１基板及び第２基板の電気光学物質層側の表面に形成された配向膜と、を有する電気光学装置であって、イオントラップ部は、電気光学物質層に直流電圧を印加する第１トラップ電極と第２トラップ電極とを有しており、第１トラップ電極と配向膜との間、及び第２トラップ電極と配向膜との間の少なくとも一方に、電気光学物質層中のイオン性不純物を吸着保持するトラップ部絶縁膜が設けられていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高い水蒸気バリアー性能を有するとともに、耐水性、耐熱性及び透明性及び平滑性に優れた水蒸気バリアーフィルムとその製造方法及びその水蒸気バリアーフィルムを用いた電子機器を実現する。
【解決手段】基材１上に水蒸気バリアー層２と保護層３が積層された水蒸気バリアーフィルム１０（１１）を製造するにあたり、ポリシラザンを含有した第１の塗布液を基材１上に塗布して乾燥した後に、真空紫外光を照射して水蒸気バリアー層２を形成する工程と、酢酸ブチルの蒸発速度を１００とした時に、蒸発速度が４０以下の第一溶媒と、蒸発速度が１００以上の第二溶媒を含み、且つポリシロキサンを含有した第２の塗布液を水蒸気バリアー層２上に塗布して乾燥した後に、真空紫外光を照射して保護層３を形成する工程とを経るようにして、水蒸気バリアーフィルム１０（１１）を作製するようにした。 （もっと読む）

【課題】有機半導体層の電気的特性を確保することが可能な電子機器を提供する。
【解決手段】電子機器は、光源と、有機半導体層を含む薄膜トランジスタと、光源から生じた光が有機半導体層に至る経路に配置され、その有機半導体層の光吸収波長域のうちの少なくとも一部を含む波長域の光を吸収すると共にそれ以外の波長域の光を透過する光吸収透過層とを備える。 （もっと読む）

【課題】表示品質を向上させることが可能な液晶装置用基板、及び液晶装置の製造方法を提供する。
【解決手段】液晶装置用基板２００は、ウエハ２００ａに面付けされた一対の基板を構成する第１素子基板１０ａ、第２素子基板１０ｂ、第１対向基板２０ａ、及び第２対向基板２０ｂを備え、複数の素子基板１０ａ，１０ｂ及び複数の対向基板２０ａ，２０ｂは、無機配向膜を構成する柱状構造物の積層方向が互いに揃うようにウエハ２００ａに配置されている。 （もっと読む）

【課題】基板に成膜した封止用の膜によって、反射部を構成するための溝の開口部を確実に塞ぐことのできる電気光学装置、該電気光学装置の製造方法、および投射型表示装置を提供すること。
【解決手段】電気光学装置１００において、第２基板２０に溝２６０を形成した後、第２基板２０に封止膜として金属膜２７を形成する。この時点では、金属膜２７において溝２６０の開口部２６５と重なる領域に開口部２７５が形成されているが、金属膜２７を加熱して溶融させると、金属膜２７の開口部２７５が塞がれ、その結果、溝２６０の開口部２６５が金属膜２７によって塞がれ、溝２６０の内部は中空となる。しかる後には、金属膜２７のうち、溝２６０の外部に形成されている部分を除去する一方、溝２６０の内部で開口部２６５を塞ぐ部分を残す。従って、溝２６０の側面２６１、２６２を反射面として利用することができる。 （もっと読む）

【課題】透光性基板に形成した溝の開口部を高い生産性をもって塞ぐことのできる電気光学装置、電気光学装置の製造方法、および投射型表示装置を提供すること。
【解決手段】電気光学装置１００において、第２基板２０には、画素電極９ａの間（画素間領域１０ｆ）に向けて開口する中空の溝２６０が形成されており、かかる溝２６０の開口部２６５は透光性絶縁膜２７によって塞がれている。このため、中空の溝２６０の側面２６１、２６２は、溝２６０内の媒質（真空）と第２基板２０の媒質との屈折率の差に起因する反射面となる。透光性絶縁膜２７は、シランガスを用いてＣＶＤ法により成膜したシリコン酸化膜であり、溝２６０の奥まで透光性絶縁膜２７が形成されることはない。それ故、溝２６０において反射面として機能する側面２６１、２６２の面積が広い。 （もっと読む）

【課題】反射部を構成する溝の構造を改良して、入射した光をより効率よく画素電極に向かわせることのできる電気光学装置、および投射型表示装置を提供すること。
【解決手段】電気光学装置１００において、第２基板２０の基板本体２０ｗ（透光性基板）には、隣り合う画素電極９ａの間（画素間領域１０ｆ）に向けて開口する第１溝２６０が形成されている。また、基板本体２０ｗの一方面２０ｓおよび第１溝２６０の側面２６１、２６２には透光膜２５が形成されており、かかる透光膜２５によって、第１溝２６０と平面視で重なる領域には、第１溝２６０より深くて第１溝２６０より幅が狭い第２溝２６５が形成されている。このため、第２溝２６５の側面２６６、２６７を反射面として利用し、画素間領域１０ｆに向かおうとする光を画素電極９ａに向かわせる。 （もっと読む）

【課題】基板に成膜した封止用の膜によって、反射部を構成するための溝の開口部を確実に塞ぐことができるとともに、溝の側面が封止用の膜で覆われることを最小限に抑えることのできる電気光学装置、該電気光学装置の製造方法、および投射型表示装置を提供すること。
【解決手段】電気光学装置１００において、溝２６０を中空に封止するにあたって、第１封止膜２７を形成する前、溝２６０内に犠牲膜２４を形成しておき、第１封止膜２７を形成した後、第１封止膜２７の貫通部２７５を介して犠牲膜を除去する。そして、第１封止膜２７上に第２封止膜２８を形成し、第１封止膜２７の貫通部２７５を第２封止膜２８で塞ぐ。このため、第１封止膜２７を溝２６０の開口部２６５を塞ぐように形成することができるとともに、第１封止膜２７が溝２６０の奥まで形成されることを防止することができる。 （もっと読む）

【課題】配向膜を形成する際の下地に段差が存在していても、液晶分子を適正に配向させることのできる液晶装置、投射型表示装置、および液晶装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】液晶装置の製造工程において、第１配向膜１６を形成する際、第１基板１０の一方面１０ｓに対する法線方向Ｌから斜めに傾いた方向から配向膜形成材料の蒸着を行い、法線方向Ｌから斜めに傾いた柱状構造物３６からなる柱状構造物層３７を形成する。また、蒸着を３回行うとともに、蒸着時の傾斜方向の方位角方向を３回の蒸着の各々において相違させ、第１柱状構造物層１６１、第２柱状構造物層１６２および第３柱状構造物層１６３を順次形成する。このため、柱状構造物３６の傾斜方向の方位角方向が３層の柱状構造物層３７の各々において相違する。 （もっと読む）

【課題】液晶層中のイオン性不純物の拡散による偏在に起因する表示ムラが低減された液晶装置、および該液晶装置を備えた電子機器を提供すること。
【解決手段】本適用例の液晶装置は、一対の基板間に挟持された液晶層５０と、一対の基板のうち一方の基板としての素子基板１０に設けられた複数の画素電極１５と、一対の基板のうち他方の基板としての対向基板２０に複数の画素電極１５と対向して設けられた対向電極２３とを備え、画素電極１５には凸部１５ｂが設けられ、凸部１５ｂに対応する部分の対向電極２３に凸部２３ｂが設けられている。液晶層５０を駆動することによって生ずる液晶分子ＬＣの流動は、凸部１５ｂおよび凸部２３ｂによって阻害される。したがって、液晶層５０中のイオン性不純物が特定の方向に拡散して偏在することよる表示ムラが低減される。凸部の代わりに凹部を設けてもよい。 （もっと読む）

【課題】電気光学物質中のイオン性不純物を所定の位置に確実に保持しておくことができる電気光学装置、および投射型表示装置を提供すること。
【解決手段】電気光学装置１００において、素子基板１０には、シール材１０７の封止材１０８が設けられている辺１０７ａと、画像表示領域１０ａとの間に凹状のイオン吸着部１０５が形成されている。イオン吸着部１０５において、凹部の内面はシリコン酸化膜からなる配向膜１６からなり、かかる配向膜１６は、クロマトグラフィーの担体としての機能を発揮し、イオン性不純物を吸着する。 （もっと読む）

【課題】無機配向膜の配向規制力を損なうことなく、表面絶縁膜の凹部の底部を絶縁膜で覆うことのできる液晶装置の製造方法、および液晶装置を提供すること。
【解決手段】液晶装置１００を製造するにあたって、無機配向膜形成工程において斜方蒸着により無機配向膜１６、２６を形成した後、表面絶縁膜形成工程では、無機配向膜１６、２６の表面側に、飽和溶液からの析出を利用した液相析出法により、表面絶縁膜１７、２７を形成する。かかる液相析出法によれば、無機配向膜１６、２６の凸部１６ａ、２６ａの表面、および凸部１６ａ、２６ａの間に発生している凹部１６ｂ、２６ｂの底部に略一定の膜厚で表面絶縁膜１７、２７が形成される。このため、表面絶縁膜１７、２７を形成した後も、無機配向膜１６、２６の凹凸形状が残るため、配向規制力を損なうことがない。また、凹部１６ｂ、２６ｂの底部で画素電極９ａや共通電極２１が露出することもない。 （もっと読む）

【課題】画像表示領域内でのイオン性不純物の凝集に起因する表示品位の低下が発生しにくい液晶装置、当該液晶装置を備えた投射型表示装置、および電子機器を提供すること。
【解決手段】液晶装置１００において、第１期間と第２期間とにおいて、素子基板１０側の画素電極９ａと対向基板２０側の共通電極２１との極性を反転させ、かかる反転駆動に対応させて、素子基板１０側の第１電極８１および第２電極８２を駆動する。その際、対向基板２０側の第３電極８３に対する第１電極８１の極性は、共通電極２１に対する画素電極９ａの極性とは反対であり、対向基板２０側の第３電極８３に対する第２電極８２の極性は、共通電極２１に対する画素電極９ａの極性と同一である。 （もっと読む）

【課題】配向膜の塗布均一性が向上し、パッド上の厚い配向膜領域が無くなり、表示領域へのダメージを最小限に抑制したパッド上の配向膜のエッチングが可能となると同時に、駆動基板と透明基板間のセルギャップを均一にする。
【解決手段】駆動基板の表面の層間絶縁膜２６上の平面矩形状の金点パッド２３が従来のレイアウトと比較して４５度回転して形成されている。ダミーパッド２７及び金点パッド２３の上にシリコン酸化膜２８、レジスト膜２９を順次被覆した後、レジスト膜２９をマスクとし、金点パッド２３上のシリコン酸化膜２８を除去すると同時に、層間絶縁膜２６が露出した三角形状領域２４のシリコン酸化膜２８の部分を金点パッド２３をマスクとして自己整合的にエッチングする。これにより、金点パッド２３から層間絶縁膜２６の角にかけて金点パッド２３の表面よりも高くなる箇所をなくす。 （もっと読む）

【課題】無機配向膜が水分や不純物を吸着することを抑制しながら、無機配向膜を選択的に形成することのできる液晶装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】液晶装置１００において、素子基板１０に配向膜１６を形成するにあたっては、犠牲膜形成工程において、素子基板１０における配向膜１６の非形成領域１０ｈに犠牲膜１８ａ、１８ｂを形成した後、無機配向膜形成工程において、犠牲膜１８ａ、１８ｂの表面側に、シリコン酸化膜等からなる配向膜１６を斜め蒸着する。次に、リフトオフ工程では、犠牲膜１８ａ、１８ｂを選択的にエッチングする反応性ガスによって犠牲膜１８ａ、１８ｂを除去する。ここで、犠牲膜１８ａ、１８ｂはシリコン膜であり、反応性ガスは二フッ化キセノンガスである。 （もっと読む）